半导体器件
    52.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102318072B

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201080008205.4

    申请日:2010-02-12

    Inventor: 添野明高

    CPC classification number: H01L29/7397 H01L29/0619 H01L29/0696 H01L29/0834

    Abstract: 本发明提供了一种具有在同一个半导体衬底中的IGBT元件区和二极管元件区的反向导电型半导体器件。电流检测区与所述IGBT元件区相邻布置,并且所述IGBT元件区的集电极区延伸以与电流检测区的集电极区连接。能够抑制由IGBT和二极管之间的界线部分所引起的IGBT检测电流中的不稳定性。以相同的方式,电流检测区与所述二极管元件区相邻布置,并且二极管元件区的阴极区延伸以与所述电流检测区的阴极区连接。能够抑制由IGBT和二极管之间的界线部分所引起的二极管检测电流中的不稳定性。

    半导体装置
    54.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102804359A

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN200980159805.8

    申请日:2009-06-11

    Inventor: 添野明高

    Abstract: 本发明涉及一种半导体装置,其在同一半导体基板内形成有IGBT元件区、二极管元件区、被设置于IGBT元件区与二极管元件区之间的边界区,在IGBT元件区中的第一导电型的第一体区内设置有第二导电型的载流子累积区。在边界区中,于第一导电型的第二扩散区内,设置有延伸至与载流子累积区相接为止的第二导电型的第三扩散区。由此,能够在IGBT工作时,对载流子穿过边界区而向二极管元件区移动的情况进行抑制,从而降低通态电压。而且,能够在二极管反向恢复时,对载流子在边界区的漂移区中累积的情况进行抑制,从而降低反向恢复电流。

    半导体器件
    56.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102318072A

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN201080008205.4

    申请日:2010-02-12

    Inventor: 添野明高

    CPC classification number: H01L29/7397 H01L29/0619 H01L29/0696 H01L29/0834

    Abstract: 本发明提供了一种具有在同一个半导体衬底中的IGBT元件区和二极管元件区的反向导电型半导体器件。电流检测区与所述IGBT元件区相邻布置,并且所述IGBT元件区的集电极区延伸以与电流检测区的集电极区连接。能够抑制由IGBT和二极管之间的界线部分所引起的IGBT检测电流中的不稳定性。以相同的方式,电流检测区与所述二极管元件区相邻布置,并且二极管元件区的阴极区延伸以与所述电流检测区的阴极区连接。能够抑制由IGBT和二极管之间的界线部分所引起的二极管检测电流中的不稳定性。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN115735264A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202180045017.7

    申请日:2021-06-23

    Abstract: 具备:半导体衬底(10);以及金属膜(22),形成在半导体衬底(10)上,具有与半导体衬底(10)进行肖特基接合的部分,由对铝添加了元素的铝合金构成。金属膜(22)是将配置在半导体衬底(10)侧的下层金属层(22a)与配置在下层金属层(22a)上的上层金属层(22b)层叠而构成的。并且,下层金属层(22a)的沿着下层金属层(22a)与上层金属层(22b)的层叠方向的厚度为2.6μm以下。

    开关元件
    60.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107180862B

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN201710137727.8

    申请日:2017-03-09

    Abstract: 本发明涉及一种开关元件,其抑制第一金属层的裂纹,并确保开关元件的耐压,且降低开关元件导通时的电阻。在所述开关元件中,半导体基板具有第一元件范围和无效范围。第一沟槽跨及第一元件范围和无效范围而在第一方向上延伸。在第一元件范围内,于各个沟槽间区域内设置有多个第二沟槽。在无效范围内,于各个沟槽间区域内未设置有第二沟槽。在沟槽内配置有栅电极。在无效范围内,于层间绝缘膜上未设置有接触孔。第一金属层对层间绝缘膜进行覆盖。绝缘保护膜对无效范围内的第一金属层的外周侧的部分进行覆盖。第二金属层在绝缘保护膜的开口内与第一金属层相接并且与开口的侧面相接。

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