一种压控可调薄膜电感
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1921164A

    公开(公告)日:2007-02-28

    申请号:CN200510021533.9

    申请日:2005-08-26

    Abstract: 本发明公开了一种压控可调薄膜电感,它是在压电陶瓷基底上,制备包含磁性层的薄膜电感,利用压电陶瓷的逆压电效应和磁性薄膜的逆磁致伸缩效应,通过外加电压,调节压电陶瓷基底的形变,改变磁性薄膜的磁导率,最终实现薄膜电感值大小的调节。这种压控可调薄膜电感可广泛应用到移动通讯系统、T/R组件、GPS、滤波器组件、低噪声压控振荡器、网络阻抗匹配等系统。

    一种微波/射频微机械开关及其制备方法

    公开(公告)号:CN1624846A

    公开(公告)日:2005-06-08

    申请号:CN200310111073.X

    申请日:2003-12-03

    Abstract: 本发明提供的一种微波/射频微机械开关,它包括:锚位1,基底2,信号线5,悬臂梁6,接触金属层7,信号线8,外加磁场导线9,磁致伸缩层10,其特征是它还包括磁致伸缩层10;在基底2上为锚位1、外加磁场导线9以及信号线5和8平行排列;悬臂梁6的固定端在锚位1上,悬空部分位于外加磁场导线9以及信号线5和8正上方;磁悬臂梁6上为磁致伸缩层10;接触金属层7位于悬臂梁6悬空部分的正下方。本发明的磁致伸缩型微波/射频微机械开关具有驱动电压低、响应时间短的特点。

    一种柔性薄膜结构制备方法
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118241270A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410339582.X

    申请日:2024-03-22

    Abstract: 本发明属于柔性电子领域,具体涉及了一种柔性薄膜结构的制备方法,用于柔性器件研究中实现对柔性薄膜结构的快速、大批量制备。具体为使用电化学沉积法在离子注入晶圆的注入侧沉积一层铜(Cu)或镍(Ni)等常见电化学沉积金属作为薄膜的机械支撑衬底,利用离子注入剥离技术(CIS)将离子注入晶圆上的薄膜剥离,最终获得金属衬底厚度在微米量级,薄膜厚度在微米或者亚微米量级的柔性薄膜结构。本发明使用电化学沉积法生长金属衬底实现耐高温柔性金属衬底与薄膜材料的结合,解决了传统键合方案中键合材料或不耐受高温或键合状态不稳定的问题,可有效增强柔性薄膜结构的可靠性与稳定性。总之,以电化学沉积金属层作为衬底可提升柔性器件的极限工作温度,拓展应用场景,同时在整个工艺过程中,电化学沉积工艺成熟可靠、成本低廉、适合大规模制备柔性薄膜结构。

    一种多旋翼水空跨介质航行器的电驱动折叠臂装置

    公开(公告)号:CN117227374A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202311408781.3

    申请日:2023-10-27

    Abstract: 本发明公开了一种多旋翼水空跨介质航行器的电驱动折叠臂装置,包括基座、折叠座、防水舵机、机臂、传动轴以及压紧块;所述传动轴竖直放置,基座和折叠座安装在传动轴上,所述基座和折叠座绕传动轴转动;所述传动轴远离传动轴的端部连接机臂,所述防水舵机设置于基座内部,防水舵机长度方向两端设置外耳,外耳上设置安装孔,将防水舵机卡入压紧块中并固定在压紧块上;防水舵机提供动力使折叠座以传动轴为轴线完成任意角度的摆动。本发明在避免使舵机承受额外弯矩的同时,可以使大型无人机在不需要飞行时将机臂折叠,以减小收纳体积,方便运输。

    基于近场扫描微波显微镜的电阻率测量方法

    公开(公告)号:CN114895106A

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN202210309868.4

    申请日:2022-03-28

    Abstract: 基于近场扫描微波显微镜的电阻率测量方法,涉及材料测量技术。本发明包括下述步骤:1)采用近场扫描微波显微镜在给定距离下测量预定数量的、电阻率已知的各样品的品质因数和谐振频率,形成品质因数比值/电阻率关系曲线,以及谐振频率比值/电阻率曲线;2)测量目标物的品质因素和谐振频率,计算出目标物品质因数比值和目标物谐振频率比值,3)将前述目标物谐振频率比值与谐振频率比值/电阻率曲线进行比对,并将前述目标物品质因数比值与品质因数比值/电阻率曲线进行比对,得到目标物的电阻率的数值。本发明可准确测量目标物的电阻率。

