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公开(公告)号：CN117826221A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202311861529.8
申请日：2023-12-29
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种分析检测装置及乏燃料后处理系统，其中，分析检测装置包括：基座；承载平台，沿水平面内相互垂直的第一方向和第二方向可移动地设于基座；加速器组件和辐射源，辐射源沿第二方向位于加速器组件的一侧，辐射源用于接收加速器组件发出的射线而产生粒子；测量组件，相对于基座固定安装，用于容纳被检物以实现检测模式；标定组件，可拆卸地设置，用于容纳标定物以实现标定模式；屏蔽体，用于对辐射源、测量组件和标定组件进行射线防护；和探测器组件，沿第一方向设在屏蔽体一侧；加速器组件、屏蔽体和探测器组件均设在承载平台上，承载平台被配置为带动屏蔽体沿第一方向以到达或离开防护位置。
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公开(公告)号：CN114689965A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210187389.X
申请日：2022-02-28
Applicant: 中国石化集团胜利石油管理局有限公司电力分公司 , 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种基于嵌入式智能传感器的电力设备在线监测方法及系统，主要包括：采集各电力设备的数据信息，并对数据信息进行划分，获得若干个数据组；基于预测模型，判断各数据组的故障状态，并对存在故障的数据组进行标记标签；对标记标签的数据组进行分析，获得电力设备的故障信息。本发明采用嵌入式智能传感器对终端电力设备进行数据信息采集和预处理，并利用边缘计算和分布式计算协同运行技术对终端数据进行计算，诊断潜在安全隐患及电力设备使用寿命，减少电力设备故障率，实现可靠进行全寿命周期预测。通过把计算、存储、应用的资源放在网络的边缘侧，以便减少传输延迟和带宽消耗，通过可以根据实时网络信息提供可感知的服务。
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公开(公告)号：CN106917821B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201511001030.5
申请日：2015-12-28
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
IPC: F16C32/06
Abstract: 一种平面电机永磁体阵列气浮表面的加工方法，属于超精密加工工艺技术领域。为了达到现有平面电机驱动的沿X方向、Y方向和绕Z轴旋转方向的三自由度精密运动平台的运动性能要求，满足现有运动平台上采用的气浮轴承的使用需要，本发明所述方法是：首先在清洁好的永磁阵列上表面和各永磁体之间各缝隙内涂上具有高渗透性的环氧树脂胶，并使其固化，经磨削粗加工后，再涂刷一层高耐磨的陶瓷防护剂材料，等其完全固化后，进行磨削粗、精细加工及人工研磨，得到所需的气浮平面。该方法可以获得更高的气浮平面度，还避免了在磨削精加工和研磨过程中被切削液污染腐蚀等问题，具有气浮面自身厚度小，重量轻，制造工艺简单快捷及成本低廉等优点。
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公开(公告)号：CN105141106B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201510587639.9
申请日：2015-09-15
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
IPC: H02K44/06
Abstract: 一种三自由度的运动工作台，主要应用于半导体光刻设备中。本发明含有一个动子、一个定子和一套位置测量系统，定子包含有一个基台、一个盖板和一组线圈阵列；一组线圈阵列设置在基台凹槽内，盖板设置在线圈阵列上部；动子包含有一磁性流体；所述的磁性流体设置在盖板的上表面，在线圈阵列产生的变化的磁场中在盖板上表面沿X方向、Y方向和θz方向做平面三自由运动；盖板上表面做表面疏水处理；所述的一套位置测量系统设置在动子的正上方。磁性流体作为动子可任意聚合或分散，承载物体时还可变换形状增大抓取的摩擦力，具有动子轻巧、灵活多变，结构简单等优点。
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公开(公告)号：CN106225685A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610743563.9
申请日：2016-08-26
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
Abstract: 一种硅片台大行程三自由度测量系统属于半导体制造装备技术领域，应用于硅片台在玻璃基板平面内沿X方向、Y方向和θz方向做平面三自由度运动的测量。该测量系统包含玻璃基板平面、硅片台、一维光电编码器。玻璃基板分成宽度相等的几部分，每部分刻有间距相等且相互平行的标志线，相邻两部分的标志线方向相互垂直。按要求在硅片台下表面布置四对一维光电编码器。当硅片台在玻璃基板表面运动时，采集三个或四个有效光电编码器的数据计算得出硅片台在xy平面内的位移和绕z轴的转动。这种测量系统可实现硅片台在玻璃基板上大行程运动过程中任意时刻的三自由度位移和角度的测量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103439867B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201310388961.X
