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公开(公告)号：CN102137731A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200980133930.1
申请日：2009-08-24
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/067 , B23K26/073 , G02F1/061
CPC classification number: G02B5/32 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0643 , B23K26/066 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2210/452 , G03H2225/32 , G03H2240/51
Abstract: 本发明涉及激光加工装置以及激光加工方法。激光加工装置(1)具备激光光源(10)、空间光调制器(20)、控制部(22)以及聚光光学系统(30)。空间光调制器(20)输入从激光光源(10)输出的激光，分别在二维排列的多个像素中展示调制激光的相位的全息图，并输出该相位调制后的激光。控制部(22)在存在于加工区域的聚光位置上使一部分相位调制后的激光(入射光)作为具有规定的阈值(X)以上的一定的能量的激光(贡献光)而聚光。另一方面，聚光在存在于加工区域的聚光位置上的贡献光以外的激光(不要光)在存在于非加工区域的聚光位置上作为具有不到规定的阈值(X)的能量的多个激光(非贡献光)而被分散并被聚光。
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公开(公告)号：CN101849199B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200880113901.4
申请日：2008-06-26
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02B5/005 , G02B27/0988
Abstract: 本发明涉及光学掩模以及光源装置。该光学掩模是在输入光的光束截面中进行空间强度调制并输出该调制后的光的光学掩模，在被以规定位置作为中心的p个半径为r1～rp(p为偶数，rp＞rp-1＞…＞r2＞r1并且rp-rp-1＞rp-1-rp-2＞…＞r3-r2＞r2-r1＞r1)的各圆周划分并从内侧开始依次设定区域A0～Ap时，区域Am(m为0以上p以下的偶数)是光透过区域，区域An(n为0以上p以下的奇数)是光屏蔽区域。
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公开(公告)号：CN101542355B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200780044127.1
申请日：2007-09-14
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02B27/09 , G02B5/3025 , G02B21/32 , G02B26/06
Abstract: 本发明涉及一种光束发生装置(1)，其具备激光光源(10)和光相位调制元件(15)等。光相位调制元件(15)，输入从激光光源(10)输出并经过分光器(14)的相干光，根据该光的光束截面上的位置对该光进行相位调制，并向分光器(14)输出该相位调制后的光。在输入到光相位调制元件(15)的光的光束截面上，在设定以规定位置为原点的极坐标系(r，θ)，并且设定由以所述规定位置为中心的p个圆周划分的(p+1)个区域时，在这些(p+1)个区域中，从内侧开始计算的第偶数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ＝qθ”表示，从内侧开始计算的第奇数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ＝qθ+π”表示。
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公开(公告)号：CN101542355A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200780044127.1
申请日：2007-09-14
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02B27/09 , G02B5/3025 , G02B21/32 , G02B26/06
Abstract: 本发明涉及一种光束发生装置(1)，其具备激光光源(10)和光相位调制元件(15)等。光相位调制元件(15)，输入从激光光源(10)输出并经过分光器(14)的相干光，根据该光的光束截面上的位置对该光进行相位调制，并向分光器(14)输出该相位调制后的光。在输入到光相位调制元件(15)的光的光束截面上，在设定以规定位置为原点的极坐标系(r，θ)，并且设定由以所述规定位置为中心的p个圆周划分的(p+1)个区域时，在这些(p+1)个区域中，从内侧开始计算的第偶数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ＝qθ”表示，从内侧开始计算的第奇数个区域内的各位置上的相位调制量φ用式“φ＝qθ+π”表示。
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