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公开(公告)号：CN113851701B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202111112392.7
申请日：2018-08-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: H01M10/0562 , H01M10/0525
Abstract: 本发明涉及一种均匀溶液，其含有包含Li、S和P的元素的化合物作为溶质，含有有机溶剂作为溶剂，该均匀溶液在拉曼测定中至少在313±10cm－1、391±10cm－1、483±10cm－1、及589±10cm－1具有峰，该包含Li、S和P的元素的化合物为将Li2S和P2S5以Li2S/P2S5＝1.0～1.85的摩尔比含有的化合物。
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公开(公告)号：CN112639538B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN201980057674.6
申请日：2019-08-21
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 根据本发明，可以提供：包含下述(a)化合物和/或(b)化合物、以及(c)化合物的光学材料用组合物。优选下述(a)化合物和/或(b)化合物的比率为0.001～30.0质量％的方案。其中，(a)化合物：下述(1)式所示的化合物；(b)化合物：下述(2)式所示的化合物；(c)化合物：环硫化合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118251516A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280076110.9
申请日：2022-11-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种水性组合物；以及使用其的铜箔的粗糙化方法、和粗糙化铜箔的制造方法、以及粗糙化铜箔、使用其的柔性印刷电路板，该水性组合物用于对压延铜箔的表面进行粗糙化，含有过氧化氢(A)、硫酸(B)、以及唑化合物(C)和/或其盐，前述水性组合物中的过氧化氢(A)的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.1～5质量％，前述水性组合物中的硫酸(B)的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.5～15质量％，前述水性组合物中的唑化合物(C)的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.01～0.3质量％，前述水性组合物中的过氧化氢(A)与硫酸(B)的摩尔比以过氧化氢/硫酸的比表示为0.1～1.0的范围，前述唑化合物(C)为选自由苯并三唑化合物和四唑化合物组成的组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN118251446A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280074156.7
申请日：2022-10-21
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10 , C08K5/3445 , C08L79/08
Abstract: 一种聚酰亚胺树脂，其具有源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含：选自由源自下述式(a11)所示化合物的结构单元(A11)和源自下述式(a12)所示化合物的结构单元(A12)组成的组中的至少1者的结构单元(A1)；和源自下述通式(a2)所示化合物的结构单元(A2)，结构单元B包含源自下述通式(b1)所示化合物的结构单元(B1)。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118234556A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202280071444.7
申请日：2022-10-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种脱氧剂组合物，其含有：包含保水剂、溶胀剂、金属盐、水和铁的造粒物；以及，M值为55以上、且平均粒径为0.1μm以上且5.0μm以下的疏水性二氧化硅，前述疏水性二氧化硅的含量相对于前述造粒物100质量份为0.15质量份以上且0.5质量份以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114729122B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202080078721.8
申请日：2020-11-18
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/14
Abstract: 一种聚酰亚胺树脂，其具有：源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含：源自下述式(a‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1)，结构单元B包含：源自下述式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1)和源自下述式(b‑2)所示的化合物的结构单元(B‑2)。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN114555552B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202080071946.0
申请日：2020-10-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C47/228 , C07C47/232 , C07C47/542 , C07B61/00 , C07C45/45 , C07C45/62 , C11B9/00
Abstract: 本发明提供作为香料和调和香料原材料或其原料有用的、新型的醛化合物和其制造方法、以及含有前述化合物作为有效成分的香料组合物、和该化合物作为香料的应用。一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R为氢原子或甲基。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN114514217B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202080071270.5
申请日：2020-10-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C45/49 , C07C47/542
Abstract: 本发明的目的在于提供：在氟化氢及三氟化硼的存在下，使一氧化碳作用于包含特定的间二烷基苯的反应原料的、转化率及收率优异、且甲酰基化的区域选择性优异的2,4‑二烷基苯甲醛的制造方法。本发明的2,4‑二烷基苯甲醛的制造方法具有在氟化氢及三氟化硼的存在下，使一氧化碳作用于包含式(1)所示的间二烷基苯的反应原料，从而至少对(a)位置进行甲酰基化的工序；前述反应原料为含有大于90摩尔％的式(1)所示的间二烷基苯的二烷基苯，相对于式(1)所示的间二烷基苯1摩尔，三氟化硼的摩尔数为0.7摩尔以上且3.0摩尔以下。(式中，R1表示碳数1以上且3以下的烷基，R2表示苄基位为仲碳或叔碳的碳数2以上且7以下的链状或环状的烷基。其中，R2的碳数比R1的碳数大。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118159694A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280071198.5
申请日：2022-10-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C30B29/16 , C30B19/12 , H01L21/20 , H01L21/368
Abstract: 根据本发明可以提供一种β－Ga2O3/β－Ga2O3层叠体的制造方法，将作为溶质的Ga2O3与作为溶剂的PbO和Bi2O3混合并熔融，然后，使β－Ga2O3基板与得到的熔液直接接触，通过液相外延生长法使β－Ga2O3单晶在上述β－Ga2O3基板上生长，由此得到β－Ga2O3/β－Ga2O3层叠体。
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