公开(公告)号：CN119105121A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202411227540.3

申请日：2024-09-03

Applicant: 同济大学

Inventor： 程鑫彬 ,  邓晓 ,  肖光旭 ,  薛栋柏 ,  李同保 ,  林子超 ,  唐朝辉 ,  沈俊宇 ,  尹志珺 ,  周通

IPC: G02B5/18 ,  H05H3/02 ,  C23C14/24 ,  C23C14/18 ,  C23C14/06

Abstract: 本发明公开了一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法，属于高精密光栅制造领域，包括以下步骤：1)基于高温热蒸发法在真空中产生中性原子束；2)采用激光多普勒冷却降低中性原子束横向运动速度；3)利用激光驻波场对原子束进行会聚，并使其垂直沉积到基板上并形成直接溯源型光栅结构；4)在直接溯源型光栅表面利用热蒸发法依次蒸镀金属膜与保护膜，获得高衍射效率的直接溯源型光栅标准样板。本发明提供了一种高衍射效率的直接溯源型光栅制备方法，能够显著提高直接溯源型光栅的衍射效率，操作简单，同时能够不破坏直接溯源型光栅的自溯源性。

公开(公告)号：CN118884591A

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202411168208.4

申请日：2024-08-23

Applicant: 同济大学 ,  中国计量科学研究院

Inventor： 邓晓 ,  程鑫彬 ,  王建波 ,  殷聪 ,  李同保 ,  薛栋柏 ,  周通 ,  肖光旭 ,  沈俊宇 ,  尹志珺

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于光频梳偏频锁定波长的铬原子光刻光栅制备方法及装置，涉及原子光刻技术领域，装置中光学频率梳的输出端与倍频光路连接；连续可调谐激光器的输出端与保偏光纤分束器的输入端连接；倍频光路和和保偏光纤分束器的第一输出端分别与光纤合束器的输入端连接；保偏光纤合束器的输出端与拍频检测光路的输入端连接；拍频检测光路的输出端通过光电接收器与功分器的输入端连接；频率计数器的输入端与功分器的第一输出端连接；偏频锁定系统的输入端与功分器的第二输出端连接；偏频锁定系统的输出端与连续可调谐激光器的控制输入端连接，本发明在实现原子光刻光栅尺寸拓展的同时保证了光栅的高衍射效率。

公开(公告)号：CN113566714A

公开(公告)日：2021-10-29

申请号：CN202110862699.2

申请日：2021-07-29

Applicant: 同济大学

Inventor： 邓晓 ,  程鑫彬 ,  林子超 ,  顾振杰 ,  姚玉林 ,  李同保

IPC: G01B11/02 ,  G01B9/02

Abstract: 本发明涉及一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统，包括相干光源、光电探测模块、自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅设置于待测的位移运动平台上，所述相干光源、光电探测模块和信号处理模块依次连接，所述相干光源产生的激光经光电探测模块传播后，入射至自溯源光栅，与自溯源光栅发生衍射作用，返回至光电探测模块中继续传播，进入信号处理模块，信号处理模块采集干涉信号获取运动位移量和运动方向。与现有技术相比，本发明克服了位移测量溯源难度大和光栅刻线密度低的缺点，其直接溯源的测量途径具有位移测量准确性高、鲁棒性强的优势。

公开(公告)号：CN108919398B

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201810548515.3

申请日：2018-05-31

Applicant: 同济大学

Inventor： 程鑫彬 ,  邓晓 ,  李同保 ,  刘杰 ,  朱立

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种二维原子光刻栅格结构制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行第一次原子光刻，得到一维原子光刻沉积光栅样板；利用光阑的限位作用，保持会聚光指向与光栅样板的平面法向量指向不变，将光栅样板旋转角度θ；调整会聚光形成的驻波场空间高度使其与金属原子束待沉积区域存在重叠部分，在沉积光栅样板上进行第二次原子光刻，形成二维原子光栅菱形栅格结构，且菱形的其中一个内角与旋转角度相等。与现有单次沉积方法相比，本发明克服了二维激光冷却和二维光学势阱效果难以保证的问题，化繁为简，具备操作方便，栅格角度可控等优点。

公开(公告)号：CN108919397A

公开(公告)日：2018-11-30

申请号：CN201810548512.X

申请日：2018-05-31

Applicant: 同济大学

Inventor： 程鑫彬 ,  邓晓 ,  李同保 ,  刘杰 ,  朱立

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置，包括第一反射镜、第二反射镜和机械固定机构，第一反射镜和第二反射镜垂直粘合构成垂直反射镜组，所述机械固定机构包括第一结构件、第二结构件、第三结构件和第四结构件，第一结构件、第二结构件、第三结构件和第四结构件构成一可容纳垂直反射镜组的框架，且该框架留有用于穿过原子束和会聚光的空间。与现有技术相比，本发明将二维原子光刻栅格夹角溯源至垂直反射镜组的垂直夹角，确保了栅格结构的正交性，并控制二维原子光刻分步沉积过程中驻波场切光的平行性，确保了光刻栅格结构的一致性与均匀性，可实现分步沉积型原子光刻技术制备非正交性误差小于0.01度的二维原子光刻栅格结构。

公开(公告)号：CN101303412B

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200810040207.6

申请日：2008-07-04

Applicant: 同济大学

Inventor： 李同保 ,  马艳 ,  张宝武 ,  张文涛

IPC: G01T7/00 ,  G01T1/00

Abstract: 本发明为一种预准直孔系结构及其实现监测原子束冷却效果的方法。该预准直孔系结构，包括一个主预准直孔和两个监测孔，其中的两个监测孔的尺寸相同并且对称的分布于主预准直孔的两侧，三个孔的中心位于同一直线上。在激光汇聚原子束沉积过程中，当穿过主预准直孔的原子被沉积基片阻挡时，可通过监测穿过两侧监测孔的原子在荧光探测区产生的荧光斑点冷却前后相对于原子束中轴的分布情况来间接的反映穿过主预准直孔原子束的冷却效果。本发明结构简单，调节方便，容易实现，而且可以有效地监测穿过主预准直孔原子束的冷却效果。