距离传感器
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109073735B

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN201780027298.7

    申请日:2017-04-19

    Abstract: 本实施方式涉及一种距离传感器,其为了避免起因于干扰光的饱和而降低向在1个光敏区域准备的多个电荷收集区域分别注入的电流量之差。分别向各电荷收集区域注入电流的电流注入电路包括生成用于调节注入电流量的控制电压的电压生成电路,该电压生成电路生成对应于分别与各电荷收集区域结合的蓄积节点的电荷量中大的电荷量的控制电压,另一方面,在通过控制电压调节电流量的晶体管与蓄积节点之间配置有共源共栅器件,晶体管的电流输出端的电位与蓄积节点的电位分离。

    距离图像传感器
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106461761B

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201580023670.8

    申请日:2015-01-29

    Abstract: 本发明提供一种距离图像传感器,对于在一维方向(A)上连续排列的任意三个距离传感器(PBn、PAm、PAm+1)而言:三个距离传感器中的位于中央的距离传感器(PAm)和位于比该距离传感器(PAm)更靠近一维方向(A)上的一侧的距离传感器(PBn)中,第一信号电荷存储区域(FD1)彼此在一维方向(A)上相邻;三个距离传感器中的位于中央的距离传感器(PAm)和位于比该距离传感器(PAm)更靠近一维方向(A)上的另一侧的距离传感器(PAm+1)中,第一信号电荷存储区域(FD1)和第二信号电荷存储区域(FD2)在一维方向(A)上相邻。

    测距装置以及测距装置的驱动方法

    公开(公告)号:CN106471391A

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201580023874.1

    申请日:2015-04-07

    Abstract: 测距装置(10)中,控制部(CONT)按每个帧周期(TF)交替地更换第一脉冲传输信号(S1)与第二脉冲传输信号(S2)的时间序列上的顺序并输出第一以及第二脉冲传输信号(S1,S2),并且运算部(ART)基于对应于按时间序列连续的2个帧周期(TF)中的相位成为相同的第一以及第二脉冲传输信号(S1,S2)而被存储于第一电荷存储区域(FD1)和第二电荷存储区域(FD2)的信号电荷的总电荷量(Q1,Q2),运算到对象物(OJ)的距离(d)。

    距离图像传感器
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106461761A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201580023670.8

    申请日:2015-01-29

    Abstract: 本发明提供一种距离图像传感器,对于在一维方向(A)上连续排列的任意三个距离传感器(PBn、PAm、PAm+1)而言:三个距离传感器中的位于中央的距离传感器(PAm)和位于比该距离传感器(PAm)更靠近一维方向(A)上的一侧的距离传感器(PBn)中,第一信号电荷存储区域(FD1)彼此在一维方向(A)上相邻;三个距离传感器中的位于中央的距离传感器(PAm)和位于比该距离传感器(PAm)更靠近一维方向(A)上的另一侧的距离传感器(PAm+1)中,第一信号电荷存储区域(FD1)和第二信号电荷存储区域(FD2)在一维方向(A)上相邻。

    距离传感器以及距离图像传感器

    公开(公告)号:CN103155150B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201180049537.1

    申请日:2011-06-16

    Abstract: 光栅极(PG),平面形状为具有彼此相对的第1和第2长边(LS1,LS2)、以及彼此相对的第1和第2短边(SS1,SS2)的长方形形状。第1以及第2半导体区域(FD1,FD2)在第1和第2长边(LS1,LS2)的相对方向上夹持光栅极(PG)而相对地配置。第3半导体区域(SR1)在第1和第2短边(SS1,SS2)的相对方向上夹持光栅极(PG)而相对地配置。第3半导体区域(SR1)使在第1和第2短边(SS1,SS2)侧的电势高于光栅极(PG)的正下方的区域中的位于第1以及第2半导体区域(FD1,FD2)之间的区域中的电势。

    光检测元件和光检测装置

    公开(公告)号:CN112868108B

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN201980068249.7

    申请日:2019-07-10

    Abstract: 一种光检测元件,具备:半导体基板、形成于半导体基板上的第一导电型的光吸收层、形成于光吸收层上的第一导电型的盖层,以及形成于盖层内,与盖层形成pn结的第二导电型的半导体区域。形成于半导体区域的周围的耗尽层,在不向pn结施加反方向偏置的情况下,未达到光吸收层,在向pn结施加20V的反方向偏置的情况下,从盖层侧超过光吸收层的厚度的50%的位置。

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