永久磁铁及永久磁铁的制造方法

    公开(公告)号:CN102511070B

    公开(公告)日:2012-12-05

    申请号:CN201180003926.0

    申请日:2011-03-28

    Abstract: 本发明提供在烧结后的磁铁的主相与晶粒间界相之间不产生空隙并且可以将磁铁整体致密地烧结的永久磁铁及永久磁铁的制造方法。在粉碎而得到的钕磁铁的微粉末中加入添加有M-(OR)x(式中,M为Dy或Tb,R为由烃构成的取代基,可以为直链或支链,x为任意的整数)表示的有机金属化合物的有机金属化合物溶液,使有机金属化合物均匀地附着于钕磁铁的粒子表面。然后,将粉末压制成形而得到的成形体在氢气气氛中在200℃~900℃下保持几小时,由此进行脱氢处理。然后,进行烧结,由此制造永久磁铁。

    光学层叠体
    40.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103492912B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201280019680.0

    申请日:2012-04-18

    Abstract: 本发明提供一种光学层叠体,该光学层叠体即便使用低透湿性的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜),(甲基)丙烯酸系树脂薄膜(基材薄膜)与硬涂层的密合性及硬涂层的耐划伤性这两方面也优异。本发明的光学层叠体具备:由(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的基材层(10);在上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜上涂敷包含固化性化合物及无机纳米粒子(1)的硬涂层形成用组合物而形成的硬涂层(30);以及在上述基材层(10)与上述硬涂层(30)之间通过上述硬涂层形成用组合物渗透至上述(甲基)丙烯酸系树脂薄膜而形成的厚度为1.2μm以上的渗透层(20),其中,上述无机纳米粒子的含有比例是:相对于上述固化性化合物及上述无机纳米粒子的总和为1.5重量%~50重量%。

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