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公开(公告)号：CN103952670A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410050186.1
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜的研究方法，属于薄膜光学技术领域。该方法的步骤为利用不同尺度抛光粉制作人工划痕确定熔石英基板的冷加工、熔石英基板的氢氟酸刻蚀的工艺参数、利用微米尺度单分散小球确定熔石英基板的超声波清洗、熔石英基板的真空离子束清洗工艺参数、利用吸收性的纳米尺度缺陷确定在熔石英基板上制备薄膜的工艺参数、利用微米尺度单分散小球确定缺陷后处理工艺参数。实验证明，采用本发明可以从激光薄膜制备的整个工艺流程上有效控制不同缺陷的尺度，根据不同损伤阈值的要求，确定定量的工艺参数，有效地简化激光薄膜制备工艺流程，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、效果明显等优点，完全可以应用于未来的高功率激光薄膜领域。
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公开(公告)号：CN102744234B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201110099168.9
申请日：2011-04-20
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种改善K9玻璃基底表面质量的清洗方法，先通过酸性溶液去除K9玻璃表面的金属污染，然后通过碱性溶液去除颗粒和有机物污染，清洗过程结合去离子水漂洗，以降低离子在表面的浓度和除去清洗溶剂分子或离子。与现有技术相比，本发明在达到较高清洗效率、有效去除污染物的同时，对K9玻璃基底的表面刻蚀作用减轻到一个极低的程度，表面粗糙度大大减小，有利于提高薄膜的反射率。
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公开(公告)号：CN102980844A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210526581.3
申请日：2012-12-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜用光学基板清洗后表面检测方法，属于光学技术领域。所述检测流程工艺包括以下步骤：运用5µm、10µm尺寸的人造氧化硅小球定标白光表面检测灯的可见度，对基板清洗后的残留颗粒运用5µm～50µm尺寸的氧化硅小球进行尺度对比，统计残留颗粒的尺度和数量，实现用肉眼对基板表面微米尺度颗粒的半定量化检测；使用弱吸收仪扫描基板表面，统计基板表面上吸收高于20ppm小于100ppm，以及吸收值大于100ppm的点数，依此实现对基板表面纳米尺度金属氧化物粉粒的清洗去除效率的精确评价；运用原子力显微镜测量基板表面划痕的深度、表面粗糙度，并测量记录直径超过20nm的麻点个数，实现对基板表面疵病的量化评测。本发明的优点在于所述检测方法实现对光学基板清洗后表面的定量化检测，为基板清洗工艺的改进提供数据支撑，保证基板镀膜后达到激光损伤方面的要求。
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公开(公告)号：CN102965614A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210480267.6
申请日：2012-11-23
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜的制备方法，属于薄膜光学技术领域。该方法的步骤为熔石英基板的冷加工、熔石英基板的氢氟酸刻蚀、熔石英基板的超声波清洗、熔石英基板的真空离子束清洗、在熔石英基板上制备薄膜、缺陷后处理。实验证明，采用本发明可以从激光薄膜制备的整个工艺流程上有效控制缺陷的产生，使激光薄膜的缺陷密度下降了一个数量级，将激光薄膜的整体损伤阈值提高3倍，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、效果明显等优点，完全可以应用于未来的高功率激光薄膜领域。
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公开(公告)号：CN102175594A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN201110045915.0
申请日：2011-02-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种三波长脉冲激光共同作用下损伤阈值测量装置和装调方法，所述测量装置将三波长激光分离，单独进行能量控制和光束汇聚，再经过与分光系统光程匹配的光束耦合系统确保三波长在时间上同步。利用准直激光、两个通光光阑，三波长光束首先进行初步准直；利用在线显微镜监测各个波长激光对感光相纸的损伤信息，通过激光辐照前后图像的对比分析，计算出不同波长在被测样品上产生的损伤点的中心坐标，以此为参考，先后调节各个波长的光斑位置，直至三波长光斑中心重合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115747745B
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202211491382.3
