基于转速判断的石英晶片谐振频率的单圈分段方法

    公开(公告)号:CN111230725B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202010044287.3

    申请日:2019-03-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于转速判断的石英晶片谐振频率的单圈分段方法,包括以下步骤:流程开始,判断本次扫频采样是否完成,若已完成,进入晶片区分和数据处理流程,完成后,进入连续圈转速是否稳定判断流程;若未完成,进入连续圈转速是否稳定判断流程;判定连续圈转速是否稳定,若是,进一步判定本圈内本段定时时间是否到;若否,进行圈数进入判定;判定本圈内本段定时时间是否到,若是,进行本圈内本段定时时间到数据处理流程;若否,进行圈数进入判定;判定是否圈数进入,若是,进入转速稳定判断流程和本圈数据结束处理流程,然后进入实时频率处理流程;若否,直接进入实时频率处理流程;判定是否需要停机,若是,关停研磨机,流程结束。

    一种基于机器视觉的合成革涂胶在线监测方法

    公开(公告)号:CN110084787B

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN201910295581.9

    申请日:2019-04-12

    Abstract: 一种基于机器视觉的合成革涂胶在线监测方法,包括以下步骤:1.利用线扫相机采集合成革图像;2.计算合成革图像Image的高度h;3.通过设定的阈值t筛选Image,并得到阈值大于t的区域R;4.填充区域R,成为新的区域R1,则R1则为合成革图像区域;合成革为模拟天然革的组成和结构并可作为其代用材料的塑料制品,通常以经浸渍的无纺布为网状层,微孔聚氨脂层作为粒面层制得。其正、反面都与皮革十分相似,并具有一定的透气性,比普通人造革更接近天然革。广泛用于制作鞋、靴、箱包和球类等,在合成革加工过程中,包含一个涂胶工序,通过涂胶设备在合成革正面均匀涂覆一层胶液,涂胶工序会发生一些异常,导致涂胶异常或者产生相应的瑕疵。

    石英晶片研磨的高精度频率校准方法

    公开(公告)号:CN111596129A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN202010489015.4

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明公开了石英晶片研磨的高精度频率校准方法,包括研磨过程频率统计和机器校准;所述机器校准包括仪器校准、机台校准和用户校准;校准采用如下公式:F主显=F实测+F仪器校准+F机台校准+F用户校准=F晶片;研磨过程频率统计用以保证频率统计的精确性,从而保证同一批料散差小,一致性高,所述机器校准用以保证仪器频率的准确性,从而使频率统计数据能真实反应研磨机的研磨能力;本发明提供了一种通过增加仪器校准来保障机器本身的无误,并通过机台校准和用户校准用于保证测频精度;实现了同一批料盘间散差小,且当达到目标频率时精准停机,保证了仪器间的一致性。

    一种基于机器视觉的合成革涂胶在线监测方法

    公开(公告)号:CN110084787A

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201910295581.9

    申请日:2019-04-12

    Abstract: 一种基于机器视觉的合成革涂胶在线监测方法,包括以下步骤:1.利用线扫相机采集合成革图像;2.计算合成革图像Image的高度h;3.通过设定的阈值t筛选Image,并得到阈值大于t的区域R;4.填充区域R,成为新的区域R1,则R1则为合成革图像区域;合成革为模拟天然革的组成和结构并可作为其代用材料的塑料制品,通常以经浸渍的无纺布为网状层,微孔聚氨酯层作为粒面层制得。其正、反面都与皮革十分相似,并具有一定的透气性,比普通人造革更接近天然革。广泛用于制作鞋、靴、箱包和球类等,在合成革加工过程中,包含一个涂胶工序,通过涂胶设备在合成革正面均匀涂覆一层胶液,涂胶工序会发生一些异常,导致涂胶异常或者产生相应的瑕疵。

    阻抗匹配的石英晶片抛光研磨在线测频系统

    公开(公告)号:CN118671439A

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202410653110.1

    申请日:2019-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种阻抗匹配的石英晶片抛光研磨在线测频系统,包括DDS信号模块、射频功率放大模块、π网络接口电路模块、阻抗匹配模块、信号处理模块、MCU控制系统模块和用于为以上模块提供工作电压的电源模块,所述信号处理模块进一步依次包括4阶有源高通电路、3级运放高速放大电路、2阶无源滤波电路、峰峰值比较电路、2阶高通交流耦合电路、2阶信号放大电路、4阶有源低通电路和加法电压跟随电路。

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