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公开(公告)号：CN101674703A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910206369.7
申请日：2004-05-19
Applicant: OTB集团有限公司
Inventor： 马丁·迪南特·比克 , 莱昂纳德斯·彼得鲁斯·玛利亚·克莱森 , 弗朗西斯库斯·柯尔内留斯·丹格斯 , 雷米克·莱昂纳德斯·约翰内斯·罗伯托斯·彭宁斯
IPC: H05H1/34
CPC classification number: H05H1/34 , H05H2001/3452
Abstract: 级联源以及用于控制级联源的方法。一种具有阴极罩、多个级联板以及阳极板的级联源，所述级联板彼此绝缘、依次叠置并一起限定至少一个等离子通道，所述阳极板具有连接至所述等离子通道的流出口，其中每个等离子通道设置一个阴极，该阴极包括一个电极，所述电极相对于所述阴极罩在所述等离子通道的方向上可调节，其中，夹紧装置优选为套爪夹头型。还描述了一种用于控制使用中的所述级联源的方法。
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公开(公告)号：CN101094931A
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200480025359.9
申请日：2004-08-26
Applicant: OTB集团有限公司
Inventor： 保罗·奥古斯特·玛丽·林德劳夫 , 马里纳斯·弗朗西斯库斯·约翰努斯·埃弗斯
IPC: C23C14/04
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/568
Abstract: 一种用于处理基底的系统，该系统设有至少一个处理腔室(1)以利用真空工艺处理至少一个基底(5)，其中所述处理腔室(1)设有能够由关闭体(15)关闭的基底入口(13)，并且该系统设有输送装置(8)，该装置至少被设置为用于移动所述关闭体(15)，并且所述输送装置(8)设置为用于至少在位于处理腔室(1)外侧的位置和位于处理腔室(1)内侧的位置之间输送掩膜(4)，该掩膜用于在所述真空工艺期间至少部分地覆盖所述基底(5)。有利的是，至少基底保持架(2)设有定位装置(50)以便关于彼此地定位基底保持架(2)和掩膜(4)。本发明还提供这种系统的用途。
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公开(公告)号：CN100349272C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN03819404.X
申请日：2003-08-12
Inventor： 马里纳斯·弗朗西斯库斯·约翰努斯·埃弗斯 , 安东尼·万韦勒德
IPC: H01L21/56
CPC classification number: H01L21/565 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种利用化合物至少部分覆盖一个电子元件的方法和设备，该设备装备有第一半模和第二半模，第一半模相对于第二半模可移动，同时提供将电子元件安置在半模上的装置以将元件包夹在两个半模形成的模腔中，第一半模装备有许多许多致动器，借助于致动器相对于第二半模的第一半模的位置可被连续和精确地调整，同时在两个半模相对彼此移动期间和在两个半模被保持为相对彼此移动的位置期间，如果希望可连续调整和调准两个半模之间的距离。
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公开(公告)号：CN1291061C
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN01815515.4
申请日：2001-06-26
Applicant: OTB集团有限公司
Inventor： R·J·C·M·科克 , M·A·T·霍姆普斯 , M·F·J·埃弗斯 , A·哈布拉肯 , F·C·丁斯
IPC: C23C14/56
CPC classification number: C23C14/566 , F16K51/02 , H01F7/04
Abstract: 用于在一基底上进行至少一种工艺作业的设备，该设备设有至少一个工艺室(2)和一个真空栓(1)，用于将该基底从周围安置到一工艺室中而不会损失相应工艺室中的减低的压力，该真空栓包括一个由多个壁(5，6)界定并连接一真空泵(4)的真空室，而在一个壁中设置至少一个供给孔(7)，并为了每个工艺室在一个壁中设置一个属于一相应工艺室的工艺室孔，该至少一个供给孔在外部可以用一个外盖(10)封闭而从该真空室内可以用一个内盖(11)封闭。还公开了这样一种设备与一种用于将基底供给到该真空栓的一个供给孔中和将基底移走的输送装置的组件。
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公开(公告)号：CN1449563A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN01814652.X
申请日：2001-06-25
Applicant: OTB集团有限公司
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/261 , Y10S430/146 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明涉及一种在模子制造工艺中所用基片的生产方法。本发明还涉及一种在模子制造工艺中所用的基片及在生产光盘中所用模子的一种制造方法，该方法包括对已涂覆到基片上的感光材料膜进行曝光、显影和加热。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100559912C
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200480013795.4
申请日：2004-05-19
Applicant: OTB集团有限公司
Inventor： 马丁·迪南特·比克 , 莱昂纳德斯·彼得鲁斯·玛利亚·克莱森 , 弗朗西斯库斯·柯尔内留斯·丹格斯 , 雷米克·莱昂纳德斯·约翰内斯·罗伯托斯·彭宁斯
