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公开(公告)号：CN115453670B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202211205068.4
申请日：2022-09-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请属于微纳光子技术领域，为解决基于PB相位设计的超透镜只能聚焦单一的出射分量的问题，提出一种反射式正交圆偏振双聚焦超透镜及设计方法，基底上表面沉积的由纳米柱按照固定周期排布的纳米柱阵列，纳米柱阵列的端面沉积一层纳米柱端面金属膜，基底上表面与纳米柱阵列之间的空隙部分沉积一层基底表面金属膜；所述纳米柱上端面为倾斜平面，倾斜平面边界呈椭圆形，不同纳米柱上端面的倾斜平面具有不同的方位角、长轴、短轴、中心厚。纳米柱端面金属膜在入射光的激发下产生表面等离子激元共振，使反射场中的同向偏振分量产生共振相位，同时通过改变纳米柱的方位角实现反射场中交叉偏振分量不同的相位响应，使得交叉偏振分量也能被聚焦。
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公开(公告)号：CN114578577A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210222458.6
申请日：2022-03-09
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于单片式全介质空间复用超透镜的宽带全斯托克斯偏振‑光谱成像装置，基于单片式全介质空间复用超透镜(SMM)的宽带高集成度的单片式全斯托克斯偏振‑光谱(FSPS)成像技术。SMM由三组空间复用离轴子超透镜组成，在1400nm至1700nm的近红外宽带波长范围内，分别同时对三个正交偏振基工作。每个子超透镜的有效孔径只有整个全口径超透镜的1/3，并以稀疏孔径的方式排列形成整个SMM，每个子超透镜的光学分辨率达到全口径超透镜的衍射极限，线偏振光和圆偏振光的平均偏振消光比以及全斯托克斯参数(S1、S2和S3)的平均误差分别达到32.8：1和6.1％。所制备的SMM的能量效率在设计波长处达81.8％，在300nm带宽内平均达到60％，打破传统基于偏振器的偏振成像方法50％的限制。
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公开(公告)号：CN113341488A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110602203.8
申请日：2021-05-31
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/00
Abstract: 本申请公开基于过渡金属膜层的可见光宽带完美吸收器及制备方法。该可见光宽带完美吸收器，包括：基底，所述基底自下而上依次层叠设置有：高反射金属膜层、透明电介质中间层、过渡金属膜层及透明电介质顶层，基于等效光学导纳等于空气的原理，实现了零反射率的效果，高反射金属膜层使得透过率为零，从而使可见光宽带完美吸收器实现覆盖可见光波段的“完美吸收”，该光完美吸收器在可见光波段可以实现超过99％的吸收率，且对于入射角度和光的偏振性不敏感，结构工艺简单、成品率高，适用于大面积制备。
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公开(公告)号：CN113130296A
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN202110300393.8
申请日：2021-03-22
Applicant: 苏州大学
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明公开了一种六方氮化硼上生长氮化镓的方法，采用化学气相沉积法，在铜箔上生长得到六方氮化硼；降温处理使其表面出现连续且均匀的褶皱；将铜箔上具有褶皱的六方氮化硼转移到其它衬底上作为生长氮化镓的插入层；利用氧等离子体处理六方氮化硼褶皱；采用金属有机化学气相沉积法，生长低V/III比氮化镓成核层；采用金属有机化学气相沉积法，生长高V/III比氮化镓层。本发明采用氧等离子体处理六方氮化硼褶皱，在六方氮化硼褶皱处形成缺陷和原子台阶，以六方氮化硼褶皱边缘为成核点，侧向生长形成完整连续的氮化镓薄膜。侧向生长的过程也减少了外延层中的位错，进一步提高了氮化镓的晶体质量，具有很强的实用性。
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公开(公告)号：CN111983827A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010852605.9
申请日：2020-08-21
