公开(公告)号：CN117043229A

公开(公告)日：2023-11-10

申请号：CN202280020978.7

申请日：2022-03-15

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安孙子洋平 ,  石井健太郎 ,  村谷孝博

IPC: C08G73/10

Abstract: 一种聚酰亚胺前体组合物，其包含：相对于全部重复单元含有70摩尔％以上的通式(1)所示的重复单元的聚酰亚胺前体、和通式(2)所示的咪唑化合物。(式(1)中，X1为具有至少一个降冰片烷骨架的4价基团，R1及R2分别独立地为氢原子、碳数1～6的烷基或碳数3～9的烷基甲硅烷基，式(2)中，L1及L2分别独立地为氢原子、碳数1～6的烷基、羧基、和羟基，n为1～4的整数。)#imgabs0#

公开(公告)号：CN119234485A

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202380041601.4

申请日：2023-05-24

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安孙子洋平 ,  田山琢朗 ,  村谷孝博

IPC: H10K77/10 ,  B32B17/00 ,  B32B27/34 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 ,  H10K59/12

Abstract: 一种层叠体，其为TFT基板制造用的层叠体，其包含：玻璃制支撑基材、层叠于前述支撑基材上的第一无机膜、层叠于前述第一无机膜上的聚酰亚胺树脂和层叠于前述聚酰亚胺树脂上的第二无机膜，前述聚酰亚胺树脂具有下述通式(1)的结构单元或下述通式(2)的结构单元，且玻璃化转变温度为400℃以上。(X1为具有脂环式结构或芳香族环的基团，Y1为单键等。R1、R2为甲基等。h、i为0～4的整数，其中的至少一者为1～4的整数。n为0、1或2。)(X2包含下述通式(3)所示的4价基团，Y2为单键等。m为0、1或2。)(R为甲基等，p为1～4、k为1或2。)#imgabs0#

公开(公告)号：CN116323761A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180070346.7

申请日：2021-10-15

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安孙子洋平 ,  石井健太郎 ,  村谷孝博

IPC: C08G73/10

Abstract: 一种聚酰亚胺树脂，其包含源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含源自分子内具有2个降冰片烷骨架的四羧酸二酐的结构单元(A1)聚酰亚胺树脂，结构单元B包含源自下述式(b1)所示化合物的结构单元(B1)，结构单元B中的结构单元(B1)的比率为35摩尔％以上且95摩尔％以下。

公开(公告)号：CN115348987B

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202180023081.5

申请日：2021-03-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 村谷孝博 ,  星野舜 ,  大东葵 ,  三田寺淳

IPC: C08J5/18 ,  B32B27/34 ,  C08G73/10 ,  H01L21/02

Abstract: 一种聚酰亚胺薄膜，其为由聚酰亚胺树脂构成的聚酰亚胺薄膜，所述聚酰亚胺薄膜的层叠于厚度520μm的硅基板上时的曲率半径R大于20m。

公开(公告)号：CN112601777B

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN201980055224.3

申请日：2019-08-16

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 松丸晃久 ,  广瀬重之 ,  村山智寿 ,  村谷孝博

IPC: C08G73/10

Abstract: 本发明涉及一种聚酰亚胺树脂，其具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B，结构单元A包含选自由源自式(a‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1)、及源自式(a‑2)所示的化合物的结构单元(A‑2)组成的组中的至少一种结构单元；结构单元B包含选自由源自通式(b1‑1)所示的化合物的结构单元、及源自通式(b2‑1)所示的化合物的结构单元组成的组中的至少1种结构单元(B‑1)，提供能够形成无色透明性优异、进而低延迟量的薄膜的聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜。(式中，X1～X4分别独立地表示单键、碳数1～5的亚烷基、碳数2～5的烷叉基、‑S‑、‑SO‑、‑SO2‑、‑O‑或‑CO‑。)

公开(公告)号：CN116323762A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180070349.0

