公开(公告)号：CN100441732C

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN03810270.6

申请日：2003-05-07

申请人： BTU国际公司

发明人： D·库马尔 ,  S·库马尔

IPC分类号： C23C14/22

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： 本发明提供了一种用于激发、调节和维持等离子体(615)的用于涂覆物体(250)的方法和装置。在一个实施例中，涂覆物体(250)表面的方法包括：在等离子体催化剂(240)存在的情况下通过使气体受到电磁辐射在腔(230)中形成等离子体(615)，并通过使用例如激光器(500)激发该材料(510)，将至少一种涂覆材料(510)加入等离子体(615)中。允许该材料(510)沉积在物体(250)的表面上以形成涂层。本发明还提供了各种类型的等离子体(240)催化剂。

公开(公告)号：CN1653868A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN03810275.7

申请日：2003-05-07

申请人： 达纳公司

发明人： S·库马尔 ,  D·库马尔

IPC分类号： H05H1/46 ,  H01J37/32

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： 本发明为各种等离子体加工和处理提供了用于等离子体激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，在惰性或活性等离子体存在的情况下，通过使多模处理腔中的气体受到频率介于大约1MHz和大约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。例如，惰性等离子体催化剂可以包括能够使局部电场变形而诱发等离子体的任何物体。活性等离子体催化剂可以包括在电磁辐射存在的情况下能够向气态原子或分子输送大量能量以从气态原子或分子激发出至少一个电子的任何粒子或高能波包。

公开(公告)号：CN1653866A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN03810267.6

申请日：2003-05-07

申请人： 达纳公司

发明人： S·库马尔 ,  D·库马尔

IPC分类号： H05H1/46 ,  H01J37/32

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： 本发明提供了使用多个辐射源的等离子体辅助方法和装置。在一个实施例中，在惰性或活性等离子体催化剂存在的情况下，通过使处理腔中的气体受到频率低于约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。使用控制器来延迟一个辐射源相对于另一个辐射源的激活。

公开(公告)号：CN1653851A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN03810277.3

申请日：2003-05-07

申请人： 达纳公司

发明人： S·库马尔 ,  D·库马尔 ,  M·L·大多尔蒂

IPC分类号： H05B1/02

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： 本发明提供了用于等离子体辅助热处理的方法和装置。该方法可以包括在等离子体催化剂(70)存在的情况下通过使气体受到电磁辐射在腔(14)中激发热处理等离子体，通过将该物体暴露与等离子体中加热该物体，以及维持将物体暴露于等离子体中足够长的时间周期，以改变该物体的至少一种材料特性。

公开(公告)号：CN1653205A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN03810270.6

申请日：2003-05-07

申请人： 达纳公司

发明人： D·库马尔 ,  S·库马尔

IPC分类号： C23C14/22

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： 本发明提供了一种用于激发、调节和维持等离子体(615)的用于涂覆物体(250)的方法和装置。在一个实施例中，涂覆物体(250)表面的方法包括：在等离子体催化剂(240)存在的情况下通过使气体受到电磁辐射在腔(230)中形成等离子体(615)，并通过使用例如激光器(500)激发该材料(510)，将至少一种涂覆材料(510)加入等离子体(615)中。允许该材料(510)沉积在物体(250)的表面上以形成涂层。本发明还提供了各种类型的等离子体(240)催化剂。

公开(公告)号：CN1652866A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN03810268.4

申请日：2003-05-07

申请人： 达纳公司

发明人： D·库马尔 ,  S·库马尔 ,  M·L·大多尔蒂

IPC分类号： B01J19/08

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： 本发明提供了一种渗碳物体表面区域的系统和方法，其包括：使气体受到产生于辐射源(52)的电磁辐射，在等离子体催化剂(70)存在的情况下来激发含碳等离子体。该方法还包括将该物体的表面区域暴露于等离子体一段足够长的时间以从等离子体将至少一部分碳通过第一表面区域转移到该物体。

