图案形成方法
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101399050A

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200810215456.4

    申请日:2008-08-15

    CPC classification number: G11B5/82 B82Y10/00 B82Y40/00 G03F7/0002 G11B5/855

    Abstract: 本发明提供一种图案形成方法,其包括在基材(11)上形成至少包含PS和PEO的二嵌段共聚物组合物的层(12),使所述层经受相分离以获得相分离的层(13),由此形成由PS构成并且具有沿第一方向延展的圆柱体或层状构型的易蚀刻区域(14),在所述相分离的层上形成压印抗蚀剂层(16),对所述压印抗蚀剂层进行压印,以在所述压印抗蚀剂层上形成沿与所述第一方向交叉的第二方向延展的由凸起(19)和凹陷(18)构成的不规则图案,从所述压印抗蚀剂层选择性地除去所述凹陷,由此仅剩下所述凸起,并且同时选择性地从所述相分离的层除去PS以获得包含PEO的耐蚀刻的图案,以及不仅使用所述凸起而且使用所述耐蚀刻的图案作为掩模来蚀刻所述基材。

    用于制造磁记录介质的方法

    公开(公告)号:CN101101759A

    公开(公告)日:2008-01-09

    申请号:CN200710126961.7

    申请日:2007-07-02

    CPC classification number: G11B5/855 H01F41/34

    Abstract: 一种用于制造磁记录介质的方法,包括:在基底(11)上形成磁性膜(12),并且在所述磁性膜(12)上涂敷抗蚀剂(13);在所述抗蚀剂(13)上压印压模(14)以向所述抗蚀剂(13)转印凹陷和凸出的图形;以及,去除所述压模(14),然后执行离子铣削以处理磁性膜(12),以形成磁图形,其中在构图的抗蚀剂中的凹陷中剩余抗蚀剂残余物。

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