公开(公告)号：CN1722377A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510084674.5

申请日：2005-07-14

Applicant: 维里蒂器械公司 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 齐藤进 ,  安德鲁·威克斯·库恩

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/66 ,  H01L21/00 ,  G02F1/136 ,  G01N21/00

CPC classification number: G01N21/68 ,  H01J37/32972

Abstract: 本发明的主题为一种等离子处理装置和光检测方法，该方法能够检测从多个测量位置得到的多个光学信号，并能够使用装置分析每个测量位置的状态，其中该装置具有更简化的结构的优势。干涉光L1通过光纤222并传输至分光镜部件230。等离子光L2通过光纤224并传输至分光镜部件230。分别对这些光束单独进行分光。通过对干涉光L1分光得到的干涉光光谱L1g通过第一光路226，并照射在光电转换部件240的干涉光感光区域上。通过对等离子光L2分光得到的等离子光光谱L2g通过第二光路228，并照射在光电转换部件240的等离子光感光区域上。

公开(公告)号：CN1774639A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN200480010356.8

申请日：2004-03-09

Applicant: 维里蒂器械公司

Inventor： 安德鲁·威克斯·屈恩

IPC: G01R31/26

CPC classification number: G01B11/0683 ,  G01B11/0625 ,  G01N21/8422 ,  G06K7/0095 ,  H01L22/12

Abstract: 本发明针对用于计算表面或结构，例如半导体晶圆上的度量衡数据(层厚以及凹陷和沟槽的深度)的系统、方法和软件程序产品。本方法不需要表面或者结构的反射率或者透射率的知识，而是只需要知道与反射率或透射率线性变换相关的量。初始地，使用计算晶圆上分离区域的表面反射率所需的许多参数来构造工艺的简化的光学模型。利用例如现场监视从晶圆的表面搜集反射率数据，并且从当前光谱与参考光谱的比率来确定归一化反射率。参考光谱取自完全由一种材料构成的参考晶圆，其中很好地特性化了反射特性。对观察的和计算的数据都进行变换，使得它们的垂直范围和光谱平均的值相一致。通过对观察的数据和计算的模型都进行变化使得它们的垂直范围和光谱平均的值相一致，则可以忍受数据和模型两者中的大的误差。采用了优值函数，其利用特定选择的参数来测量观察的数据和模型之间的一致性。可以利用标准数值技术对该优值函数进行最小化，以便于在参数的正确值处找到优值函数中的深的最小值。

公开(公告)号：CN1774639B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200480010356.8

申请日：2004-03-09

Applicant: 维里蒂器械公司

Inventor： 安德鲁·威克斯·屈恩

IPC: G01R31/26

CPC classification number: G01B11/0683 ,  G01B11/0625 ,  G01N21/8422 ,  G06K7/0095 ,  H01L22/12

Abstract: 本发明针对用于计算表面或结构，例如半导体晶圆上的度量衡数据(层厚以及凹陷和沟槽的深度)的系统、方法和软件程序产品。本方法不需要表面或者结构的反射率或者透射率的知识，而是只需要知道与反射率或透射率线性变换相关的量。初始地，使用计算晶圆上分离区域的表面反射率所需的许多参数来构造工艺的简化的光学模型。利用例如现场监视从晶圆的表面搜集反射率数据，并且从当前光谱与参考光谱的比率来确定归一化反射率。参考光谱取自完全由一种材料构成的参考晶圆，其中很好地特性化了反射特性。对观察的和计算的数据都进行变换，使得它们的垂直范围和光谱平均的值相一致。通过对观察的数据和计算的模型都进行变化使得它们的垂直范围和光谱平均的值相一致，则可以忍受数据和模型两者中的大的误差。采用了优值函数，其利用特定选择的参数来测量观察的数据和模型之间的一致性。可以利用标准数值技术对该优值函数进行最小化，以便于在参数的正确值处找到优值函数中的深的最小值。

公开(公告)号：CN100411114C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200510084674.5

申请日：2005-07-14

Applicant: 维里蒂器械公司 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 齐藤进 ,  安德鲁·威克斯·库恩

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/66 ,  H01L21/00 ,  G02F1/136 ,  G01N21/00

CPC classification number: G01N21/68 ,  H01J37/32972

Abstract: 本发明的主题为一种等离子处理装置和光检测方法，该方法能够检测从多个测量位置得到的多个光学信号，并能够使用装置分析每个测量位置的状态，其中该装置具有更简化的结构的优势。干涉光L1通过光纤222并传输至分光镜部件230。等离子光L2通过光纤224并传输至分光镜部件230。分别对这些光束单独进行分光。通过对干涉光L1分光得到的干涉光光谱L1g通过第一光路226，并照射在光电转换部件240的干涉光感光区域上。通过对等离子光L2分光得到的等离子光光谱L2g通过第二光路228，并照射在光电转换部件240的等离子光感光区域上。