一种基于硫系材料的超黑近红外反射制冷光学薄膜

    公开(公告)号:CN119738905A

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202510016768.6

    申请日:2025-01-06

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于硫系材料的超黑近红外反射制冷光学薄膜。该薄膜由交替堆叠的硫系相变材料吸收层和介质层组成。本发明提出采用低折射率材料作为介质层,相变材料(Phase Change Material,PCM)作为吸收层,多层叠加实现宽带吸收,再用高反射金属打底进一步实现近红外高反的设计。该结构在保证可见光部分超高吸收的同时,也保证了近红外部分的超高反射,有效缓解超黑薄膜因吸收导致的过高温升的问题。同时,由于GSST及GST等相变材料,具有较高的折射率,同时在可见光波段均具有较好的吸收效益,进一步将相变材料引入该薄膜设计中,探索了硫系材料在超黑制冷光学薄膜中应用的可能性。

    具有防护功能的有色纳米薄膜结构及制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115576045B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202211399039.6

    申请日:2022-11-09

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明提供了具有防护功能的有色纳米薄膜结构,所述薄膜结构为:MNM’,该薄膜结构为非对称结构,其中,M表示金属反射材料膜层,N表示介质增强反射结构,M’表示结构色饱和度控制材料膜层;其中,N的结构为:(aHbL)p、(aLbH)p、(aHbLaH)p和(bLaHbL)p中的任意一种或几种的组合,其中H表示具有四分之一中心波长厚度的高折射率介质材料膜层,L表示具有四分之一中心波长厚度的低折射率介质材料膜层;a和b表示介质反射增强结构的膜厚系数,其中a和b取值范围为0‑2,p表示介质增强反射结构中重复堆叠次数。本发明还提供了具有防护功能的有色纳米薄膜结构的制备方法及应用,激光防护功能和色彩。

    一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜

    公开(公告)号:CN113759454A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202111118075.6

    申请日:2021-09-22

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开一种全硅类材料的入射光角度低敏感性结构色薄膜,其包括:依序层叠设置的反射增强层和吸收型减反射层,所述反射增强层与吸收型减反射层均由硅基介质材料构成。本发明提供了一种新的结构设计,创新性的使用非金属材料制备角度不敏感的光子晶体薄膜结构色器件。采用自然界广泛存在的安全环保的全硅类材料作为原材料,不仅能够降低生产成本,还可以简化生产工艺流程。相比于金属材料的高吸收,硅类介质材料在提高反射效率方面具有天然的优势。

    一种自动三维在线监控磁定向装置

    公开(公告)号:CN108995365B

    公开(公告)日:2019-11-08

    申请号:CN201810951079.4

    申请日:2018-08-21

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 一种自动三维在线监控磁定向装置,涉及磁定向印刷领域,包括放纸平台和磁定向平台,磁定向平台设于放纸平台下方,还包括三维移动单元、在线监控单元、显示屏和CPU控制单元;三维移动单元和在线监控单元分别与CPU控制单元连接;三维移动单元与磁定向平台固定连接,三维移动单元用于调节纸张和磁铁之间的相对位置;三维移动单元具备X‑Y‑Z三个维度的直线活动;在线监控单元包括第一摄像头和第二摄像头;本发明通过三轴联动实现三维运动,同时与摄像头联动通过计算及分析图片的条纹亮度实现最佳磁定向位置的自动寻找和定位。

    一种蓝光防护光学薄膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN110174717A

    公开(公告)日:2019-08-27

    申请号:CN201910371273.X

    申请日:2019-05-06

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种蓝光防护光学薄膜及其制造方法。该蓝光防护光学薄膜,该光学薄膜材料的消光系数,在波段400~460nm之间达10-2量级,在波段460~600nm之间达10-3量级,在波段600~800nm之间达10-4量级。它具有如下优点:能在有效衰减有害蓝光(如415nm~455nm)的同时,确保其它蓝光波段(如460nm以上波段)和可见光剩余波段(如500nm~680nm)的高透过率要求,保持透射光的色平衡,同时降低整个可见光谱波段(420nm~680nm)表面剩余反射,避免反射蓝光的二次伤害。

