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公开(公告)号：CN119738905A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202510016768.6
申请日：2025-01-06
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本发明公开了一种基于硫系材料的超黑近红外反射制冷光学薄膜。该薄膜由交替堆叠的硫系相变材料吸收层和介质层组成。本发明提出采用低折射率材料作为介质层，相变材料(Phase Change Material,PCM)作为吸收层，多层叠加实现宽带吸收，再用高反射金属打底进一步实现近红外高反的设计。该结构在保证可见光部分超高吸收的同时，也保证了近红外部分的超高反射，有效缓解超黑薄膜因吸收导致的过高温升的问题。同时，由于GSST及GST等相变材料，具有较高的折射率，同时在可见光波段均具有较好的吸收效益，进一步将相变材料引入该薄膜设计中，探索了硫系材料在超黑制冷光学薄膜中应用的可能性。
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