一种绝对光栅信号处理方法

    公开(公告)号:CN103560780B

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201310556667.5

    申请日:2013-11-11

    Abstract: 一种绝对光栅信号处理方法,所述信号处理方法包括以下步骤:首先,在由信号处理板卡提供的时钟信号CLK0I+、CLK0I-的激励下,绝对光栅的数据信号DATA0I+、DATA0I-共模滤波后经差分收发模块I传输给可编程逻辑器件,可编程逻辑器件对输入信号处理后输出两路与输入信号相同的信号,一路信号经差分收发模块II并共模滤波后传输给驱动器,令一路信号经差分收发模块III并共模滤波后传输给上位机。本发明将绝对光栅信号一分为二,实现了驱动器和上位机同时需要位置反馈时反馈给上位机的位置信号是绝对信号,使得上位机控制系统有效地发挥了绝对光栅相比于增量光栅在位置控制中的优势。

    一种磁流体动量球
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105141089A

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:CN201510587640.1

    申请日:2015-09-15

    CPC classification number: B64G1/24 H02K16/00

    Abstract: 一种磁流体动量球,用于卫星姿态调整,所述磁流体动量球包含定子和一个球壳;所述定子分为三组,三组定子的轴线相互正交,每组包括两个定子,每组中的两个定子以球壳的球心对称布置,定子内表面为球面;所述球壳采用两个半球壳组合而成,球壳材料为非铁磁性材料,定子内表面紧贴球壳外表面,球壳和定子内表面无相对运动,球壳内填充磁流体。本发明中采用磁流体的转动进行卫星姿态调整,体积和质量小,成本低,各轴之间耦合小;本发明中磁流体动量球的球壳不转动,制造简单,结构紧凑;磁流体与球壳之间的摩擦小、损耗低,可靠性和效率高。

    一种具有六自由度粗动台的掩模台系统

    公开(公告)号:CN103186058B

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201310048778.5

    申请日:2013-02-06

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种具有六自由度粗动台的掩模台系统,主要用于光刻机系统中。该系统包括粗动台、精动台和机架;粗动台含有一个粗动台台体、驱动装置和粗动台重力平衡组件,粗动台台体设置在精动台的外部,将精动台包围在中间;驱动装置包括两组关于X轴方向对称布置的X方向直线电机和四组同时驱动Y方向和Z方向的两自由度直线电机,实现粗动台的六自由度运动。六自由度粗动台与六自由度精动台配合,在调整掩模台姿态的同时既提高了掩模台的速度、加速度和控制带宽,又满足了高运动精度和定位精度的要求,进而提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。

    一种光刻机工件台系统

    公开(公告)号:CN103309177B

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201310243147.9

    申请日:2013-06-19

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种光刻机工件台系统,包含机架、基台、分别运行于曝光工位和预处理工位的两个硅片台,以及测量光栅、双频激光器、三自由度外差光栅干涉仪和信号接收与处理部件。在每个硅片台四角处各安装一个三自由外差光栅干涉仪,测量光栅安装于硅片台上方的机架上。双频激光器出射的双频正交偏振激光经光纤传输至三自由度外差光栅干涉仪后至测量光栅,测量光栅的四束衍射光回射至三自由度外差干涉仪,最终出射四束测量光信号至信号接收与处理部件。当硅片台相对于测量光栅运动时,利用信号接收与处理部件中的读数通过解算获取硅片台六自由位移。该光刻机工件台系统可提高硅片台的测量精度、动态性能等指标,进而提高光刻机工件台系统整体性能。

    带有浸液回收装置和激光干涉仪的硅片台双台交换系统

    公开(公告)号:CN103034073B

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN201210576830.X

    申请日:2012-12-26

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 带有浸液回收装置和激光干涉仪的硅片台双台交换系统,该系统含有基台,两个硅片台,光学透镜系统、多轴激光干涉仪和激光干涉仪反射镜。硅片台带有浸液回收装置,硅片台上表面的一侧设有一块浸液回收板,浸液回收板的上表面与硅片台上表面共面,浸液回收板的侧面有一排小孔,小孔与硅片台外部的浸液回收容器相连接,用于浸没液体的回收,硅片台外围四边设置一套防撞气囊装置。当两硅片台完成交换时,硅片台上的浸液回收板设计保证了交换时浸液循环不用中断,提高了生产效率;气囊式防撞结构具有可伸缩性,与机械式防撞相比刚度低,且结构简单紧凑,可应用于光刻机双台交换系统。

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