一种湿法涂胶的合成革卷边在线检测装置及方法

    公开(公告)号:CN110376211B

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN201910726981.0

    申请日:2019-08-07

    Abstract: 一种湿法涂胶的合成革卷边在线检测装置及方法,包括支撑杆、支撑杆底盘、横杆一、横杆二、背光源、短杆、支杆、正面光源、采图模块、报警灯、工控机以及电气控制柜;所述支撑杆设置于支撑底盘,支撑底盘设置于地面,支撑杆竖立于检测点左右两侧;所述横杆一设置于支撑杆之间;所述背光源设置于横杆一上;所述短杆设置于支撑杆,短杆与支撑杆之间设置支杆;所述横杆二设置于短杆之间;所述采图模块、正面光源以及报警灯设置于横杆二;所述工控机与电气控制柜设置于支撑杆,工控机与采图模块以及正面光源电性连接;本发明通过机器代替人工,避免了人工检查可能存在漏检或是发现问题不及时的情况发生,保证了生产布匹的质量。

    基于转速判断的石英晶片谐振频率的单圈分段方法

    公开(公告)号:CN111230725B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202010044287.3

    申请日:2019-03-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于转速判断的石英晶片谐振频率的单圈分段方法,包括以下步骤:流程开始,判断本次扫频采样是否完成,若已完成,进入晶片区分和数据处理流程,完成后,进入连续圈转速是否稳定判断流程;若未完成,进入连续圈转速是否稳定判断流程;判定连续圈转速是否稳定,若是,进一步判定本圈内本段定时时间是否到;若否,进行圈数进入判定;判定本圈内本段定时时间是否到,若是,进行本圈内本段定时时间到数据处理流程;若否,进行圈数进入判定;判定是否圈数进入,若是,进入转速稳定判断流程和本圈数据结束处理流程,然后进入实时频率处理流程;若否,直接进入实时频率处理流程;判定是否需要停机,若是,关停研磨机,流程结束。

    石英晶片研磨的高精度频率校准方法

    公开(公告)号:CN111596129A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN202010489015.4

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明公开了石英晶片研磨的高精度频率校准方法,包括研磨过程频率统计和机器校准;所述机器校准包括仪器校准、机台校准和用户校准;校准采用如下公式:F主显=F实测+F仪器校准+F机台校准+F用户校准=F晶片;研磨过程频率统计用以保证频率统计的精确性,从而保证同一批料散差小,一致性高,所述机器校准用以保证仪器频率的准确性,从而使频率统计数据能真实反应研磨机的研磨能力;本发明提供了一种通过增加仪器校准来保障机器本身的无误,并通过机台校准和用户校准用于保证测频精度;实现了同一批料盘间散差小,且当达到目标频率时精准停机,保证了仪器间的一致性。

    阻抗匹配的石英晶片抛光研磨在线测频系统

    公开(公告)号:CN118671439A

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202410653110.1

    申请日:2019-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种阻抗匹配的石英晶片抛光研磨在线测频系统,包括DDS信号模块、射频功率放大模块、π网络接口电路模块、阻抗匹配模块、信号处理模块、MCU控制系统模块和用于为以上模块提供工作电压的电源模块,所述信号处理模块进一步依次包括4阶有源高通电路、3级运放高速放大电路、2阶无源滤波电路、峰峰值比较电路、2阶高通交流耦合电路、2阶信号放大电路、4阶有源低通电路和加法电压跟随电路。

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