申请日：2022-11-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种斜入射高性能窄带滤光薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤1：分别制备倾斜沉积的高、低折射率材料的单层膜；步骤2分别测试高、低折射率材料的单层膜的透射率和反射率曲线，根据透射率和反射率分别拟合获取高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数；步骤3：根据高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数，设计并确定在工作角度下，五腔窄带滤光薄膜的膜系结构；步骤4：根据五腔窄带滤光薄膜的膜系结构，制备斜入射高性能窄带滤光薄膜，并测试斜入射高性能窄带滤光薄膜的透射光谱。与现有技术相比，本发明能够解决现有技术中入射角度大于25°时窄带滤光薄膜的光学特性会发生显著变化的问题，且薄膜透过率高。
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公开(公告)号：CN118938421B
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202410983252.4
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种高能激光内通道的气体热效应控制装置，涉及激光技术领域，设置于内通道上，激光内通道包括依次垂直连接的进光段、转折段、输出段，包括波前探测装置和气体散热装置，波前探测装置包括设置于进光段一端的波前探测器和设置于输出段一端的信号光发射器，气体散热装置包括均匀气流单元、控温流道、气流通道和监测装置，若干气流通道均匀分布于内通道的侧壁上，控温流道设置于内通道的侧壁内，控温流道与气流通道间隔分布，均匀气流单元覆盖在气流通道上。本发明采用上述结构的一种用于高能激光内通道的气体热效应控制装置，能够实时探测内通道气体热效应导致的气体热畸变，均匀稳定控制内通道气体的温度，保证光束传输不变性。
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公开(公告)号：CN118730494B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202410983251.X
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置，涉及高功率激光系统领域，包括振动宽温原位平台和集成化多功能检测平台，振动宽温原位平台包括振动平台和安装在振动平台上的宽温平台，待测高功率激光系统固定在宽温平台内，集成化多功能检测平台包括调整架和设置于调整架上的集成平台，集成平台的上方设置有光束进入装置、光束探测器、功率能量检测装置、光轴位置检测装置、可见激光调节装置。本发明采用上述结构的一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置，通过振动、温度可调节的模拟真实环境场景的原位安装平台，实现高功率激光系统多性能参数的原位的检测。
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公开(公告)号：CN116288154A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310306522.3
申请日：2023-03-27
Applicant: 同济大学
IPC: C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/24 , C23C14/22 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , B82Y20/00 , C23C14/54 , G02B1/10
Abstract: 本发明涉及薄膜光学技术领域，尤其是涉及一种氧化铪复合薄膜及其制备方法。本发明旨在解决离子束辅助沉积工艺制备的氧化铪薄膜因易结晶、表面空洞缺陷密集而导致的粗糙度较大的问题，以及离子束轰击引起的薄膜吸收较大的问题。本发明在传统制备的纯氧化铪薄膜制备中插入薄层的氧化硅薄膜，将厚层氧化铪拆分隔离为数层纳米薄层，一方面可以有效抑制氧化铪薄膜的结晶，减少薄膜表面的孔洞缺陷，从而降低薄膜粗糙度；另一方面，部分含量氧化硅的引入也会降低氧化铪薄膜的吸收。与现有技术相比，本发明可以有效降低离子束辅助沉积工艺制备氧化铪薄膜表面粗糙度和吸收，同时制作成本低，易于推广，在超高精度激光测量领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN116184551A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202211612972.7
申请日：2022-12-15
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是涉及兼顾激光波段损伤特性和中波红外高透特性的分色元件及设计方法。本发明采用能带隙宽、热力学稳定性优良的氧化物材料，确保该分色元件在激光波段有高的激光损伤阈值、光谱效率以及能够适应严酷的工作环境。与现有技术相比，本发明可以兼顾激光波段的损伤特性和各个目标波段的光谱效率，具体可实现的技术指标为：532nm和1064nm激光波段的反射率分别为99.5％、99.7％，3.6～4.7μm中红外探测光范围内的平均透射率达到96％以上；该分色元件在532nm和1064nm激光波段的损伤阈值分别为10.4J/cm2、31.6J/cm2。
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