申请日：2021-10-15

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安孙子洋平 ,  石井健太郎 ,  村谷孝博

IPC: C08G73/10

Abstract: 一种聚酰亚胺树脂，其包含源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含源自分子内具有2个降冰片烷骨架的四羧酸二酐的结构单元(A1)，结构单元B包含源自下述式(b1)所示化合物的结构单元(B1)。

公开(公告)号：CN116096820A

公开(公告)日：2023-05-09

申请号：CN202180054779.3

申请日：2021-09-06

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安孙子洋平 ,  大东葵 ,  石井健太郎 ,  村谷孝博

IPC: C08L79/08

Abstract: 一种聚合物组合物，其包含聚合物(X)和下述通式(3)所示的化合物(Y)，所述聚合物(X)包含选自由下述通式(1)所示的重复单元和下述通式(2)所示的重复单元组成的组中的至少1种。(式(1)中，X1为具有脂环结构或芳香族环的4价的基团，X为单键等。式(2)中，X2为具有脂环结构或芳香族环的4价的基团，R1和R2分别独立地为氢、碳数1～6的烷基等，X为单键等。式(3)中，R3为碳数1～30的烷基等，n为0～2。)

公开(公告)号：CN113166412A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980077603.2

申请日：2019-11-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安孙子洋平 ,  星野舜 ,  村谷孝博 ,  关口慎司 ,  高田贵文

IPC: C08G73/10

Abstract: 一种聚酰亚胺树脂、以及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜，所述聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B，结构单元A包含源自下述式(a‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1)、源自下述式(a‑2)所示的化合物的结构单元(A‑2)，结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1)，结构单元B中的结构单元(B‑1)的比率为70摩尔％以上。

公开(公告)号：CN113166411A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980077586.2

申请日：2019-11-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安孙子洋平 ,  星野舜 ,  村谷孝博 ,  关口慎司 ,  高田贵文

IPC: C08G73/10

Abstract: 一种聚酰亚胺树脂、以及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜，所述聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B，结构单元A包含选自由源自下述式(a‑1‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1‑1)及源自下述式(a‑1‑2)所示的化合物的结构单元(A‑1‑2)组成的组中的至少一种结构单元(A‑1)，结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1)和结构单元(B‑2)，所述结构单元(B‑2)为选自由源自下述式(b‑2‑1)所示的化合物的结构单元(B‑2‑1)、源自下述式(b‑2‑2)所示的化合物的结构单元(B‑2‑2)、源自下述式(b‑2‑3)所示的化合物的结构单元(B‑2‑3)、源自下述式(b‑2‑4)所示的化合物的结构单元(B‑2‑4)、及源自下述式(b‑2‑5)所示的化合物的结构单元(B‑2‑5)组成的组中的至少一种，结构单元B中的结构单元(B‑1)的比率为70摩尔％以上。(式(b‑2‑2)中，R分别独立地为氢原子、氟原子或甲基，式(b‑2‑4)中，R1～R4分别独立地为一价的脂肪族基团或一价的芳香族基团，Z1及Z2分别独立地为二价的脂肪族基团或二价的芳香族基团，r为正整数。)

公开(公告)号：CN119894963A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202380065052.4

申请日：2023-09-13

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 星野舜 ,  村谷孝博 ,  铃木纮二 ,  石井健太郎 ,  田山琢朗

IPC: C08G73/10 ,  C08J5/18

Abstract: 一种聚酰亚胺薄膜的制造方法，其具有：工序1，在50～120℃下从包含具有聚酰胺酸部分的聚酰亚胺前体及溶剂的清漆中去除溶剂、进行干燥；及工序2，在300～400℃保持10～120分钟后，在420～500℃保持，从而进行酰亚胺化，所述聚酰胺酸部分具有源自四羧酸二酐的结构单元及源自二胺的结构单元，提供所述源自二胺的结构单元的二胺含有电离电势为7.10eV以上的二胺。