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公开(公告)号：CN115747745A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211491382.3
申请日：2022-11-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种斜入射高性能窄带滤光薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤1：分别制备倾斜沉积的高、低折射率材料的单层膜；步骤2分别测试高、低折射率材料的单层膜的透射率和反射率曲线，根据透射率和反射率分别拟合获取高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数；步骤3：根据高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数，设计并确定在工作角度下，五腔窄带滤光薄膜的膜系结构；步骤4：根据五腔窄带滤光薄膜的膜系结构，制备斜入射高性能窄带滤光薄膜，并测试斜入射高性能窄带滤光薄膜的透射光谱。与现有技术相比，本发明能够解决现有技术中入射角度大于25°时窄带滤光薄膜的光学特性会发生显著变化的问题，且薄膜透过率高。
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公开(公告)号：CN114914776A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202210388293.X
申请日：2022-04-13
Applicant: 同济大学
IPC: H01S3/04
Abstract: 本发明涉及一种用于激光系统的镜片散热装置，安装在激光系统的镜片上，所述镜片散热装置包括安装镜架、固定压圈和冷却接头，所述安装镜架设有中心孔洞和围绕该中心孔洞的镜片安装槽，所述安装镜架、镜片和固定压圈依次连接，所述镜片安装在所述镜片安装槽内，所述固定压圈还固定连接所述安装镜架；所述安装镜架内部形成有冷却流道，该冷却流道的端部贯通安装镜架的端面，形成冷却液进出口。与现有技术相比，本发明散热装置简单可靠，能够达到快速散热的目的，保证镜片温升处于稳定状态，不会随着时间的增加累积增加。
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公开(公告)号：CN109471211B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201811639285.8
申请日：2018-12-29
Applicant: 润坤(上海)光学科技有限公司 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种消偏振合束镜薄膜，包括基底以及设置在基底上的第一薄膜，所述的第一薄膜的膜系结构为Sub|x1H x2L x3H x4L......xk‑3H xk‑2L xk‑1H xkL|Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，x1～xk为每层薄膜层的光学厚度系数，k为薄膜层总数。与现有技术相比，本发明具有优化过程简单，膜系规整，便于精确制备，降低了制备复杂性，消偏效果好、光谱特性优良，便于推广使用等优点，在大型激光装置光路传输中具有广阔的实用前景，可用于不同波长激光的非相干合束。
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公开(公告)号：CN106549297B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201610940925.3
申请日：2016-10-26
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种钕玻璃激光器用背入射式高反薄膜系统的制备方法，包括针对钕玻璃激光器谐振腔构型所需的光谱特性，采用垂直偏振态S光作为工作偏振态，以及对应的角度匹配的S光增透膜和背入射高反膜的组合膜系；优化背入射高反膜的驻波电场在薄膜‑基板界面最小；对增透膜和背入射高反膜的电场分布进行归一化，改变驻波电场最大值处的增透膜膜厚，进一步提高损伤阈值。与现有平行偏振态P光背入射高反膜的方案相比，本发明具有工作角度可调，反射带更宽，激光损伤阈值更高，稳定性和容错率更好的优点。
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公开(公告)号：CN106435487B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201610908397.3
申请日：2016-10-10
Applicant: 同济大学
IPC: C23C14/30
Abstract: 本发明公开了一种非线性晶体三硼酸锂晶体表面高激光损伤阈值增透膜的制备方法。针对LBO晶体各向异性强及增透膜的损伤机理，该方法的步骤包括LBO晶体表面采用IAD工艺镀SiO2膜、在LBO晶体表面IAD工艺镀制的薄膜上采用溶胶‑凝胶法进行镀膜。由本发明制备的LBO增透膜光学特性优异、损伤阈值高、环境稳定性好，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、易于推广等优点，在未来的高功率激光薄膜领域具有广泛应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107748404A
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201710865078.3
申请日：2017-09-22
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/08
