公开(公告)号：CN110176408A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201811300516.2

申请日：2018-11-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金伶厚 ,  朴晟见 ,  卢炫佑 ,  车知勳 ,  崔溶俊

IPC: H01L21/67 ,  B01D35/02 ,  B01D35/16

Abstract: 提供了液体化学回收系统、液体化学供应系统和制造半导体装置的方法。液体化学回收系统包括：缓冲槽，从外部接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至此的真空泵并使用真空泵从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品并向外部提供作为回收的第一液体化学品的第二液体化学品，其中，缓冲槽包括提供第一液体化学品的第一注入部分以及将第一液体化学品提供到真空槽的第一供应部分，并且缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。

公开(公告)号：CN118016555A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202310897859.6

申请日：2023-07-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 卢炫佑 ,  金劲佑 ,  郑暎锡 ,  洪永珍 ,  吴守赞 ,  申盛宇 ,  李南勋 ,  李奉柱

IPC: H01L21/67 ,  B08B1/20 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  B08B1/00 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

Abstract: 提供了一种被配置为对具有缺口的衬底进行处理的衬底处理装置，该衬底处理装置包括：多个滚子，接触衬底的圆周，并被配置为旋转衬底；第一传感器，被配置为感测多个滚子和衬底之间的碰撞；以及信号处理单元，被配置为基于由第一传感器输出的第一感测信号，检测衬底的每单位时间的转数。