IPC: H05H1/34
CPC classification number: H05H1/34 , H05H2001/3452
Abstract: 一种具有阴极罩、多个级联板以及阳极板的级联源，所述级联板彼此绝缘、依次叠置并一起限定至少一个等离子通道，所述阳极板具有连接至所述等离子通道的流出口，其特征在于：每个等离子通道设置一个阴极，该阴极包括一个电极，所述电极相对于所述阴极罩在所述等离子通道的方向上可调节，其中所述阴极罩连接至电极罩，该电极罩具有夹紧装置用于可调节地连接所述电极，其中所述夹紧装置为套爪夹头型。还描述了一种用于控制使用中的所述级联源的方法。
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公开(公告)号：CN100489155C
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200380108659.9
申请日：2003-12-12
Applicant: OTB集团有限公司
Inventor： 弗朗西斯库斯·科尔内留斯·丁斯 , 马里纳斯·弗朗西斯库斯·乔哈努斯·埃弗斯 , 迈克尔·阿德里亚努斯·特奥多鲁斯·霍普斯 , 马丁·第纳特·拜克
IPC: C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32 , C23C16/04
CPC classification number: H01J37/32376 , C23C16/04 , C23C16/50 , C23C16/513
Abstract: 一种用于处理至少一个基底的表面的方法，其中该至少一个基底放置在处理室中，该处理室中的压力相对较低，并且由至少一个等离子体射源产生等离子体，在处理期间，至少一个等离子体射源(3)和/或至少一个可选设置的处理流体供给源相对于基底表面是运动的。本发明还提供一种用于处理至少一个基底的表面的设备，其中该设备设置有处理室和至少一个等离子体射源，该至少一个等离子体射源(3)和/或至少一个可选设置的处理流体供给源以可移动方式设置。
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公开(公告)号：CN1738923A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200380108659.9
申请日：2003-12-12
Applicant: OTB集团有限公司
Inventor： 弗朗西斯库斯·科尔内留斯·丁斯 , 马里纳斯·弗朗西斯库斯·乔哈努斯·埃弗斯 , 迈克尔·阿德里亚努斯·特奥多鲁斯·霍普斯 , 马丁·第纳特·拜克
IPC: C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32 , C23C16/04
CPC classification number: H01J37/32376 , C23C16/04 , C23C16/50 , C23C16/513
Abstract: 一种用于处理至少一个基底的表面的方法，其中该至少一个基底放置在处理室中，该处理室中的压力相对较低，并且由至少一个等离子体射源产生等离子体，在处理期间，至少一个等离子体射源(3)和/或至少一个可选设置的处理流体供给源相对于基底表面是运动的。本发明还提供一种用于处理至少一个基底的表面的设备，其中该设备设置有处理室和至少一个等离子体射源，该至少一个等离子体射源(3)和/或至少一个可选设置的处理流体供给源以可移动方式设置。
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公开(公告)号：CN1455827A
公开(公告)日：2003-11-12
申请号：CN01815515.4
申请日：2001-06-26
Applicant: OTB集团有限公司
Inventor： R·J·C·M·科克 , M·A·T·霍姆普斯 , M·F·J·埃弗斯 , A·哈布拉肯 , F·C·丁斯
IPC: C23C14/56
CPC classification number: C23C14/566 , F16K51/02 , H01F7/04
Abstract: 用于在一基底上进行至少一种工艺作业的设备，该设备设有至少一个工艺室(2)和一个真空栓(1)，用于将该基底从周围安置到一工艺室中而不会损失相应工艺室中的减低的压力，该真空栓包括一个由多个壁(5，6)界定并连接一真空泵(4)的真空室，而在一个壁中设置至少一个供给孔(7)，并为了每个工艺室在一个壁中设置一个属于一相应工艺室的工艺室孔，该至少一个供给孔在外部可以用一个外盖(10)封闭而从该真空室内可以用一个内盖(11)封闭。还公开了这样一种设备与一种用于将基底供给到该真空栓的一个供给孔中和将基底移走的输送装置的组件。
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公开(公告)号：CN101107729B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200480044736.3
申请日：2004-12-27
Applicant: OTB集团有限公司 , 剑桥显示技术有限公司
Inventor： 弗朗西斯库斯·科尔内留斯·丁斯 , 伦科·莱昂纳德斯·约翰内斯·罗伯托斯·彭宁斯 , 简·琼曼 , 保罗·杰曼 , 斯蒂芬·科茨
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/5237 , H01L27/1214 , H01L27/3283 , H01L27/3288 , H01L51/5253 , H01L51/56
Abstract: 一种用于制造有机发光器件或者用来形成有机发光器件的坯件的方法以及这种OLED或坯件，该有机发光器件具有发光区域，所述发光区域两个相对第一侧部和两个相对第二侧部，所述方法至少包括以下步骤：提供衬底；在衬底上沉积并部分去除透明导电材料层，以便形成在第一侧部之间延伸的平行阳极线；沉积并部分地去除至少一个导电层，以便形成连接阳极线的触点；其中，沉积有光刻胶层，从而除了每个阴极线的至少一个接触位置之外，所述光刻胶层在与至少一个第二侧部相邻的触点上方完全延伸，通过所述至少一个接触位置建立了待形成的相应阴极线和相应触点之间的电接触。
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