一种射频功率放大器
    71.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114584086A

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202210086532.6

    申请日:2022-01-25

    Abstract: 本发明提供一种射频功率放大器,包括功率放大模块和转换模块,功率放大模块包括第一端口、第一晶体管和第二端口,用于对接收到的射频信号进行功率放大;当射频功率放大器处于信号发射状态时,转换模块用于控制第一晶体管处于共源极工作,以使得第一端口为射频信号的输入端,第二端口为射频信号的输出端;当射频功率放大器处于信号接收状态时,转换模块用于控制第一晶体管处于共栅极工作,以使得第二端口为射频信号的输入端,第一端口为射频信号的输出端。本发明实施例所提供的射频功率放大器,发射链路和接收链路只需要一个射频功率放大器,一方面避免了现有的两路射频放大器所带来的热效应叠加的问题,另一方面,有利于满足系统小型化的需要。

    基于金刚石衬底的GaN场效应晶体管的制备方法

    公开(公告)号:CN112992678A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN202110161018.X

    申请日:2021-02-05

    Abstract: 本发明提供了一种基于金刚石衬底的GaN场效应晶体管的制备方法,属于半导体制造技术领域,包括:SiC衬底正面制备GaN异质结层;减薄SiC衬底;刻蚀SiC衬底;生长金刚石层;去除牺牲层及其上的金刚石层;GaN异质结层的正面制备源极、漏极和栅极;刻蚀SiC衬底和GaN异质结层,形成与源极连通的源通孔;去除通孔掩膜层,制备背面接地金属,完成金刚石衬底GaN晶体管器件的制备。本发明提供的制备方法,借助SiC刻蚀通孔,取代难度较大的金刚石激光通孔,实现金刚石上GaN异质结器件背面通孔接地,为金刚石衬底GaN晶体管器件的制备提供了方便;同时,由于只是在背面部分小区域去除了SiC衬底,避免了材料大的形变,为后序正面工艺提供了方便。

    常关型场效应晶体管
    74.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109119474B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN201810935833.5

    申请日:2018-08-16

    Abstract: 本发明提供了一种常关型场效应晶体管,属于半导体器件领域,包括衬底、设于所述衬底上侧的至少两个相互间隔设置的二维材料层、设于所述二维材料层上侧的源电极、设于所述二维材料层上侧且与所述源电极间隔设置的漏电极、设于所述二维材料层上侧且位于所述源电极和所述漏电极之间的阻挡层及设于所述阻挡层上侧的至少一个栅电极;相邻两个所述二维材料层之间形成二维材料断层区,所述二维材料断层区的至少一侧边缘向外凸出于所述栅电极在所述二维材料层所在平面上的投影区域的侧边缘。本发明提供的常关型场效应晶体管在保证晶体管能够夹断,实现常关的同时,还不牺牲器件本身的迁移率和电子饱和速度,器件性能没有损失。

    一种斜栅型氧化镓场效应晶体管及制备方法

    公开(公告)号:CN112951919A

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN202110127406.6

    申请日:2021-01-29

    Abstract: 本发明适用于半导体制造技术领域,提供了一种斜栅型氧化镓场效应晶体管及制备方法。所述斜栅型氧化镓场效应晶体管,包括衬底、形成在所述衬底上的n型氧化镓沟道层、分别形成在所述n型氧化镓沟道层两端的源电极和漏电极、以及设置在所述源电极和漏电极之间的栅介质层和栅电极;在所述n型氧化镓沟道层上、所述栅电极下方设有一刻蚀凹坑,所述刻蚀凹坑的深度从靠近所述源电极一端向靠近所述漏电极一端逐渐变浅,且栅源区域的沟道层未被刻蚀。本发明提供的斜栅型氧化镓场效应晶体管不仅可以有效平滑沟道电场分布,有效抑制沟道尖峰电场强度,进而大幅改善器件击穿电压,而且可以保持低的沟道电阻,从而有效降低氧化镓MOSFET的导通电阻。

    常关型氧化镓场效应晶体管结构

    公开(公告)号:CN109659355B

    公开(公告)日:2020-11-24

    申请号:CN201811488059.4

    申请日:2018-12-06

    Abstract: 本发明提供了一种常关型氧化镓场效应晶体管结构,属于半导体器件技术领域,自下至上包括衬底层和n型掺杂氧化镓沟道层,所述n型掺杂氧化镓沟道层上设有源极、漏极和栅极,所述栅极位于所述源极和所述漏极之间,所述栅极下方的所述n型掺杂氧化镓沟道层内设有无电子沟道区。本发明提供的常关型氧化镓场效应晶体管结构,无需在栅下制备凹槽,而是通过高温氧化形成无电子沟道区,在无电子沟道区上形成栅极,避免了刻蚀损伤和刻蚀深度不可控的问题,提高了饱和电流和击穿电压。

    透明场板结构的紫外探测器及其制作方法

    公开(公告)号:CN111933723A

    公开(公告)日:2020-11-13

    申请号:CN202010713194.5

    申请日:2020-07-22

    Abstract: 本发明适用于半导体技术领域,提供了一种透明场板结构的紫外探测器及其制作方法,所述制作方法包括:制备具有台面结构的紫外探测器,所述台面顶面上设置有第一欧姆电极;在所述台面的顶面和侧壁上生长场板介质,并刻蚀出所述第一欧姆电极;在所述场板介质和所述第一欧姆电极上生长ITO透明场板,得到透明场板结构的紫外探测器。本发明能够使紫外探测器的光子探测区域的电场分布均匀,大幅度提高紫外探测器的探测效率。

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