申请日：2013-08-30
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于光刻机工件台的线缆台，主要应用于半导体光刻机中。该线缆台含有从平面电机引出的线缆束、X方向和Y方向直线导轨滑块机构、X方向直线电机和Y方向驱动装置。Y方向直线导轨滑块机构通过L型连接板与X方向直线导轨滑块机构的滑块连接；线缆束与X方向直线导轨滑块机构的滑块连接；Y方向驱动装置含有微型伺服电机、一个沿Y轴方向布置的同步带传动机构和悬臂支撑杆。本发明的线缆束与平面电机之间没有硬连接，线缆台可自由运动；通过线性光栅尺和光电位置探测器跟随的方式控制线缆台和平面电机动子之间的距离，避免了线缆束对平面电机动子运动的干扰，进而降低了线缆束对工作台的响应速度和运动过程中的速度和运动定位精度的影响。
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公开(公告)号：CN103309176B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201310239699.2
申请日：2013-06-17
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种带升降真空爪的六自由度微动台，含有实现微动工作台在水平面内沿X方向、Y方向和绕Z轴旋转的第一种电磁力驱动模块和实现微动工作台沿Z方向、绕X轴旋转和绕Y轴旋转的第二种电磁力驱动模块、真空吸盘、微动台上盖、升降真空爪和基座；真空吸盘设置在微动台上盖的上表面的凹槽内；升降真空爪布置在微动台上盖的下方，包括驱动模块、导向模块和测量模块；驱动模块是一个音圈电机，导向模块由两组微型滚珠导轨组成，测量模块是一个线性光栅尺传感器组件。本发明与现有六自由度微动台相比，由于增加了一个带升降真空爪，使得该六自由度微动台具有一个沿垂直方向的大行程的单自由度抬升与抓取功能，满足了光刻机对于硅片的抬升与抓取的要求。
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公开(公告)号：CN103226296B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201310152958.8
申请日：2013-04-27
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
Inventor： 朱煜 , 张鸣 , 杨开明 , 成荣 , 刘召 , 刘昊 , 徐登峰 , 张利 , 田丽 , 叶伟楠 , 张金 , 胡金春 , 穆海华 , 尹文生 , 赵彦坡 , 秦慧超 , 胡清平
Abstract: 一种带激光干涉仪测量的粗精动叠层工作台，主要用于光刻机系统中。叠层工作台含有精动台、粗动台、平衡块、四个隔震器和测量机架；粗动台包括粗动台骨架、四个动铁式电磁力驱动模块和四个气浮轴承；精动台设置在粗动台骨架的中间位置；该系统还含有用于六自由度定位装置的承片台和基座之间位置反馈的激光干涉仪测量组件，激光干涉仪测量组件由激光光源、光路组件、激光干涉仪组成，可对该装置的运动部分进行实时的六自由度的测量。本发明具有结构简单、紧凑，运动部分质量轻；粗动台驱动电机采用加长矩形线圈组，在不影响运动精度的前提下，避开了大规模halbach磁钢阵列的制造困难，又增大了驱动电机行程；进而提高了运动的精度。
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公开(公告)号：CN103105742B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201310048284.7
申请日：2013-02-06
Applicant: 清华大学
Abstract: 带光电位置探测器测量的六自由度粗动台的掩模台系统，粗动台含有一个粗动台台体、驱动装置和粗动台重力平衡组件，粗动台台体设置在精动台的外部，将精动台包围在中间，实现粗动台的六自由度运动；该掩模台系统还含有PSD传感器测量系统，该测量系统可测量精动台与粗动台之间相对位置以及测量粗动台与基座之间的相对位置。本发明在调整掩模台姿态的同时既提高了掩模台的速度、加速度和控制带宽，又满足了高运动精度和定位精度的要求，进而提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率，并且测量精度和测量速度也很高，可适应掩模台的高响应速度、高加速度和高运动定位精度。
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公开(公告)号：CN104359411A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201410720157.1
申请日：2014-12-01
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
IPC: G01B11/02
Abstract: 一种利用光栅测量的位移测量系统，该系统包括激光器、凸透镜、折光元件、光栅、光电转换器和电子信号处理部件；该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量，位移测量功能不受读取距离的限制，可灵活安装和应用到多种需要测量位移的场合之中。当光栅相对激光器做三自由度平动时，测量系统能够始终输出所需测量方向的位移信息，不受另两个方向运动的影响。该测量系统安装灵活，调整方便，对环境敏感性低、测量信号易于处理，分辨率与精度可达亚纳米甚至更高。本发明可以为光刻机超精密工件台进行位置位移测量，提升工件台综合性能，也可应用于精密机床、三坐标测量机、半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量。
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