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯吸收增强的近红外宽波段光开关，包括：衬底，以及覆盖在衬底上的调制层，调制层上通过光刻-镀膜设有介质层和金属纳米圆柱阵列，金属纳米圆柱阵列作为电极一，调制层上通过镀膜设有电极二，调制层为石墨烯；石墨烯层直接生长或者转移至衬底上，所述石墨烯层上施加有垂直方向的直流偏置电压，介质层的材料为光刻胶，光刻胶通过旋涂机旋涂于调制层的上方，通过二次双光束全息光刻工艺形成介质层，本发明提供一种基于石墨烯吸收增强的近红外宽波段光开关，以解决现有石墨烯光开关调制深度较低和制备复杂的问题，实现了一种与入射偏振无关，结构和制备相对简单，具有优异调制深度和调制带宽的反射式光开关。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111458906A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN202010350642.X
申请日：2020-04-28
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明属于光学器件领域，为提高调制器调制深度和带宽提出一种基于石墨烯等离子体的宽带透射式红外光调制器，包括衬底，衬底上覆盖有石墨烯调制层，调制层上通过镀膜-刻蚀设有非金属光栅层，非金属光栅层上通过镀膜设有金属光栅层，衬底两侧分别通过镀膜设有电极一与电极二。通过将石墨烯与非金属光栅层耦合，利用金属光栅的优异偏振特性和对石墨烯局域表面等离子激元进一步增强的场约束能力，从而大幅提高器件的调制深度和调制带宽，该结构对TE线偏振入射光具有强反射，对TM线偏振入射光可实现在宽波段范围内高调制深度的透射调制，该特性可实现在自然光入射时，对透射光具有高调制深度、宽调制带宽的调制功能。
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公开(公告)号：CN110829181A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911124274.0
申请日：2019-11-18
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明属于半导体微腔激光器领域，为解决六边形回音壁模式品质因子低与三角形回音壁模式出射难的问题：公开了一种双三角回音壁光谐振模式的半导体六边形微米碟激光器，该装置利用高折射率增益材料的受激辐射物理特性，通过反射衬底提供底面的光反射来降低微腔激光器垂直方向光学损耗，半导体六边形微米碟作为光学谐振腔与激光增益物质，激光器作为光学泵浦源提供光学增益，当泵浦源功率超过微腔激光器阈值后产生激光出射；通过控制泵浦源激光光斑位于六边形微米碟角落，在受激辐射后产生双三角回音壁光学谐振模式的激光出射。本发明相比较常规六边形和三角形回音壁光谐振模式的激光器同时具有高的品质因子和易于激光出射的优点。
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公开(公告)号：CN110333566A
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201910627880.8
申请日：2019-07-12
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/20
Abstract: 本发明公开了一种全介质滤波器，所述全介质滤波器包括衬底、第一介质层和第二介质层，所述第一介质层具有线栅结构，所述第一介质层设置在所述衬底上；所述第二介质层设置在所述第一介质层上；所述第二介质层的折射率高于所述第一介质层的折射率。本发明实施例的滤波器利用高、低两种折射率不同的第一介质层和第二介质层，实现在TM光波入射下大大减小透过率，以保证只有正入射的光能透过角度滤波器。实验结果展示了高效的滤波性能。本发明实施例的滤波器在定向照明和图像整形方面有着重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN108563040A
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201810014194.9
申请日：2018-01-08
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯/金属混合结构的光开关，包括衬底反射层，所述衬底反射层用于反射入射光；介质层，所述介质层设在所述衬底反射层上；石墨烯层，所述石墨烯层包括至少一层石墨烯，所述石墨烯层设在所述介质层上，所述衬底反射层、所述介质层和所述石墨烯层构成电容结构；金属结构层，所述金属结构层设在所述石墨烯层上；金属电极，所述金属电极分别设于所述衬底反射层和所述石墨烯层；以及电压源，所述电压源分别与所述石墨烯层和所述金属结构层连接，通过所述电压源向所述石墨烯层施加电压以影响所述金属结构层的等离子共振效应。根据本发明实施例的光开关，在石墨烯层上制作金属结构层，给石墨烯施加电压改变石墨烯光学性质，影响金属结构层的等离子共振效应，从而实现光开关的功能。
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