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公开(公告)号：CN104834043B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201510064078.4
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种偏振器、偏振光照射装置及偏光轴方向调整方法，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。
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公开(公告)号：CN102906635B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201180020598.5
申请日：2011-04-15
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G03F9/7084 , G02F1/13 , G02F1/1337 , G02F1/133788 , G03F7/7035 , G03F7/70566
Abstract: 本发明提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）以一定的排列间距形成细长状的多个开口，第二掩模图案组（6B）与该第一掩模图案组（6A）平行地设置且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成细长状的多个开口，对所述光掩模（7）的第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）分别照射入射角度（θ）为不同的P偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。由此，通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域并缩短取向处理工序的节拍。
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公开(公告)号：CN105008990A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201480009344.7
申请日：2014-03-07
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , F21V19/00 , G02F1/13 , H01L21/027 , G02B5/30
CPC classification number: G02B27/286 , G02B5/30 , G02F1/1303 , G02F1/133788
Abstract: 本发明提供一种光取向用偏光照射装置，以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护。光取向用偏光照射装置(1)具备光照射部(10)，其具有包含光源(2)及偏振器(4)的光学部件，光照射部(10)具备将光源(2)在光学部件之上的光照射位置(P1)支承的同时，在从光学部件向扫描方向远离的维护位置(P2)支承的光源支承导杆(11)，光源支承导杆(11)使光源(2)从光照射位置(P1)移动至维护位置(P2)时，使光源(2)的朝向以光照射侧沿扫描方向的方式发生变化。
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公开(公告)号：CN104834043A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510064078.4
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
CPC classification number: G02B5/3058 , G02B27/286 , G02F1/133788
Abstract: 本发明提供一种偏振器、偏振光照射装置及偏光轴方向调整方法，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。
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公开(公告)号：CN102656520B
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201080056557.7
申请日：2010-11-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G03F7/22 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/7035 , G03F7/70358 , G03F7/70433 , G03F7/70533
Abstract: 本发明涉及一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的第一及第二曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，该曝光方法具有：将与各曝光图案对应的第一及第二掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于光掩模的第一掩模图案组的对被曝光体的第一曝光区域的曝光结束时，使光掩模移动规定距离而从第一掩模图案组切换成第二掩模图案组的阶段；通过第二掩模图案组执行对被曝光体的第二曝光区域的曝光的阶段，其中，控制光掩模的移动速度，以使第一及第二掩模图案组的切换时的被曝光体的移动距离比光掩模的移动距离长。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103081060A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180042029.0
申请日：2011-07-26
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01L21/027 , G02B3/00 , G03F9/00
CPC classification number: G03F1/42 , G02B3/0056 , G02B3/0068 , G03F1/38 , G03F9/7038 , G03F9/7096
Abstract: 本发明提供一种能够防止异物进入到微透镜阵列与基板之间并且能够防止由于基板的异常接近和上述异物导致对微透镜造成伤痕的曝光装置和光学构件。在透明基板（1）的上方配置有形成了多个微透镜（3a）的微透镜阵列（3），该微透镜阵列（3）在其端面（6）与掩模（4）接合。在掩模（4），在微透镜阵列（3）的两侧接合有对准标记台（12），在该对准标记台（12）的与基板（1）的相向面形成有对准标记（11）。对准标记台（12）与基板（1）之间的间隔小于微透镜阵列（3）与基板（1）的间隔。
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公开(公告)号：CN102656520A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201080056557.7
申请日：2010-11-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G03F7/22 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/7035 , G03F7/70358 , G03F7/70433 , G03F7/70533
Abstract: 本发明涉及一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的第一及第二曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，该曝光方法具有：将与各曝光图案对应的第一及第二掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于光掩模的第一掩模图案组的对被曝光体的第一曝光区域的曝光结束时，使光掩模移动规定距离而从第一掩模图案组切换成第二掩模图案组的阶段；通过第二掩模图案组执行对被曝光体的第二曝光区域的曝光的阶段，其中，控制光掩模的移动速度，以使第一及第二掩模图案组的切换时的被曝光体的移动距离比光掩模的移动距离长。
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公开(公告)号：CN115461834B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202180030902.8
申请日：2021-05-31
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 加工装置具备：差动排气装置，其在头部中的与被处理基板对置的面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在比所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽靠内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在多个所述环状槽中的至少一个所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用将所述处理用空间设为高真空度；以及聚焦离子束柱状体，其具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统而使聚焦离子束穿过所述开口部内而射出，在最内侧的所述环状槽连结原料气体供给部，从该环状槽朝向所述被处理面喷出原料气体而能够使原料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。
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公开(公告)号：CN116235274A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202180066953.6
申请日：2021-09-01
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/317
Abstract: 提供一种提高能量束通过的处理空间的真空度而使得检查精度或处理精度高的聚焦能量束装置。所述聚焦能量束装置具备头部和聚焦能量束柱状体，在头部的对置面上形成有中央排气口和围绕所述中央排气口的外侧的至少一个以上的外侧排气槽，所述聚焦能量束柱状体及所述外侧排气槽与不同的真空泵连结来进行差动排气，其中，在所述头部中的所述中央排气口的周边，贯通地形成有副排气口。
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公开(公告)号：CN116034448A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202180054193.7
申请日：2021-07-27
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18
Abstract: 提供一种聚焦能量束装置，其具备：支承部，其支承被处理基板；以及聚焦能量束柱状体，其具备差动排气装置且能够以与所述被处理基板的被处理面的任意区域对应的方式进行相对移动，其中，所述支承部在将所述被处理基板水平地配置的状态下仅支承所述被处理基板的周缘部，在由所述支承部支承的所述被处理基板的下方配置有正压腔室，所述正压腔室遍及所述被处理基板的被处理区域整体地施加正压，阻止所述被处理基板因自重产生的挠曲，在所述正压腔室内具备局部负压机构，所述局部负压机构维持与所述被处理基板的下表面不接触的状态来施加负压，来抵消所述差动排气装置的吸引力，所述局部负压机构维持隔着该被处理基板而与所述差动排气装置对置的状态，并且能够追随着所述差动排气装置而相对于被处理基板进行相对移动。
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