公开(公告)号：CN106099629A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610629924.7

申请日：2016-08-04

Applicant: 同济大学

Inventor： 焦宏飞 ,  何宇 ,  鲍刚华 ,  马彬 ,  张锦龙 ,  程鑫彬 ,  王占山

IPC: H01S3/06

CPC classification number: H01S3/0625

Abstract: 本发明涉及一种超宽角度范围抑制板条激光器自发放大辐射的方法，具体为：在激光增益介质和金属热沉之间使用一个金属/介质宽带吸收膜来抑制自发放大辐射。金属/介质宽带吸收膜包括两部分，靠近激光增益介质部分是一层微米级厚度SiO2倏逝波薄膜，以保证信号激光全反射传输，在SiO2倏逝波薄膜之上镀制一种宽角度减反射高吸收金属/介质薄膜，使其能够在0°~全反射角°的超宽角度范围内，吸收穿透SiO2倏逝波薄膜的杂散激光，来抑制自发放大辐射。本发明可以根据实际的需求设计波长，在激光器领域有广阔的应用前景，可以从原理上解决限制激光器功率增大的因素，具有较高的可制备性，便于推广，为高功率固体激光器中ASE抑制问题提供一个全新的解决方案。

公开(公告)号：CN105127142A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201510585073.6

申请日：2015-09-16

Applicant: 同济大学

Inventor： 丁涛 ,  沈正祥 ,  马彬 ,  程鑫彬 ,  焦宏飞 ,  张锦龙 ,  王占山

IPC: B08B3/12 ,  B08B11/00

Abstract: 本发明涉及一种高损伤阈值激光薄膜用超光滑表面熔石英光学基板超声波清洗方法，属于光学技术领域。所述清洗方法包括以下步骤：在正式超声清洗前，运用旋涂1μm~3μm人工氧化硅小球的基板实验获得低频段80KHz超声频率对微米尺度颗粒有效去除的最低超声功率、最佳超声时间；利用旋涂0.3μm～1μm人工氧化硅小球的基板实验获得中频段400KHz超声频率时氨水、双氧水和纯水的最佳比例，结合原子力显微镜获得最佳超声时间；综合上述两个方面获得最优超声清洗参数后，实施对超光滑熔石英光学基板进行超声波精细清洗。本发明的优点在于通过所述方法实现对熔石英光学基板高效、定量的超声清洗，在实现基板高洁净度清洗的同时避免了超声波过度清洗对基板元件造成的超光滑表面损伤和材料疲劳。

公开(公告)号：CN103882378B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201410050236.6

申请日：2014-02-13

Applicant: 同济大学

Inventor： 张锦龙 ,  丁涛 ,  程鑫彬 ,  谢雨江 ,  王占山

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/30 ,  G02B1/11

Abstract: 本发明公开了一种非线性晶体三硼酸氧钙钇晶体表面高激光损伤阈值增透膜的制备方法。针对YCOB晶体各向异性强及增透膜的损伤机理，该方法的步骤包括YCOB基板的氢氟酸刻蚀、YCOB基板的冷加工、YCOB基板的离子束刻蚀、YCOB基板的超声波清洗、YCOB基板的真空离子束清洗以及YCOB基板上薄膜镀制。由本发明制备的YCOB增透膜光学特性优异、损伤阈值高、环境稳定性好，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、易于推广等优点，在未来的高功率激光薄膜领域具有广泛应用前景。

公开(公告)号：CN103592714B

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN201310484791.5

申请日：2013-10-17

Applicant: 同济大学

Inventor： 焦宏飞 ,  贺芝宇 ,  赵阳 ,  程鑫彬 ,  张锦龙 ,  马彬 ,  丁涛 ,  王占山

IPC: G02B5/26 ,  G02B27/00

Abstract: 本发明涉及一种易于制备的反射式多通道滤光元件的设计方法。所设计的这种反射式多通道滤光片的基本结构为：从基板侧开始是超宽波段高反射的金属、周期性的高低折射率交替膜堆、极薄的金属膜到入射媒介。该方法利用周期性高低折射率介质材料的一倍频和三倍频之间的透射振荡波纹，结合超宽波段的高反射金属和可以令原透射处指定波长达到高反的金属铬，设计一种多通道的反射滤光元件，并且其通道位置和个数可以通过给定的中心波长和介质折射率确定。不同于传统的对制备要求很高的基于Fabry-Perot结构的窄带多峰的中间层膜系，本发明的中间结构是传统的规整膜系结构，易于制备，且可以根据实际需要调整多通道的个数和位置，制作工艺方便，制作成本低，易于集成，在实际光学薄膜设计中有着重要意义。

公开(公告)号：CN102744234A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201110099168.9

申请日：2011-04-20

Applicant: 同济大学

Inventor： 叶晓雯 ,  丁涛 ,  沈正祥 ,  程鑫彬 ,  马彬 ,  焦宏飞 ,  张锦龙 ,  王占山

IPC: B08B11/04 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明涉及一种改善K9玻璃基底表面质量的清洗方法，先通过酸性溶液去除K9玻璃表面的金属污染，然后通过碱性溶液去除颗粒和有机物污染，清洗过程结合去离子水漂洗，以降低离子在表面的浓度和除去清洗溶剂分子或离子。与现有技术相比，本发明在达到较高清洗效率、有效去除污染物的同时，对K9玻璃基底的表面刻蚀作用减轻到一个极低的程度，表面粗糙度大大减小，有利于提高薄膜的反射率。