一种抬升工具
    71.
    实用新型

    公开(公告)号:CN210099925U

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201920648316.X

    申请日:2019-05-08

    Abstract: 本实用新型公开了一种抬升工具,包括套筒组件、驱动组件和夹持件,所述套筒组件包括套筒、升降杆和支撑件;所述套筒的壁上设有缺口;所述升降杆设于所述套筒内,其外表面上设有若干个凸起;所述支撑件与所述套筒的外表面相连,用于支撑柱形靶;所述驱动组件设于所述套筒的外侧,包括轴和齿轮;所述轴与套筒转动相连,所述齿轮固定套设在所述轴上,且位于套筒上的缺口处,与升降杆外壁上的凸起相啮合;所述夹持件与所述套筒的外壁相连。本实用新型能够克服重力的影响,采用抬举后再拧螺纹的方法,实现了单人就可以方便地完成柱形靶的安装和拆卸,相比于传统的双人安装方式,不但节省了人力,同时还提高了安装的可靠性及拆卸的方便性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种应用于柱形旋转靶的挡板组件

    公开(公告)号:CN207512254U

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201721483897.3

    申请日:2017-11-09

    Abstract: 本实用新型公开了一种应用于柱形旋转靶的挡板组件,包括自由环、半圆环挡板、连轴环、环状压板、轴承和滚珠;自由环呈U型,其外侧部上对称设置有两个限位件;半圆环挡板与自由环的底端相连;连轴环呈U型,设于自由环内部,包括圆环状的底部和环状凸起部;环状压板和轴承均套设在连轴环的环状凸起部外侧,环状压板通过外侧套设有弹性件的螺杆与自由环相连;连轴环的圆环状的底部的底表面与自由环的圆环状的底部的顶表面的对应位置处均设有环形凹槽,环形凹槽上设有球形凹坑,滚珠设于环形凹槽或者球形凹坑内。本实用新型无需使用单独配套的电机或者气缸等驱动装置,同时无需使用单独配套的真空腔体开孔结构和轴封结构,能够减少故障点的同时降低挡板的制作成本。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    网格式射频等离子体发生器

    公开(公告)号:CN2233660Y

    公开(公告)日:1996-08-21

    申请号:CN95210418.0

    申请日:1995-05-05

    Applicant: 浙江大学

    Inventor: 王德苗 任高潮

    Abstract: 一种网格式射频等离子体发生器,有电缆、匹配网络、射频电源,是设置一个托盘状屏蔽罩,在其内布置一个与它绝缘的栅极,在栅极上方位于屏蔽罩内布置一个与它同电位的加速极,在屏蔽罩底面外侧布置一个与电缆连接的同轴接头,其外导体与屏蔽罩连接,内导体与栅极连接。本发生器产生的等离子体仅局限于其上方,不会产生二次污染物,对清洗玻璃基片十分有利,阻抗匹配较容易,输出功率大,适应于连续生产的场合。

    专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源

    公开(公告)号:CN88203433U

    公开(公告)日:1988-11-30

    申请号:CN88203433

    申请日:1988-02-10

    Applicant: 浙江大学

    Inventor: 王德苗

    Abstract: 一种专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源,其磁场由条状静止的外磁组件和能作往复运动的内磁组件产生,能对静止的大面积工件表面均匀地镀覆阳光控制膜、低辐射膜、镜面膜及导电膜。适用于镀覆大面积的工件,如大型建筑玻璃、汽车护栅、露天字牌、大型平面镜等。是一种靶材利用率高、耗能小、膜层均匀度高、投资少效益高的新型溅射源。

    多源型平面磁控溅射源
    75.
    实用新型

    公开(公告)号:CN87214297U

    公开(公告)日:1988-09-21

    申请号:CN87214297

    申请日:1987-10-12

    Applicant: 浙江大学

    Inventor: 王德苗 任高潮

    Abstract: 一种多源型平面磁控溅射源,包含一个或多个可作旋转运动的内磁组件(6),由若干个可拆换的异质扇形小靶拼成的阴极靶(8)。用于共溅沉积合金膜、多层膜或单质薄膜,靶材利用率达75%以上,膜层成份配比精度高,厚度均匀性好。