公开(公告)号：CN105407565B

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201510817671.1

申请日：2011-05-03

申请人： 高知有限公司

发明人： 平夏斯·艾恩齐格 ,  艾兰·本-什穆尔 ,  亚历山大·比尔钦斯基 ,  阿米特·拉贝尔 ,  丹尼斯·迪卡洛夫 ,  迈克尔·西加洛夫 ,  约尔·比勃曼

IPC分类号： H05B6/68

CPC分类号： H05B6/705 ,  H05B1/02 ,  H05B6/00 ,  H05B6/6447 ,  H05B6/6455 ,  H05B6/68 ,  H05B6/686 ,  H05B6/687 ,  H05B6/688 ,  H05B6/70 ,  H05B6/72 ,  H05B2206/044 ,  Y02B40/143 ,  Y02B40/146

摘要： 本申请涉及模态分析。在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。

公开(公告)号：CN104685966B

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201280076157.1

申请日：2012-10-03

申请人： D·J·科雷亚伊达尔戈

发明人： D·J·科雷亚伊达尔戈

IPC分类号： H05B6/64

CPC分类号： H05B6/804 ,  F24H7/002 ,  F24H9/124 ,  F24H9/2021 ,  H05B6/70 ,  H05B2206/044 ,  H05B2206/045

摘要： 本发明涉及热加热器，所述热加热器包括：玻璃储存器(1)，所述玻璃储存器(1)设置有盖子(7)，磁控管(3)，所述磁控管(3)通过围绕储存器(1)的皮带或支撑边框(2)支撑，允许连续支撑磁控管并且将其设置在储存器(1)内，每个磁控管接收在主要交换器(5)上，所述主要交换器(5)依次接收在主交换器(6)上。螺线管(8)、杆式恒温器支撑件和水入口和出口设置在盖子上，混合阀(20)设置在盖子下方，所述混合阀通过控制器(17)连接至盖子并且通过活塞(15)致动，所述活塞(15)连接至螺线管。混合阀为双重过滤器阀。所使用的材料的特征在于允许几乎瞬时加热，减少能量消耗，并且针对例如军团杆菌的菌落繁殖进行有效保护。

公开(公告)号：CN102597792B

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201080050438.0

申请日：2010-05-12

申请人： 高知有限公司

发明人： 亚历山大·比尔钦斯基 ,  艾兰·本-什穆尔 ,  平夏斯·艾恩齐格 ,  阿米特·拉贝尔

IPC分类号： G01R29/10

CPC分类号： H05B6/705 ,  H05B1/02 ,  H05B6/00 ,  H05B6/6447 ,  H05B6/6455 ,  H05B6/68 ,  H05B6/686 ,  H05B6/687 ,  H05B6/688 ,  H05B6/70 ,  H05B6/72 ,  H05B2206/044 ,  Y02B40/143 ,  Y02B40/146

摘要： 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元素中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元素中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元素而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。

公开(公告)号：CN104685966A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201280076157.1

申请日：2012-10-03

申请人： D·J·科雷亚伊达尔戈

发明人： D·J·科雷亚伊达尔戈

IPC分类号： H05B6/64

CPC分类号： H05B6/804 ,  F24H7/002 ,  F24H9/124 ,  F24H9/2021 ,  H05B6/70 ,  H05B2206/044 ,  H05B2206/045

摘要： 本发明涉及热加热器，所述热加热器包括：玻璃储存器(1)，所述玻璃储存器(1)设置有盖子(7)，磁控管(3)，所述磁控管(3)通过围绕储存器(1)的皮带或支撑边框(2)支撑，允许连续支撑磁控管并且将其设置在储存器(1)内，每个磁控管接收在主要交换器(5)上，所述主要交换器(5)依次接收在主交换器(6)上。螺线管(8)、杆式恒温器支撑件和水入口和出口设置在盖子上，混合阀(20)设置在盖子下方，所述混合阀通过控制器(17)连接至盖子并且通过活塞(15)致动，所述活塞(15)连接至螺线管。混合阀为双重过滤器阀。所使用的材料的特征在于允许几乎瞬时加热，减少能量消耗，并且针对例如军团杆菌的菌落繁殖进行有效保护。