    带左手馈电耦合控制的双端口MIMO共面波导天线

    公开(公告)号:CN106602234B

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201611127854.1

    申请日:2016-12-09

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 带左手馈电耦合控制的双端口MIMO共面波导天线,涉及MIMO、双频天线。设有介质基板,所述介质基板采用矩形介质基板,介质基板上涂覆金属层,将金属层上的一个以介质基板中心为圆心的圆去除,剩余部分作为接地板;在圆内矩形介质基板上中心对称设置一矩形金属贴片,矩形金属贴片的右方及下方放置2个由边缘三角形中部伸展出来的“T”字垂直放置的振子,两边与地板用缝隙隔开。沿介质基板两条对角线在地板上开两条宽缝,并将没有振子的左、上两边地板去除;在接地板上对称加载2对方形CSRR左手馈电耦合控制结构。可用于WiMAX/WLAN的3.5GHz、5.5GHz频段。

    量子点复合荧光粉的制备方法

    公开(公告)号:CN106833614B

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201710154028.4

    申请日:2017-03-15

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 量子点复合荧光粉的制备方法,涉及荧光粉。将制备量子点的原料卤化铅化合物或卤化锡化合物与甲基卤化铵或甲脒氢卤酸盐,溶解在强极性溶剂中,得溶液A;在溶液A中加入高分子聚合物,溶解后形成前驱体溶液;将前驱体溶液喷雾干燥,在喷雾干燥过程中,前驱体溶液被分散成液滴,强极性溶剂挥发离开使得液滴变为球形颗粒,留在高分子聚合物球形颗粒内的离子发生原位反应形成量子点,并被包覆在高分子聚合物球形颗粒内,即得量子点复合荧光粉。在喷雾干燥去除的溶剂的过程中,原位合成量子点荧光材料,合成的量子点荧光材料被均匀包覆在高分子聚合物基材内,无需任何后处理,即可实现将量子点荧光材料包覆于隔水隔氧基材中,工艺简单。

    基于单一硅材料的光变防伪薄膜

    公开(公告)号:CN105158835A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510427099.8

    申请日:2015-07-20

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 基于单一硅材料的光变防伪薄膜,涉及光学防伪。所述基于单一硅材料的光变防伪薄膜为全介质高反射膜、硅与介质间隔层组成的反射膜、硅与对称F-P介质组合膜系组成的反射膜;全介质高反射膜的膜系结构表示为A/(HL)s H/G。硅与介质间隔层组成的反射膜的膜系结构分别为A/(4M2.6L)x100M’/G和A/(4M1.85H)y 100M’/G。硅与对称F-P介质组合膜系组成的反射膜的膜系结构A/4M0.88L(HL)p(LH)p 0.29L100M’/G。只采用硅作为镀膜材料,制备更加环保,成本更低,且原材料来源广。

    一种磁性结构色薄膜
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112708288A

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN202010435976.7

    申请日:2020-05-21

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 本发明公开了一种磁性结构色薄膜,包括多层干涉磁性结构色薄膜,该多层干涉磁性结构色薄膜包括磁性非金属介质薄膜材料层和非磁性全介质透明材料层,该磁性非金属介质薄膜材料层由磁性氧化物材料制成且具有高折射率,该磁性非金属介质薄膜材料层作为磁性功能膜层及能参与颜色调控和亮度调控的高折射率介质层。它具有如下优点:该结构色薄膜根据图像倾斜或者照在图像上的光源位置的改变能提供具有运动特征的光错觉图像,同时保证这些薄膜构成得颜料片具有明显的光学变色特性和磁性响应功能及人体友好特性。

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