公开(公告)号：CN1452218A

公开(公告)日：2003-10-29

申请号：CN03108456.7

申请日：2003-04-11

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吕寅准 ,  尹炳文 ,  金坰显 ,  河商录 ,  南廷林 ,  赵显镐

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/12

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/12 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种晶片清洁装置，包括放置在晶片侧部的能量集中消除部件。探杆的延伸部分基本上平行晶片表面并在其之上延伸。振动器附装到探杆的后端以振动探杆，以便该延伸部分将声振动能量传递到晶片并驱除杂质。

公开(公告)号：CN1267971C

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN03107357.3

申请日：2003-03-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吕寅准 ,  金坰显 ,  南廷林 ,  尹炳文 ,  赵显镐 ,  河商录

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/12

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  B08B3/12 ,  Y10S134/902 ,  Y10S438/906

Abstract: 本发明的各实施例包括超声能量清洗装置，能够旋转要清洁的晶片，并在清洁作用期间旋转清洁探杆。清洁晶片的同时旋转清洁探杆可以有效地增加装置的清洁作用，同时减小了形成晶片图形损伤。在旋转的清洁探杆中腐蚀出弯曲的槽，例如螺旋槽，可以减少潜在地损伤晶片表面或已形成在表面上的结构的有害波。使用具有弯曲槽的清洁探杆同时也旋转清洁探杆可以有效地从晶片上清洁掉粒子，同时也限制了对晶片表面的损伤。

公开(公告)号：CN1453827A

公开(公告)日：2003-11-05

申请号：CN03107357.3

申请日：2003-03-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吕寅准 ,  金坰显 ,  南廷林 ,  尹炳文 ,  赵显镐 ,  河商录

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/12

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  B08B3/12 ,  Y10S134/902 ,  Y10S438/906

Abstract: 本发明的各实施例包括超声能量清洗装置，能够旋转要清洁的晶片，并在清洁作用期间旋转清洁探杆。清洁晶片的同时旋转清洁探杆可以有效地增加装置的清洁作用，同时减小了形成晶片图形损伤。在旋转的清洁探杆中腐蚀出弯曲的槽，例如螺旋槽，可以减少潜在地损伤晶片表面或已形成在表面上的结构的有害波。使用具有弯曲槽的清洁探杆同时也旋转清洁探杆可以有效地从晶片上清洁掉粒子，同时也限制了对晶片表面的损伤。

公开(公告)号：CN1447392A

公开(公告)日：2003-10-08

申请号：CN02143435.2

申请日：2002-09-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹炳文 ,  河商录 ,  金坰显 ,  赵显镐 ,  吕寅准 ,  南廷林

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/12

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/12 ,  Y10S134/902

Abstract: 提供一种用于去掉晶片上的污染物颗粒的强声波清洗设备。强声波清洗设备包括压电变换器和能量传输棒。压电变换器用于产生强声波能量。沿着晶片径向安装在晶片上的能量传输棒用于给晶片上的清洗液分配能量和用于振动清洗液。能量传输棒的形状和尺寸使得通过清洗液在晶片径向均匀分配能量，由此从晶片去掉污染物颗粒。

公开(公告)号：CN100336178C

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN03108456.7

申请日：2003-04-11

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吕寅准 ,  尹炳文 ,  金坰显 ,  河商录 ,  南廷林 ,  赵显镐

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/12

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/12 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种晶片清洁装置，包括放置在晶片侧部的能量集中消除部件。探杆的延伸部分基本上平行晶片表面并在其之上延伸。振动器附装到探杆的后端以振动探杆，以便该延伸部分将声振动能量传递到晶片并驱除杂质。

公开(公告)号：CN1329959C

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN02143435.2

申请日：2002-09-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹炳文 ,  河商录 ,  金坰显 ,  赵显镐 ,  吕寅准 ,  南廷林

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/12

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/12 ,  Y10S134/902

Abstract: 提供一种用于去掉晶片上的污染物颗粒的强声波清洗设备。强声波清洗设备包括压电变换器和能量传输棒。压电变换器用于产生强声波能量。沿着晶片径向安装在晶片上的能量传输棒用于给晶片上的清洗液分配能量和用于振动清洗液。能量传输棒的形状和尺寸使得通过清洗液在晶片径向均匀分配能量，由此从晶片去掉污染物颗粒。

公开(公告)号：CN1175788A

公开(公告)日：1998-03-11

申请号：CN97119281.2

申请日：1997-08-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吕起成 ,  南廷林

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/31 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开了用远紫外辐射在半导体晶片上形成光刻胶图形、以防止光刻胶图形在构图过程中烧毁的更有效的方法,该方法包括以下步骤:用远紫外辐射对光刻胶图形进行充分的曝光,以控制光刻胶的热流动量;在较高温度下烘烤光刻胶图形,以固化光刻胶图形。即使随后在很高的温度下用光刻胶图形作掩模进行刻蚀工艺,但由于在烘烤前用远紫外辐射对光刻胶图形进行了充分曝光,所以可以防止光刻胶图形的烧毁。