一种利用醋酸铜制备超洁净石墨烯的方法

    公开(公告)号:CN107500276A

    公开(公告)日:2017-12-22

    申请号:CN201710845504.7

    申请日:2017-09-19

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种利用醋酸铜制备超洁净石墨烯的方法。该方法包括如下步骤:按照气路由上游至下游的方向,依次间隔放置醋酸铜和铜基底,通入氢气进行化学气相沉积,沉积完毕得到所述超洁净石墨烯;所述醋酸铜所处温区的温度为醋酸铜的挥发温度。该制备方法简单,原料易得,石墨烯洁净度优于甲烷生长得到的结果,可以得到超洁净、高质量的单层石墨烯薄膜,在光学、电学等领域具有巨大的应用前景。

    石墨烯单晶及其快速生长方法

    公开(公告)号:CN105386124A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510931329.4

    申请日:2015-12-15

    Applicant: 北京大学

    CPC classification number: C30B29/02 C25F3/22 C30B25/186 C30B29/64

    Abstract: 本发明公开了一种石墨烯单晶及其快速生长方法。该方法包括:将退火后的铜箔进行一次钝化,再在恒定温度的条件下,依次进行一次生长、二次钝化、二次生长,再降温至室温停止生长,得到沉积在铜箔上的所述石墨烯单晶;其中,所述一次生长和二次生长步骤中,生长气氛均由还原性气体和碳源气体组成;且所述二次生长步骤中,碳源气体在所述生长气氛中的分压高于所述一次生长步骤中碳源气体的分压。该方法工艺简单,可大规模生产,单晶畴区尺寸达到亚厘米级,单晶质量高,能适用于电子学上的应用。

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