集成电路器件及其制造方法
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN120035212A

    公开(公告)日:2025-05-23

    申请号:CN202411651012.0

    申请日:2024-11-19

    Abstract: 发明构思涉及一种集成电路器件及其制造方法。该集成电路器件包括:在衬底上在第一水平方向上延伸的鳍型有源区;在衬底上设置在鳍型有源区上并在与第一水平方向相交的第二水平方向上延伸的栅极线;设置在鳍型有源区上并在第一水平方向上与栅极线相邻设置的源极/漏极区;设置在源极/漏极区上的源极/漏极接触;设置在栅极线上并包括蚀刻停止膜和层间绝缘膜的上绝缘结构;穿过上绝缘结构并连接到源极/漏极接触的源极/漏极通路接触;以及设置在蚀刻停止膜和源极/漏极通路接触之间并在水平方向上与源极/漏极通路接触的一部分重叠的气隙。

    晶片接合方法
    32.
    发明公开
    晶片接合方法 审中-公开

    公开(公告)号:CN119920705A

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202411529082.9

    申请日:2024-10-30

    Abstract: 提供了一种晶片接合方法。晶片接合方法包括将第一晶片和第二晶片彼此重叠。第一晶片包括其上具有第一对准标记的透明或半透明材料。第二晶片具有第二对准标记。该方法包括提供穿过第一晶片的光以检查第一对准标记与第二对准标记的对准。该方法包括将第一晶片接合到第二晶片。此外,该方法包括在第一对准标记保持接合到第二晶片的同时去除透明或半透明材料。

    半导体器件结构及其形成方法
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118553783A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202410212956.1

    申请日:2024-02-27

    Abstract: 本公开提供了半导体器件结构及其形成方法。公开了一种用于在半导体器件中形成瓶颈形背侧接触结构的系统和方法,其中瓶颈形背侧接触结构具有部分地在第一源极/漏极结构内的第一侧、接触背侧电源轨的第二侧以及从第一侧延伸到背侧电源轨的衬垫。衬垫包括由Ta硅化物衬垫或Ti硅化物衬垫构成的第一区域、由Ti/TiN衬垫构成的第二区域以及由Ta硅化物衬垫或Ti硅化物衬垫构成的第三区域。背侧接触结构包括具有正斜率的第一部分以及与第一部分相邻、不具有斜率的第二部分。

    具有重叠图案的半导体装置

    公开(公告)号:CN109817516A

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201811384728.3

    申请日:2018-11-20

    Abstract: 一种半导体装置包括:半导体衬底,包括单元内区域及划片槽,所述划片槽界定所述单元内区域;第一重叠图案,位于所述半导体衬底上;以及第二重叠图案,邻近所述第一重叠图案,其中所述第一重叠图案是衍射式重叠(DBO)图案,且所述第二重叠图案是扫描电子显微镜(SEM)重叠图案。本公开的半导体装置可改善重叠一致性且减小对重叠图案的损坏。

Patent Agency Ranking