集成电路器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1519935A

    公开(公告)日:2004-08-11

    申请号:CN200410003216.X

    申请日:2004-02-02

    Inventor: 朴曾焕 曹明宽

    CPC classification number: H01L21/823437 H01L21/823475 H01L21/823481

    Abstract: 本发明提供一种集成电路器件及其制造方法。该集成电路器件包括:集成电路衬底;位于该衬底中的第一、第二和第三隔离绝缘区,其定义出第一和第二有源区;位于第一有源区上的第一栅极电极,该第一栅极电极具有位于第一有源区上的延伸到第一绝缘区上的第一部分和位于第一绝缘区上在该第一部分的端部处的第二部分;第二栅极电极,其位于第二有源区上;以及绝缘层,其位于第一、第二和第三绝缘区上,并定义了暴露第一栅极电极的第二部分的至少一部分的第一栅极接触孔、和位于第二有源区上的暴露第二栅极电极的至少一部分的第二栅极接触孔,该第一栅极电极不具有位于该第一部分上的栅极接触孔。该方法相应地制得该集成电路器件。

    集成电路器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1290191C

    公开(公告)日:2006-12-13

    申请号:CN200410003216.X

    申请日:2004-02-02

    Inventor: 朴曾焕 曹明宽

    CPC classification number: H01L21/823437 H01L21/823475 H01L21/823481

    Abstract: 本发明提供一种集成电路器件及其制造方法。该集成电路器件包括:集成电路衬底;位于该衬底中的第一、第二和第三隔离绝缘区,其定义出第一和第二有源区;位于第一有源区上的第一栅极电极,该第一栅极电极具有位于第一有源区上的延伸到第一绝缘区上的第一部分和位于第一绝缘区上在该第一部分的端部处的第二部分;第二栅极电极,其位于第二有源区上;以及绝缘层,其位于第一、第二和第三绝缘区上,并定义了暴露第一栅极电极的第二部分的至少一部分的第一栅极接触孔、和位于第二有源区上的暴露第二栅极电极的至少一部分的第二栅极接触孔,该第一栅极电极不具有位于该第一部分上的栅极接触孔。该方法相应地制得该集成电路器件。

Patent Agency Ranking