    基于自旋泵浦-逆自旋霍尔效应的微波磁场探测器及方法

    公开(公告)号:CN109164400B

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN201810994328.8

    申请日:2018-08-29

    Abstract: 本发明提供一种基于自旋泵浦‑逆自旋霍尔效应的微波磁场探测器及探测方法,利用磁控溅射镀膜工艺和光刻工艺在3个SiO2基片上分别制备完全相同的n个串联的条状Py/Ta复合双层薄膜,薄膜的长宽比值在200以上,薄膜内的微波感应电流被限制在薄膜的长边方向;3个基片彼此互相垂直,且3个基片的公共顶点与原点重合;对于每个SiO2基片,都施加一个与薄膜长边垂直且从0开始增大的直流磁场,此磁场增大到某值a后,再从0开始增大到a,此过程一直循环,通过测量3个SiO2基片上串联的条状薄膜两端的电压得到空间微波磁场在x、y、z方向上的分量hx、hy、hz,本发明可以一次性测量空间微波磁场矢量,并且通过串联的方式增大逆自旋霍尔电压信号,大大提高了灵敏度。

    一种高空间分辨率的涡流检测传感器

    公开(公告)号:CN109682882A

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201910082966.7

    申请日:2019-01-24

    CPC classification number: G01N27/90 G01N27/9033

    Abstract: 一种涡流检测传感器,属于无损检测技术领域。涡流检测传感器包括磁芯、绕制在磁芯本体上的激励线圈和磁场传感器,所述磁芯面向被检导体表面所在端形成尖锐凸起并在凸起端开口形成缝隙,磁场传感器设置在所述缝隙与被检导体面平行的平面内。磁场传感器将缝隙处聚集的磁场与被检导体作用形成的磁信号转换为电信号输出。本发明显著减小了磁场作用范围,进而提高了空间分辨率。运用本发明传感器检测缺陷能够清晰反映被检缺陷的轮廓和大小以及精确位置,有利于进一步辨识缺陷,进而评估导体缺陷所带来的影响。并且通过设计不同的磁芯结构来大幅度增加激励线圈的匝数以适当减小激励信号的电流,避免了因激励线圈发热严重而造成的测量误差。

    一种La<base:Sub>3</base:Sub>Ga<base:Sub>5</base:Sub>SiO<base:Sub>14</base:Sub>薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN104876231B

    公开(公告)日:2017-07-11

    申请号:CN201510249584.0

    申请日:2015-05-15

    Abstract: 一种La3Ga5SiO14薄膜的制备方法,属于薄膜材料制备领域。包括以下步骤:1)以硝酸镓、硝酸镧作为前驱物,硅酸四乙酯提供硅源,柠檬酸作为螯合剂,乙醇作为溶剂配制前驱体溶胶;2)将前驱体溶胶涂覆于基片上,放入管式炉内150~200℃热处理60~90min;3)将前驱体溶胶涂覆于上步得到的基片上,放入管式炉内300~400℃热处理60~90min;4)交替进行步骤2)、步骤3)的操作,完成4~20次旋涂和热处理后,将基片放入管式炉内,在1200~1300℃热处理1~5h,冷却,即在基片上得到LGS薄膜。本发明工艺简单,成本低廉,降低了对实验环境的要求,且得到的LGS薄膜表面致密。

    一种测试磁性材料的铁磁共振线宽面内分布的方法及系统

    公开(公告)号:CN106872917A

    公开(公告)日:2017-06-20

    申请号:CN201710123217.5

    申请日:2017-03-03

    Abstract: 本发明公开了一种测试磁性材料铁磁共振线宽面内分布的方法及系统,涉及磁性材料参数测试技术领域。本发明能够克服现有技术中微波探针尖端在测试磁性材料中形成微波磁场很弱的缺点,本发明通过增强微波探针的尖端在磁性材料中形成的微波磁场,使得矢量网络分析仪获得更强的返回信号,进而能够用于测试更薄的磁性薄膜的铁磁共振线宽;本发明能够通过分析磁性薄膜样品各区域的铁磁共振线宽的差异进一步反映磁性薄膜的均匀性,相比于传统的光学测试方法具有快速、简便的优势。

    一种氮化铝压电薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN104805405B

    公开(公告)日:2017-05-03

    申请号:CN201510150589.8

    申请日:2015-04-01

    Abstract: 一种氮化铝压电薄膜及其制备方法,属于压电薄膜制备技术领域。该氮化铝压电薄膜,包括钛合金基片,所述钛合金基片上由下而上依次设置有氮化铝过渡层和氮化铝功能层,所述氮化铝过渡层中铝元素与氮元素的比例范围为1:1.3~1:1.5,氮化铝功能层中铝元素与氮元素的比例范围为1:0.9~1:1.1,氮化铝过渡层和氮化铝功能层的整体厚度范围为1.5~6μm,c轴取向,应力范围为50~500MPa。本发明采用同质过渡层技术,通过引入过渡层,提高了薄膜的附着性,克服了钛合金表面粗糙度大的不利影响,在与氮化铝晶格匹配度低的钛合金表面制备了高取向低缺陷的氮化铝薄膜。利用中频磁控溅射设备制备氮化铝薄膜,工艺简单易行,沉积速度快,成本低廉;适用于制备氮化铝压电薄膜。

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