    应用于真空室的片架传送机构

    公开(公告)号:CN210339183U

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201921034780.6

    申请日:2019-07-04

    Abstract: 本实用新型为真空镀膜领域,公开了一种应用于真空室的片架传送机构,包括滑块A、滑块B、传动杆A和传动杆B,所述传动杆A和传动杆B纵向平行放置,并分别穿过滑块A和滑块B,形成井字形;所述滑块A、滑块B、传动杆A和传动杆B位于工作腔体内,所述传动杆A与电机A连接,所述传动杆B与电机B连接。所述滑块A和滑块B上设置有传动杆螺孔和传动杆过度通孔。本实用新型通过控制传动杆A和B的转动,可以自由控制片架的传送速度和传送方向,由于其结构简单,配件少,在降低传动机构成本的同时,可提高传动机构的可靠性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    真空镀膜腔内无线无源温度测量装置

    公开(公告)号:CN208043280U

    公开(公告)日:2018-11-02

    申请号:CN201820075564.5

    申请日:2018-01-17

    Abstract: 本实用新型公开了一种真空镀膜腔内无线无源温度测量装置,包括置于真空室外的射频读取器、与射频读取器通过接线盘连接的置于真空室内的传输天线和与传输天线无线连接的置于真空室内的传感器单元。测温步骤为a)射频读取器通过传输天线发射一段射频脉冲给传感器单元b)传感器单元接收传输天线电信号并转化为声波信号c)传感器单元的温度变化将改变声波信号d)被改变的声波信号被传感器单元转为新的电信号返回到传输天线;e)射频读取器通过传输天线读取新的电信号f)射频读取器通过分析发送和接收的电信号区别得到传感器单元温度变化信息。本新型解决了传统热电偶温度测量系统无法测量运动对象的缺点,同时具有安装灵活,方便快捷等优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具

    公开(公告)号:CN205803577U

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201620699307.X

    申请日:2016-07-05

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具,包括上掩膜板、下掩膜板和被上下掩膜板夹于中间的弹性板;所述上掩膜板和下掩膜板上均设置有所需镀膜形状的掩膜开孔、第一紧固孔、第一定位孔;所述弹性板上设置有弹性机构、与上掩膜板和下掩膜板配合使用的第二紧固孔和第二定位孔;所述弹性机构包括第一半岛形结构和第二半岛形结构,第一半岛形结构和第二半岛形结构的形状为任意互补配合的几何形状,并分别向弹性机构平面的上下面翘起。本实用新型可以低成本地实现样品的一个需镀膜表面与掩膜板掩膜开孔边缘紧贴,以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分,从而提高镀膜产品的品质。

    真空设备中的片状工件输送机构

    公开(公告)号:CN2234933Y

    公开(公告)日:1996-09-11

    申请号:CN95210419.9

    申请日:1995-05-05

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 一种真空设备中的片状工件输送机构,由型材导轨、链条链轮、驱动器构成的传动部件,和由外框、重力棘牙、滚轮、内框、压片条、重力销、以及齿轮齿条、压轮经轴连接构成的载片架组成。本输送机构具有结构简单轻巧、能在线翻片,适应自下而上和自上而下的生产工艺,可经受高温烘烤,不需要同步传输等优点,可广泛应用于幕墙玻璃、透明导电玻璃、半导体等连续生产的真空设备中。

    电子束蒸发器
    80.
    实用新型

    公开(公告)号:CN2220475Y

    公开(公告)日:1996-02-21

    申请号:CN94239819.X

    申请日:1994-12-08

    Applicant: 浙江大学

    Inventor: 王德苗 任高潮

    Abstract: 一种电子束蒸发器,其特征是施材料制成棒状体,布置在原坩埚7的轴线处构成棒状靶B,该棒状靶B由一个旋转升降机构8带动作旋转和升降运动。同现有技术比较,其优点是:连续蒸镀的时间可提高150倍以上,特别有利于将粉状施镀材料改制为棒料实现长时间连续蒸镀,蒸发方向可任意选择,有利于实现蒸镀工艺产业化。

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