具有加强偏移容差的反应器细丝组件

    公开(公告)号:CN105934534B

    公开(公告)日:2020-03-13

    申请号:CN201580005918.8

    申请日:2015-01-28

    申请人: GTAT公司

    IPC分类号: C23C16/00 C23C16/44

    摘要: 本发明公开了一种用于CVD硅沉积反应器的管状细丝组件,其通过在管状细丝的顶部和/或底部与匹配于桥和/或支撑卡盘的成型部件之间形成的可滑动的连接,提供了竖直管状细丝连贯和低电阻的连接,使得该连接至少对竖直细丝和/或水平连桥的倾斜角度的小变化不敏感。所述成型部件可以并入桥和/或卡盘中或独立的且与桥和/或卡盘匹配。本发明描述了许多不同的实施方式。

    化学气相沉积方法和装置

    公开(公告)号:CN108884563A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201680078741.9

    申请日:2016-11-14

    申请人: GTAT公司

    IPC分类号: C23C16/44 C23C16/24

    摘要: 一种形成一化学气相沉积(CVD)反应器的一细丝组件的方法,包括由一桥连接的至少一细丝结构。该细丝结构包括与一硅种子合成一体的一中空硅细丝。本发明描述了各种实施例,包括具有此细丝组件的一CVD系统以及沉积硅于此细丝组件上的一方法。

    生产大块硅碳化物的方法

    公开(公告)号:CN105518187A

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201480049097.3

    申请日:2014-09-05

    申请人: GTAT公司

    IPC分类号: C30B23/00 C30B29/36

    摘要: 一种生产硅碳化物的方法,该方法包含提供升华炉的步骤,该升华炉包含炉壳、至少一个置于炉壳外的加热元件、以及置于炉壳内通过绝缘物围绕的热区。该热区包含坩埚,该坩埚具有置于其下部区中的硅碳化物先驱物及置于其上部区中的硅碳化物晶种。将该热区加热以令硅碳化物先驱物升华,在硅碳化物晶种的底部表面上形成硅碳化物。本发明亦揭露用以生成硅碳化物的升华炉以及所产生硅碳化物材料。