Abstract: 本发明涉及一种低散射损耗的高反射薄膜，包括由下而上依次设置的基板、第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜，第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜均由高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置构成，第一薄膜为1/4中心波长光学厚度的标准高反射薄膜结构，第二薄膜和第三薄膜均为全介质法珀腔薄膜结构，第一薄膜与基板接触的一侧为高折射率材料膜层H，第三薄膜与空气接触的一侧为高折射率材料膜层H，第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜连接处高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置。与现有技术相比，本发明具有有效降低散射、材料选择范围广、制作成本低和易于推广等优点，在超高精度激光测量领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN106939437B
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201710070733.6
申请日：2017-02-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种氟化钙晶体的离子束刻蚀装置及方法，所述装置包括离子源、刻蚀工装、角度调整机构和中和器，刻蚀工装包括循环冷却水供给机构，石英底盘表面镀有MgF2薄膜；将石英底盘放置入不锈钢工装内，调整刻蚀工装角度；将氟化钙晶体放置于刻蚀工装中，抽真空，开启循环冷却水供给机构；待真空抽至4×10‑4Pa，开启离子源，充入氪气作为刻蚀气体；刻蚀结束充入氮气，取出氟化钙晶体。本发明针对氟化钙晶体的硬度小、热膨胀系数大和材料表面微潮解特性，通过冷却水控制温度，利用大原子序数的气体，提高离子束能量，最终获得了低表面粗糙度、吸收较低的高质量氟化钙晶体表面。与现有技术相比，本发明具有针对性强、效果明显等优点。
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公开(公告)号：CN105203503B
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：CN201510585072.1
申请日：2015-09-16
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/49
Abstract: 本发明涉及一种高功率激光薄膜元件用超光滑光学基板表面检测方法，采用532nm波长激光倾斜入射光学基板表面，运用微分干涉显微镜的暗场模式观测激光在基板表面的散射光信息，实现对光学基板表面缺陷及微小残留颗粒的高灵敏度检测；通过分别采用暗场显微模式下激光散射以及微分干涉显微模式对所旋涂有300~3µm人工氧化硅小球的样品进行观测，对比建立微粒激光散射面积与微粒实体尺度对应关系，实现对于微粒的激光散射检测的量化定标；通过对比暗场显微模式下激光散射以及微分干涉显微模式对刻有600nm~5µm宽度人工划痕基板的观测结果，建立划痕激光散射面积与实体宽度对应关系，完成对划痕缺陷的激光散射量化定标。本发明极大地提高了基板表面缺陷检测的精度和效率。
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公开(公告)号：CN106549297A
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201610940925.3
申请日：2016-10-26
Applicant: 同济大学
CPC classification number: H01S3/17 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/30 , H01S3/0602
Abstract: 本发明涉及一种钕玻璃激光器用背入射式高反薄膜系统的制备方法，包括针对钕玻璃激光器谐振腔构型所需的光谱特性，采用垂直偏振态S光作为工作偏振态，以及对应的角度匹配的S光增透膜和背入射高反膜的组合膜系；优化背入射高反膜的驻波电场在薄膜-基板界面最小；对增透膜和背入射高反膜的电场分布进行归一化，改变驻波电场最大值处的增透膜膜厚，进一步提高损伤阈值。与现有平行偏振态P光背入射高反膜的方案相比，本发明具有工作角度可调，反射带更宽，激光损伤阈值更高，稳定性和容错率更好的优点。
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公开(公告)号：CN103952670B
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201410050186.1
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 发明涉及一种激光薄膜的研究方法，属于薄膜光学技术领域。该方法的步骤为利用不同尺度抛光粉制作人工划痕确定熔石英基板的冷加工、熔石英基板的氢氟酸刻蚀的工艺参数、利用微米尺度单分散小球确定熔石英基板的超声波清洗、熔石英基板的真空离子束清洗工艺参数、利用吸收性的纳米尺度缺陷确定在熔石英基板上制备薄膜的工艺参数、利用微米尺度单分散小球确定缺陷后处理工艺参数。实验证明，采用本发明可以从激光薄膜制备的整个工艺流程上有效控制不同缺陷的尺度，根据不同损伤阈值的要求，确定定量的工艺参数，有效地简化激光薄膜制备工艺流程，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、效果明显等优点，完全可以应用于未来的高功率激光薄膜领域。
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