公开(公告)号：CN102109763B

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：CN201010597687.3

申请日：2010-12-20

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李廷宇 ,  俞龙植 ,  赵显龙 ,  郑知英 ,  郑斗瑛 ,  李种和 ,  郑闵鞠 ,  车明焕 ,  田桓承

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0755

Abstract: 本申请披露的内容涉及一种正性光敏树脂组合物，包括(A)选自聚苯并噁唑前体、聚酰胺酸、或它们的组合的树脂前体；(B)沸点从约210℃到约400℃范围且极性从约1D到约4D范围的溶解控制剂；(C)产酸剂；(D)硅烷基化合物；以及(E)溶剂。聚苯并噁唑前体包括由化学式1表示的重复单元，或由化学式1和2表示的两种重复单元，并且在至少一端具有热可聚合官能团。聚酰胺酸包括化学式50和51的重复单元。在化学式1和化学式2中，每个取代基与说明书中定义的相同。在化学式50和51中，每个取代基与说明书中定义的相同。

公开(公告)号：CN102566281A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110304927.0

申请日：2011-10-10

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 宋知胤 ,  金旼秀 ,  田桓承 ,  吴丞培 ,  崔有廷

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  G03F7/11

CPC classification number: H01L21/31144 ,  G03F7/094 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0271

Abstract: 本发明提供了一种硬掩模组合物，其包含由以下化学式1表示的含芳环化合物和溶剂，在化学式1中，A、R1至R6、X1至X6、n1至n6均与说明书中具体定义的相同。本发明还提供了一种通过使用该硬掩模组合物来形成图案的方法和包括通过该图案形成方法形成的多个图案的半导体集成电路器件。本发明的硬掩模组合物能够在确保对多重蚀刻的抗性的同时，具有高蚀刻选择性和改善的光学性能。

公开(公告)号：CN102566274A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110349054.5

申请日：2011-11-07

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 车明焕 ,  李种和 ,  任美罗 ,  郑闵鞠 ,  郑知英 ,  赵显龙 ,  田桓承

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  H01L23/29

CPC classification number: H01L23/296 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明公开了一种正型光敏树脂组合物，包括：(A)碱溶性树脂；(B)包括由化学式6表示的化合物的溶解控制剂；(C)光敏重氮醌化合物；(D)硅烷化合物；和(E)溶剂，以及使用该正型光敏树脂组合物制备的光敏树脂膜和该光敏树脂膜的半导体器件。本发明的正型光敏树脂组合物具有优异的膜残留率、敏感度和分辨率。[化学式6]

公开(公告)号：CN102540729A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201110315277.X

申请日：2011-10-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金旼秀 ,  田桓承 ,  宋知胤 ,  金永珉 ,  李哲虎 ,  李忠宪

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/094

Abstract: 本发明提供了硬掩模组合物和形成图案的方法、以及包括图案的半导体集成电路器件。所述硬掩模组合物包括含芳环化合物和溶剂，所述含芳环化合物包括由以下化学式1表示的部分和由以下化学式2表示的部分中的至少一种。在化学式1或2中，Ar、R1至R3以及n如在详细描述中所定义。此外，提供了通过使用硬掩模组合物用于形成图案的方法、以及包括通过图案形成方法形成的多个图案的半导体集成电路器件。根据本发明的硬掩模组合物具有优异的间隙填充性能和平面化特性以及改善的耐蚀刻性和光学性能。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN102464984A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201110103369.1

申请日：2011-04-18

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 郭泰亨 ,  李范珍 ,  董远锡 ,  朴曜徹 ,  徐孝主 ,  田桓承 ,  崔原皓

IPC: C09K19/56 ,  G02F1/1337

CPC classification number: C09K19/56

Abstract: 本发明公开了一种液晶取向剂、用所述液晶取向剂制造的液晶取向膜和液晶显示器装置。所述液晶取向剂包括选自聚酰胺酸、聚酰亚胺及它们的组合中的聚合物，所述聚酰胺酸包括化学通式1表示的重复单元，所述聚酰亚胺包括化学通式2表示的重复单元。

公开(公告)号：CN102227458A

公开(公告)日：2011-10-26

申请号：CN200980148064.3

申请日：2009-12-01

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 尹敬皓 ,  李镇国 ,  田桓承 ,  金旼秀 ,  宋知胤

IPC: C08G61/02 ,  C08G61/00 ,  C08L65/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08L65/00 ,  C08G61/02 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1067 ,  C08G2261/3424 ,  C08L79/08 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

Abstract: 本发明提供一种用于平版印刷方法的具有良好抗反射性的下层组合物。该组合物具有优异的光学特性、机械特性，及蚀刻选择性，且可使用旋涂方法涂敷。有利地，该组合物可应用于短波长平版印刷方法并显示最少的剩余酸。

公开(公告)号：CN102053498A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201010190605.3

申请日：2010-05-27

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 郑知英 ,  郑闵鞠 ,  赵显龙 ,  郑斗瑛 ,  李种和 ,  俞龙植 ,  李廷宇 ,  田桓承

IPC: G03F7/075 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0233 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明披露了一种正型感光性树脂组合物，其包括(A)聚苯并噁唑前体，该聚苯并噁唑前体包括化学式1表示的重复单元、化学式2表示的重复单元、或其结合，和在聚苯并噁唑前体至少一个末端的可热聚合官能团；(B)感光性重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)包含交联官能团的酚类化合物；以及(E)溶剂。

公开(公告)号：CN101470352A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810187921.8

申请日：2008-12-23

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 田桓承 ,  金钟涉 ,  尹敬皓 ,  金旼秀 ,  李镇国 ,  宋知胤

IPC: G03F7/09

CPC classification number: G03F7/091

Abstract: 本发明提供了一种具有抗反射性能的硬掩模组合物。该硬掩模组合物适合用于平版印刷术，提供了优异的光学和机械性能，并表现出高的蚀刻选择性。另外，通过旋涂技术能够容易地施加该硬掩模组合物。使用硬掩模组合物形成的硬掩模层可与集成电路制造工艺相容。有利地，该硬掩模组合物用于短波长平版印刷术。具有抗反射性能的硬掩模组合物及采用该组合物图案化材料的方法。