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公开(公告)号：CN103144012A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201210599155.2
申请日：2012-11-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: B24B37/042 , B24B37/044 , B24B37/24 , B24D3/28
Abstract: 通过送入浆料和使用抛光衬垫抛光基板表面来制造基板。抛光衬垫具有与基板表面相接触的多孔拉毛层，拉毛层由基础树脂制成，基础树脂包括至少三种树脂，一般是醚类树脂，酯类树脂和聚碳酸酯树酯。抛光基板具有非常平的表面和最小的缺陷数。
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公开(公告)号：CN119024637A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410653073.4
申请日：2024-05-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 掩模坯基板具有152mm×152mm方形的第一和第二主表面与6.35mm的厚度，其中在通过将第一、第二主表面的图相加而获得的拟TTV图中，在第一矩形区域与第二矩形区域重合的情况下形成的十字形区域内，在拟TTV图的拟合中，当导出平面函数时情况下，排除一次成分的TTV1图的最高、最低高度之差为≤35nm，并且，当导出曲面函数时情况下，排除一次、二次成分的TTV2图的最高、最低高度之差为≤25nm，132mm×104mm的第一、第二矩形区域彼此正交，并且平行于主表面的四条边、以主表面的对角线的交点为中心。
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公开(公告)号：CN117289541A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202310736900.1
申请日：2023-06-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于掩模坯料的衬底及其制造方法。具有152mm×152mm见方的第一和第二主表面以及6.35mm的厚度的用于掩模坯料的衬底，其中：当中心在对角线交点上的132mm×132mm正方形的范围定义为在第一主表面与第二主表面每者中的计算区域时，在第一主表面和第二主表面的至少一者的计算区域的衬底表面上，基于最小二乘平面的计算区域的衬底表面的平坦度为100nm以下，并且计算表面高度的最高值与最低值之间的差值(PV)为20nm以下，所述差值(PV)由基于最小二乘平面的使用高斯滤波器(10mm×10mm)的平滑处理之前该衬底表面的形状与平滑处理之后的形状之间的差异所表示。
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公开(公告)号：CN116111024A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202211396563.8
申请日：2022-11-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及用于光学元件的窗材料、用于光学元件封装的盖、光学元件封装和光学装置。本发明的用于光学元件的窗材料由合成石英玻璃形成，所述合成石英玻璃能够经受成型加工，可以以低成本制造和具有平板形状。即使所述用于光学元件的窗材料具有平板形状，例如在用表面安装型封装(SMD PKG)密封的UV‑LED例如UVC‑LED的窗材料中，当通过窗材料时可有效地收集从光学元件发射的光，特别是具有光分布角的光，并且可实现等同于具有透镜形状例如常规的凸面形状的窗材料的光收集。此外，还可实现没有例如朗伯反射的照射不均匀的光分布。
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公开(公告)号：CN115386341A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202210559455.1
申请日：2022-05-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及研磨组合物。包括含有胶态二氧化硅颗粒的胶态二氧化硅、pH调节剂和螯合剂的研磨组合物以低成本和高生产率提供具有高平坦度、低缺陷和低表面粗糙度的表面的基板，并且提供具有高表面品质的基板，适合作为掩模坯料用基板例如含有SiO2作为主要组分的玻璃基板，特别地作为在EUVL中使用的掩模坯料用基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107176794B
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN201710134890.9
申请日：2017-03-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 通过提供合成石英玻璃块材，用在双折射测定波长下具有至少99.0％/mm的透射率的液体涂布该玻璃块材的两个相对表面，通过引导光从其经过而测定该玻璃块材的双折射，基于双折射测定和该基板的尺寸来确定切割厚度，和以确定的切割厚度将该玻璃块材切割，从而制备合成石英玻璃基板。
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公开(公告)号：CN105372933B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201510510609.8
申请日：2015-08-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 通过提供具有研磨的前后表面和四个侧面的起始矩形基材，和在恒压下将旋转抛光垫垂直地压靠于一个侧面，和使该旋转抛光垫和该基材平行于该侧面相对运动，由此抛光该基材的该侧面，从而制备矩形基材。在压印光刻法中，该矩形基材能够以高精度控制压缩和图案形状，并由此能将微细特征尺寸的复杂图案转印至接收体。
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公开(公告)号：CN106141918B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201610317737.5
申请日：2016-05-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板的制备方法。本发明提出基板的制备方法、特别是合成石英玻璃的基板的制备方法，同时使基板表面免于致命性缺陷而没有采取任何大规模装置和精密抛光板，由此与用常规设施制备相比，进一步减少缺陷和改善收率。通过抛光制备基板的方法，包括如下步骤：将基板原料各自放入下抛光板上的载体中形成的加工孔中；使上抛光板接触所述基板原料的表面，所述基板原料的表面涂覆有冲击吸收液并且使所述下抛光板旋转；和使所述上抛光板和下抛光板旋转，所述基板原料的表面伴有抛光浆料。
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公开(公告)号：CN110561277A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910483955.X
申请日：2019-06-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: B24C1/04
Abstract: 本发明提供一种合成石英玻璃基板的制造方法，该方法包括将间隔件配置成与合成石英玻璃基板的外周侧面接触，在板材从基板表面凸出的状态下，将所述板材配置成与所述间隔件的外周侧面接触，并且对所述基板表面进行喷砂。
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公开(公告)号：CN107775523A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201710728808.5
申请日：2017-08-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: B24B37/30 , B24B37/04 , H01L21/304
CPC classification number: B24B29/00 , B24B1/00 , B24B7/07 , B24B23/02 , B24B37/16 , B24B37/30 , B24B37/04 , B24B37/042 , H01L21/304
Abstract: 提供了加工工具，其包括旋转轴(6)，安装在该轴上的抛光板(3)，连接到该抛光板(3)的可伸缩的弹性体片材(4)，连接到该弹性体片材(4)的磨研布(5)，和按压装置，其在多个位置以各自预定的不同压力按压该弹性体片材(4)从而该磨研布的下表面(5)依照在多个位置施加到该弹性体片材(4)的不同的按压力变形到期望的形状。基板通过使该磨研布的变形表面(5)与基板原料接触，和旋转并移动该加工工具以在选定面积抛光该基板来制造。
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