一种制备高性能层级热障涂层体系的方法

    公开(公告)号:CN105886994B

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201610228040.0

    申请日:2016-04-13

    Abstract: 本发明公开一种制备高性能层级热障涂层体系的方法,包括以下步骤:第一步,在基体表面制备合金粘接层;第二步,利用超音速等离子体射流对合金粘接层进行表面改性处理;第三步,在改性后的合金粘接层表面制备单层或多层陶瓷材料涂层,获得热障涂层体系。本发明采用内送粉超音速大气等离子喷涂方法获得由高温合金粘接层及陶瓷表层组成的层级热障涂层体系,与传统热障涂层制备方法相比,有效地避免了因工艺转换而引起的涂层制备效率低、质量批次稳定性差等问题,对提高热障涂层的高温服役寿命具有重要的应用价值,在航空涡轮发动机及重型燃气轮机等国防尖端工业中具有广阔的应用前景,具有巨大的经济及社会效益。

    一种显化氧化锆基热障涂层晶粒形态的方法

    公开(公告)号:CN104808016B

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201510161679.7

    申请日:2015-04-07

    Abstract: 本发明公开了一种显化氧化锆基热障涂层晶粒形态的方法,通过对等离子喷涂涂层的抛光面以不同温度及保温时间进行热蚀显化实验,最大程度地揭示了熔滴扁平凝固后的结晶形态。利用扫描电子显微镜,确定出显化涂层内部晶粒形貌、晶粒尺寸、晶界等信息的最佳热蚀工艺,并借助图像法定量表征等离子喷涂YSZ涂层在极快的冷却速率下的凝固结晶形态及尺寸分布范围。这一方法不仅对不同喷涂方法沉积不同级别陶瓷涂层微观结构内部晶粒形态及尺寸的表征具有重要的借鉴意义,而且对理解等离子喷涂制备高性能热障涂层的形成机理及结构设计具有重要的理论价值。

    一种等离子喷涂中粒子飞行参数的在线测量装置与方法

    公开(公告)号:CN106644854A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201611000101.4

    申请日:2016-11-14

    Abstract: 一种等离子喷涂中粒子飞行参数的在线测量装置与方法,装置包括热窗口片,由等离子体射流中单个飞行粒子发出的热辐射经热窗口片后,依次通过带通滤波片、相机镜头,成像到单彩色CCD相机的芯片上,高温粒子自身的热辐射经过带通滤波片,将等离子体射流中高强度的等离子体自身及粒子表面蒸发的元素的线状光谱滤除后由相机镜头聚焦到单彩色CCD相机的芯片上,得到带通滤波片波段范围的粒子的飞行轨迹,单彩色CCD相机与计算机连接,在线监测粒子参数,本发明不仅能够在线测量高温等离子体喷涂射流中单个飞行粒子的温度、速度、粒径的大小,同时也能够获取单个粒子飞行过程中的温度变化的规律,还可以统计分析多个粒子的温度、速度、粒径的大小分布。

    一种纯α碳化硅晶须的制备方法

    公开(公告)号:CN102534796B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201110455192.1

    申请日:2011-12-21

    Abstract: 一种纯α碳化硅晶须的制备方法,将质量百分比为80~99.5%碳化硅与0.5~20%铁粉或者镍粉均匀混合装入石墨坩埚内;将石墨坩埚装入中频感应烧结炉中,炉内压力小于103Pa,充入氩气至炉内压力大于4×104Pa;将石墨坩埚加热至2250~2600℃,碳纤维毡的辐射孔处的温度为1900~2100℃,抽气至气压在1×104~2×104Pa,保温0.5~4h,使晶须在碳纤维毡的开孔处通过气-液-固(VLS)机理进行形核生长;将气压充至0.6×105~1×105Pa,随炉冷却至室温,得到黄色、绿色或无色的碳化硅,本发明工艺简单,生产周期短。

    超音速等离子喷涂陶瓷熔滴扁平化形貌的测试方法

    公开(公告)号:CN104034640A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410247520.2

    申请日:2014-06-05

    Abstract: 本发明公开了一种超音速等离子喷涂陶瓷熔滴扁平化形貌的测试方法,其特征在于,利用“V”型狭缝法在光滑基体上收集超音速飞行的陶瓷熔滴,并通过高速摄影及双波长辐射强度比值法对熔滴的飞行速度及表面温度进行实时检测;利用三维激光显微镜中作为光源的激光对样品进行逐层扫描和成像,计算机进行图像处理的技术来反推粒子原始直径,定量表征单个熔滴的扁平化行为,本发明可测量大范围温度、速度下粒子的原始直径,获得熔滴的超音速飞行参量。可以对等离子喷涂过程中粒子的扁平率、飞溅形貌进行定量表征,并对超音速等离子射流中熔滴的细化程度进行统计。

