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公开(公告)号：CN116086774A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202310011310.2
申请日：2023-01-05
IPC: G01M11/02
Abstract: 本申请涉及一种二维环形光斑的质量检测方法、装置和存储介质，其中，该二维环形光斑的质量检测方法包括：获取待检测的二维环形光斑的光强信息；根据光强信息确定二维环形光斑在检测线上的光强变化趋势，检测线包括自二维环形光斑的圆心向一侧延伸的射线；根据光强变化趋势确定二维环形光斑的质量。通过本申请，首先获取待检测的二维环形光斑的光强信息，然后确定二维环形光斑在至少一条检测线上的光强变化趋势。二维环形光斑内侧的光强降低速率越快，则其质量越好，也就越适合作为抑制光。解决了相关技术中存在无法有效地筛选出刻写效果好的二维环形光斑的问题。
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公开(公告)号：CN112904526B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202110082908.1
申请日：2021-01-21
Abstract: 本发明提出一种基于差动共焦探测具有抗噪能力的高精度自动对焦方法及装置，该方法包括：产生对焦光束，经由凹透镜和电控变焦透镜组成的透镜组，与光学系统工作光束合束；对焦光束经对焦对象中的对焦平面反射，由原光路返回，再由分束镜反射入差分共焦探测机构进行光强测量；在测量过程中，对电控变焦透镜偏置高频周期性变化信号，将差分共焦探测机构测量到的静态差分信号转换为具有抗噪性能的动态差动信号；根据差动信号变化，产生反馈调整信号，自动补偿离焦量，实现自动对焦。本发明将静态光强信号差分共焦探测转化为动态光强信号差动共焦探测。通过此方法减少了系统的随机误差，提高了系统的抗噪性能，进一步增加了对焦精度。
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公开(公告)号：CN114721233B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202210643609.5
申请日：2022-06-09
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤器件的光场生成装置及单波长超分辨光刻系统，将单一飞秒光源输出光分为两路，其中一路通过元器件的色散将激光脉冲宽度展宽至皮秒量级，另一路通过引入色散补偿模块使激光脉冲宽度保持在飞秒量级。通过光纤模式选择耦合器的调制，将飞秒脉冲激光调制为高斯型激发光，并将皮秒脉冲激光调制为环形抑制光。通过输出的组合光斑和光刻胶的特性，使光刻的最小特征尺寸缩减到衍射极限以下。由于采用同一波长不同脉冲宽度的激光作为激发光和抑制光，避免了由于系统中元器件色差引起的光斑不重合等问题。本发明通过配合光刻胶特性实现突破衍射极限的高精度刻写，整个系统结构简单，抗外界干扰能力强。
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公开(公告)号：CN115236936B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202211155652.3
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光固化交联的聚酰胺酸光刻胶及其制备方法、使用方法和应用，按重量份数计，由以下组分组成：5‑30份的二酐和二胺的合计、5‑30份的丙烯酸酯类固化交联剂、0.5‑5份的双光子自由基引发剂和0.5‑5份的光酸剂。本发明通过在聚酰胺酸飞秒激光光刻胶中加入丙烯酸类树脂作为固化交联剂，在光刻过程中形成图案化，同时加入聚酰胺酸作为成膜剂并保留了聚酰亚胺光刻胶良好的性能，既不需要复杂的化学合成，又获得了良好的光刻胶性能。
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公开(公告)号：CN115248468A
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202211008273.1
申请日：2022-08-22
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种高色散高衍射效率的折射反射混合型光栅，包括带周期性直角三角形沟槽的金属基底、直角三角形沟槽的填充介质和设置于填充介质上表面的子光栅；直角三角形沟槽的周期、直角三角形沟槽的斜面与光栅平面的夹角、填充介质的折射率和光栅工作波段的中心波长满足由反射定律、折射定律和光栅衍射方程得出的定量关系式，本发明的折射反射混合型光栅可以在衍射角大于75度的条件下同时实现高于90％的衍射效率和高于2毫弧度/纳米的角色散本领。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115236936A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202211155652.3
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光固化交联的聚酰胺酸光刻胶及其制备方法、使用方法和应用，按重量份数计，由以下组分组成：5‑30份的二酐和二胺的合计、5‑30份的丙烯酸酯类固化交联剂、0.5‑5份的双光子自由基引发剂和0.5‑5份的光酸剂。本发明通过在聚酰胺酸飞秒激光光刻胶中加入丙烯酸类树脂作为固化交联剂，在光刻过程中形成图案化，同时加入聚酰胺酸作为成膜剂并保留了聚酰亚胺光刻胶良好的性能，既不需要复杂的化学合成，又获得了良好的光刻胶性能。
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公开(公告)号：CN114527629B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210417713.2
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶，该方法基于边缘光抑制纳米刻写技术，通过双抑制光斑的结合实现在保证最大抑制强度不变的前提下压缩暗斑抑制区域，一定程度解决由抑制光过强引起刻写线宽变粗的难题，实现等效刻写光斑的压缩，从而进一步缩小纳米刻写线宽。利用本发明的方法可以实现更高精度的纳米加工能力，可为微机械、微光学、微流控等领域提供更高精度的加工手段。
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公开(公告)号：CN114779591A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202210717492.0
申请日：2022-06-23
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法，该方法基于苯偶酰光引发剂基态与三重态的光谱吸收特性，利用一束材料基态吸收范围波长的激光束与另一束材料三重态吸收范围波长的激光束共同作用于材料中，通过控制两者的能量实现双色双步吸收效应，并且结合两者的相对位移控制，从而获得小于衍射极限的刻写线宽。本发明将提供一种亚百纳米精度刻写精度与快速刻写能力的超分辨纳米激光直写方法，使三维光刻直写技术具有高速、超分辨、复杂结构刻写能力的优点。
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公开(公告)号：CN114415482B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210324232.7
申请日：2022-03-30
Abstract: 本发明公开了一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：获取待刻写数据和基于振镜的超分辨激光直写系统的单次扫描范围；根据所述单次扫描范围，将所述待刻写数据分割为若干个子数据；根据全局坐标系，对所述子数据进行旋转，得到旋转数据；获取振镜的X极性和Y极性；根据所述X极性和Y极性，对所述旋转数据进行翻转，得到翻转数据；对所述翻转数据之间的拼接重合区域进行拟合，得到刻写数据；根据所述刻写数据，利用基于振镜的超分辨激光直写系统进行刻写。该方法解决振镜与全局坐标系之间存在角度偏差、振镜X/Y轴向与全局坐标轴向不一致和拼接刻写均匀性不一致的问题。
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公开(公告)号：CN114527629A
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202210417713.2
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶，该方法基于边缘光抑制纳米刻写技术，通过双抑制光斑的结合实现在保证最大抑制强度不变的前提下压缩暗斑抑制区域，一定程度解决由抑制光过强引起刻写线宽变粗的难题，实现等效刻写光斑的压缩，从而进一步缩小纳米刻写线宽。利用本发明的方法可以实现更高精度的纳米加工能力，可为微机械、微光学、微流控等领域提供更高精度的加工手段。
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