一种基于石墨烯层的晶体管

    公开(公告)号:CN102157548A

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN201110037951.2

    申请日:2011-02-15

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明属于半导体器件技术领域,具体涉及一种基于石墨烯层的场效应晶体管。石墨烯是一种禁带宽度几乎为零的半金属/半导体材料,其禁带宽度可以通过改变形状来调节。本发明采用石墨烯与绝缘介质的叠层来作为晶体管的沟道材料,可以克服短沟道效应问题,本发明同时还使用了隧穿率调制,克服了硅基器件难以继续缩小的问题,可以使器件尺寸做的更小。

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