公开(公告)号：CN111902274B

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN201980021270.1

申请日：2019-03-28

Applicant: 信越化学工业株式会社(JP)

Inventor： 服部初彦

IPC: B32B27/00 ,  B32B27/34 ,  C08F299/02 ,  C08G77/455

Abstract: 具有硅橡胶并且在其表面的至少一部分具有例如包含(A)、(Bc)、(C)成分的有机硅改性聚酰亚胺树脂组合物的固化物层的层叠体具有伸缩性，可采用导电性糊剂形成配线，因此适合作为电子器件的基材。(A)式(1)的有机硅改性聚酰亚胺树脂Ee‑Ff‑Gg(1){E为式(2)，F为式(3)，G为来自二胺的2价的基团，f+e+g＝100摩尔％，f/(e+g)的摩尔比为0.9～1.1，将e与g之和设为100时，e为1～90(RA为2价烃基，R1、R2为烷基，R3、R4为1价的脂肪族烃基，R5、R6为芳基等，m为0～20、n为1～20、o为0～20、m+n+o＝1～30的整数)‑Im‑X‑Im‑(3)(Im为含有环状酰亚胺结构的环状基团，X选自单键、O等。)}(Bc)热分解性自由基引发剂(C)溶剂

公开(公告)号：CN115605554A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202180035593.3

申请日：2021-03-12

Applicant: 信越化学工业株式会社(JP)

Inventor： 高桥光人

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  B24B37/04 ,  C01F17/241

Abstract: 本发明为一种合成石英玻璃基板用的抛光剂，其是至少含有抛光颗粒及水的合成石英玻璃基板用的抛光剂，所述抛光颗粒含有铈与钇的复合氧化物颗粒及铈与钇的复合无定形颗粒，所述铈与钇的复合氧化物颗粒的平均一次粒径为30nm以上且80nm以下，并且所述铈与钇的复合无定形颗粒的平均一次粒径为100nm以上且300nm以下。由此，可提供一种具有高抛光速度、同时能够充分减少因抛光导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用的抛光剂。

公开(公告)号：CN108388082B

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN201810104013.1

申请日：2018-02-02

Applicant: 信越化学工业株式会社(JP)

Inventor： 丸山仁 ,  近藤和纪 ,  柳泽秀好

IPC: G03F7/075

Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜、感光性树脂涂层和图案形成方法。将包括(A)有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和(B)在曝光至波长190至500nm的辐射时分解产生酸的光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基材上，以形成厚涂层，将该涂层曝光至辐射，烘焙，并显影以形成图案。所述树脂涂层能够形成精细图案并且具有改进的耐开裂性和其它膜性质，和可靠性。

公开(公告)号：CN115605429A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202180035580.6

申请日：2021-04-19

Applicant: 信越化学工业株式会社(JP)

Inventor： 鸢岛一也 ,  青木伸司 ,  野岛义弘

IPC: C01B25/08 ,  C09K11/08 ,  C09K11/56 ,  C09K11/62 ,  C09K11/64 ,  C09K11/70 ,  C09K11/74 ,  C09K11/75 ,  C09K11/88 ,  B82Y20/00 ,  B82Y40/00 ,  H01L33/48 ,  G02B5/20

Abstract: 本发明为一种包覆半导体纳米颗粒的制造方法，其包括将金属氧化物包覆在半导体纳米颗粒的表面的工序，其特征在于，通过对金属氧化物前驱体进行微波照射处理，将所述金属氧化物包覆在所述半导体纳米颗粒的表面。由此，提供一种高效制造荧光发光效率的劣化得以抑制的包覆半导体纳米颗粒的方法。

公开(公告)号：CN115595583A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210800371.2

申请日：2022-07-08

Applicant: 信越化学工业株式会社(JP)

Inventor： 渡边光 ,  赤田和仁 ,  栗原雄太 ,  林良幸

IPC: C23F1/40 ,  C23F1/44

Abstract: 提供稀土类磁体的再利用方法，其可不降低稀土类磁体的特性而剥离在稀土类磁体表面施加的Ni镀层，从而再利用稀土类磁体，由此可提高稀土类磁体的产品成品率。本发明的稀土类磁体的再利用方法的特征在于，将表面具有含Ni覆膜的稀土类磁体浸渍在含有硝基苯的衍生物、乙二胺和氨的剥离液中。