公开(公告)号：CN106158596A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201510859640.2

申请日：2015-11-30

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 何育如 ,  洪爱真 ,  谢弘璋 ,  吕奎亮 ,  张雅惠

IPC: H01L21/027 ,  H01L27/02

Abstract: 本发明公开了一种置入散色条于微影工艺的方法，该方法包括接收包含第一主要部件的集成电路设计布局，以及置入第一多个散色条于上述集成电路设计布局，以形成围绕于上述第一主要部件的第一环形图案的散色条。上述第一主要部件是设置于上述第一环形图案的散色条的一中央部分。本发明展现了改良聚焦深度、散色条印出窗口以及降低焦点位移。

公开(公告)号：CN103383912A

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN201310347541.7

申请日：2011-09-26

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 谢铭峰 ,  张雅惠 ,  刘如淦 ,  欧宗桦 ,  谢艮轩 ,  林本坚

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/42

CPC classification number: H01L23/544 ,  G03F1/42 ,  G03F9/7076 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0338 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供了一种具有多个亚分辨率元件的对准标记。每个亚分辨率元件具有小于能被对准工艺中的对准信号检测到的最小分辨率的尺寸。也提供了一种其上具有第一、第二和第三图案的半导体晶圆。第一和第二图案在第一方向上延伸，以及第三图案在垂直于第一方向的第二方向上延伸。通过在第二方向上测量的第一距离将第二图案与第一图案分离。通过在第一方向上测量的第二距离将第三图案与所第一图案分离。通过在第一方向上测量的第三距离将第三图案与第二图案分离。第一距离约等于第三距离。第二距离小于第一距离的两倍。本发明同样涉及了一种多边缘的图案化。