    一种多孔Si3N4基体表面覆涂h-BN涂层的方法

    公开(公告)号:CN101817684B

    公开(公告)日:2012-08-15

    申请号:CN201010132482.8

    申请日:2010-03-25

    Abstract: 一种多孔Si3N4基体表面覆涂h-BN涂层的方法,步骤为:一、按质量比将Si3N4、Y2O3、Al2O3和石油焦混合球磨制得料浆;二、将料浆干燥,过筛,将得到的粉末压成生坯,在N2气氛中烧结获得Si3N4基体;三、将Si3N4基体清洗,然后烘干,再将H3BO3覆涂在Si3N4基体表面;四、将覆涂有H3BO3的Si3N4基体加热,在Si3N4基体表面得到均匀的B2O3;五、将步骤四中表面具有B2O3的Si3N4基体加热,利用碳热还原反应得到Si3N4基体表面覆涂有h-BN涂层,本发明具有成本低,操作简单的特点,制备的复合结构综合了两种陶瓷材料的优点,可以在金属成型模具方面得到广泛应用。

    一种纯α碳化硅晶须的制备方法

    公开(公告)号:CN102534796A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201110455192.1

    申请日:2011-12-21

    Abstract: 一种纯α碳化硅晶须的制备方法,将质量百分比为80~99.5%碳化硅与0.5~20%铁粉或者镍粉均匀混合装入石墨坩埚内;将石墨坩埚装入中频感应烧结炉中,炉内压力小于103Pa,充入氩气至炉内压力大于4×104Pa;将石墨坩埚加热至2250~2600℃,碳纤维毡的辐射孔处的温度为1900~2100℃,抽气至气压在1×104~2×104Pa,保温0.5~4h,使晶须在碳纤维毡的开孔处通过气-液-固(VLS)机理进行形核生长;将气压充至0.6×105~1×105Pa,随炉冷却至室温,得到黄色、绿色或无色的碳化硅,本发明工艺简单,生产周期短。

    一种结晶器铜板表面超音速大气等离子喷涂氧化锆的方法

    公开(公告)号:CN102352477A

    公开(公告)日:2012-02-15

    申请号:CN201110318919.1

    申请日:2011-10-19

    Abstract: 一种结晶器铜板表面超音速大气等离子喷涂氧化锆的方法,包括以下步骤:首先对结晶器铜板基体进行表面预处理;其次,在经过预处理的基体表面喷涂粘结涂层;然后在粘结涂层上喷涂氧化锆基面层;最后对步骤三的产品进行热处理,将基体和涂层温度控制在基体再结晶温度以下,采用本发明后,结晶器铜板基体与涂层结合强度高,涂层具有高的显微硬度、低的表面粗糙度和孔隙率,优良的高温磨损性能和抗热震性能,涂层的应用可有效提高结晶器的服役寿命,也可应用于其它铜或铜合金构件的表面强化与修复。

    一种多孔Si3N4基体表面覆涂h-BN涂层的方法

    公开(公告)号:CN101817684A

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN201010132482.8

    申请日:2010-03-25

    Abstract: 一种多孔Si3N4基体表面覆涂h-BN涂层的方法,步骤为:一、按质量比将Si3N4、Y2O3、Al2O3和石油焦混合球磨制得料浆;二、将料浆干燥,过筛,将得到的粉末压成生坯,在N2气氛中烧结获得Si3N4基体;三、将Si3N4基体清洗,然后烘干,再将H3BO3覆涂在Si3N4基体表面;四、将覆涂有H3BO3的Si3N4基体加热,在Si3N4基体表面得到均匀的B2O3;五、将步骤四中表面具有B2O3的Si3N4基体加热,利用碳热还原反应得到Si3N4基体表面覆涂有h-BN涂层,本发明具有成本低,操作简单的特点,制备的复合结构综合了两种陶瓷材料的优点,可以在金属成型模具方面得到广泛应用。

    一种环氧树脂表面交替喷涂嵌入型复合涂层及制备方法

    公开(公告)号:CN119410014A

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202411567930.5

    申请日:2024-11-05

    Abstract: 本发明公开了一种环氧树脂表面交替喷涂嵌入型复合涂层及制备方法,属于复合涂层技术领域,将热塑性聚酰亚胺粉料、热固性聚酰亚胺粉料、纳米氧化铝粉末、去离子水与粘结剂混合,球磨后喷雾造粒,得到聚酰亚胺‑纳米Al2O3复合粉末;在树脂基复合材料上交替喷涂聚酰亚胺‑纳米Al2O3复合粉末和Al2O3粉末。本发明中引入聚酰亚胺‑纳米Al2O3复合材料作为过渡层,保证玻纤增强树脂基复合材料和氧化铝陶瓷层的高结合,提高基体的耐温性和耐磨性。氧化铝在聚合物基纳米复合涂层中呈嵌入结构,结合强度最高达到20 MPa,电阻率最高达到71 TΩ·cm。相比于纯基体,烧蚀150次后抗弯强度为235 MPa,提高了28%,并显示出优异的抗等离子烧蚀性能。

Patent Agency Ranking