-
公开(公告)号：CN116625965A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310615053.3
申请日：2023-05-29
Abstract: 利用二次扰动激光的飞秒泵浦–探测微区测量系统及方法，包括飞秒激光器、分束镜、声光调制器、全反镜、超连续谱产生套件、连续激光器、电控位移台、二向色镜、反射式物镜、凸透镜、单色仪、光电倍增管、锁相放大器、滤光片、光纤光谱仪和计算机等部件。在探测部分利用反射式物镜替换凸透镜汇聚激发光和收集信号光，提高飞秒泵浦–探测技术空间分辨精度。本发明是利用二次扰动激光的飞秒泵浦–探测系统，用于分析连续激光对样品激发态弛豫过程的影响，提供对复杂超快光物理行为的进一步理解，进而优化材料设计方案。
-
公开(公告)号：CN113985707B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202111241114.1
申请日：2021-10-25
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种可控脉冲展宽与延时的超分辨激光直写装置及方法，该装置包括飞秒激光光源、二分之一波片、偏振分光棱镜、脉冲展宽器、能量调制器、相位板、直角棱镜、反射镜等部件。本发明将飞秒光源出射的飞秒光束分成两束光，对其中一束进行脉冲展宽与光强分布的调制，然后将两束光合束后入射到刻写系统，实现同波长的基于边缘光抑制的激光刻写。利用本发明的装置可以得到一束强度分布为高斯的飞秒光束和一束可调脉冲宽度、可调光强分布的光束，并且可以通过调控光程来精细调控分束后的两个光束达到刻写样品上的时间，精度可达皮秒量级，可用于高精度激光直写光刻系统。
-
公开(公告)号：CN116430687A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310698595.1
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
-
公开(公告)号：CN115980999A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310243262.X
申请日：2023-03-14
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种基于光学系统的光束自动校准装置及方法，通过运用前置运算放大器、高精度模数转换芯片ADC电路采集探测器的信号，经过模数转换后在逻辑芯片进行算法实现；其后逻辑芯片再输出一组新的信号，经过后置运算放大器、高精度数模转换芯片DAC、变压器等处理，再输送至后端设备，可实现光束校准。本发明使用当前性能较高的集成电路，对光束校准测量的精度把控更精准，响应速度较快，整个装置低成本、低功耗，算法植入后全自动运作，并且可通过上位机的软件实时关注装置的工作状态。本发明采用独立芯片来采集信号、处理模数、数模转换，或者是算法运行，无论从精度上、或者是运行效率上，都高于传统设计。
-
公开(公告)号：CN115248538A
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202211157008.X
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种DMD无掩膜光刻机的投影物镜镜头，从入射方向开始依次设置：具有正光焦度第一透镜组；光阑；具有负光焦度第二透镜组；具有正光焦度第三透镜组；其中：第一透镜组接收从DMD出射的光线，包含3个光焦度依次为负、正、负的透镜；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将其出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为正、负、正、负的透镜；第三透镜组收集从第二透镜组出射的光线，并将其聚焦于基底，第三透镜组包含4个光焦度依次为正、正、正、负的透镜；所述透镜均处于同一光轴。本发明能校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115046744A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210975776.X
申请日：2022-08-15
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于SLM生成光斑点阵的焦面检测及调倾方法与装置，所述方法在SLM上加载n×n圆形点阵，入射光束依次经过三角棱镜第一反射面、SLM、三角棱镜第二反射面、二分之一波片、偏振分束镜、四分之一波片、透镜、物镜，入射到样品表面；经样品表面反射后，反射光依次经过物镜、透镜、四分之一波片和偏振分束镜后，分束为第一光束和第二光束；其中，第一光束入射到第一CCD相机进行成像，第二光束入射到第二CCD相机进行成像，记录两个CCD相机上的光斑点阵的直径；基于两光斑点阵的直径的差值计算离焦量，进而获得焦点位置；并计算样品的倾斜度，从而对焦面进行调倾。本发明解决焦面倾斜问题，装置简单，成本低。
-
公开(公告)号：CN112034628B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202010863941.3
申请日：2020-08-25
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置，该装置首先生成用于产生高通量暗斑的激光，然后入射到加载衍射相位的空间调制器上，将光束分束为多路激光阵列，再将其入射到微透镜阵列上并聚焦，同时将光束阵列在微透镜阵列的傅里叶面上进行滤波，之后将光束阵列入射到高通量暗斑生成器件上进行相位调制，最后将光束阵列聚焦产生高通量的暗斑。本发明设计紧凑，集成度高；可以在生成大通量超衍射极限焦斑的同时实现对暗斑的高速特异性调控；可用于实现并行受激发射损耗显微成像和高通量双光束激光直写光刻，可实现并行系统的亚50nm分辨率，提升系统速度，保证激光直写加工速度和成像分辨率的同步稳定提升。
-
公开(公告)号：CN111142254B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202010090733.4
申请日：2020-02-13
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种分离式调控角度漂移与位置漂移的激光束指向稳定装置，该装置将入射激光光束通过两个分光棱镜与一个偏振分光棱镜分光，得到一束工作光束与三束监控光束，三束监控光束由相应的光电器件接受并分别用于监控角度偏移与二维位置偏移，根据得到的监控信息完成对激光光束角度与位移参量的实时校正。本发明对角度偏移与位置偏移的测量与控制进行了有效分离，分别对入射光束的水平位移与垂直位移进行实时调整，调整精度高，调整过程快速，且不会出现耦合干扰；实现激光束的位置漂移精度优于100nm，角度漂移调整精度优于0.1urad；利用本发明装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
-
公开(公告)号：CN114077168A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202210009224.3
申请日：2022-01-06
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及光学技术领域，具体公开了一种基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像方法和装置，包括激光器、准直扩束系统、空间光调制器、4f缩束系统、二向色镜、显微物镜、微球、直写基底、三维可控精密位移台、照明光源、照明模块及相机等，所述的激光器出射光经过扩束准直后入射到加载有相位全息图的空间光调制器上面，调制后的光斑经过4f缩束系统入射到显微物镜，在显微物镜焦面形成聚焦光斑阵列同时捕获多个微球，利用微球强聚焦特性配合相位全息图变化，在直写基底上面进行任意图案的高通量超分辨激光直写；同时，微球结合显微物镜可对超分辨激光直写结构进行实时成像，图像由相机采集，实现基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像。
-
公开(公告)号：CN114019763A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111120476.5
申请日：2021-09-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置，装置主要包含四个相同光路，每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA，用于产生千束独立可控刻写点阵，光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列，一个子阵列对应一个子光斑，从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后，产生M×N千束焦点阵列，并最终成像到物镜焦平面上，通过四个千束点阵的拼接，最终实现万束刻写点阵的产生，能够快速加工高质量复杂三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
96
records
(took 0.091 seconds)
