公开(公告)号：CN102998914B

公开(公告)日：2015-01-14

申请号：CN201210591299.3

申请日：2012-12-31

Applicant: 苏州大学

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种直写式光刻加工系统和光刻方法，该光刻加工系统包括能够运用傅立叶展开计算功能的控制系统和由该控制系统控制实现多次光刻的曝光系统。该光刻方法依据傅立叶分析原理，将待刻曲面展开为傅立叶多项式，然后根据多项式中各项余弦函数进行多次光刻，使得多此光刻叠加后实现目标曲面的刻蚀。通过本发明的实施，能够对任意大幅面的三维曲面进行刻蚀，并且具有较高的设计灵活性、刻蚀效率和精确度，以及较低的成本等优点。

公开(公告)号：CN102346269B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201110352070.X

申请日：2011-11-09

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 周云 ,  陈林森 ,  申溯 ,  叶燕 ,  浦东林

IPC: G02B5/26 ,  G02B1/10 ,  G02B5/18

Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括三种颜色的像素阵列，每种颜色的像素为光栅结构，该光栅结构包括基底、介质光栅以及金属层，所述金属层全覆盖于介质光栅上，该金属层的厚度小于所述介质光栅槽宽的一半，所述介质光栅的厚度与所述光栅结构滤光颜色的补色光相对应。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光，不仅具有较高的光能利用率，同时具有低的角度敏感性和利于制作等特点。

公开(公告)号：CN102879431B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201210390063.3

申请日：2012-10-15

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王艳艳 ,  彭长四 ,  陈林森 ,  顾小勇 ,  刘维萍

IPC: G01N27/00

Abstract: 一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，超声制备氧化石墨烯分散液，采用苯胺对氧化石墨进行还原，并将所得到的还原氧化石墨烯有机溶剂分散液滴加到电极表面，从而得到还原氧化石墨烯气体传感器。本发明所制备的还原氧化石墨烯气体传感器对氨气分子具有优异的灵敏度，此制备方法工艺简单，适合于气体传感器的大量制备。

公开(公告)号：CN103424794A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310395325.X

申请日：2013-09-03

Applicant: 苏州大学

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B27/1086 ,  G02B5/1842 ,  G02B5/1866 ,  G03F7/70408

Abstract: 一种透射式分光光栅及干涉光刻系统，该透射式分光光栅包括位于入射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括阶梯状光栅结构，该阶梯状光栅结构具有透射阶梯面和非透射区。该透射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制，使得透射出去的分束光具有最高的能量利用率，通过该透射式分光光栅的获得的干涉图形，具有良好的边界质量，能够完成进行精密的拼接图形，使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。

公开(公告)号：CN103279014A

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN201310236124.5

申请日：2013-06-14

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 浦东林 ,  魏国军 ,  袁晓峰 ,  朱鸣 ,  朱鹏飞 ,  胡进 ,  陈林森

IPC: G03F7/20 ,  B82Y40/00

Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。

公开(公告)号：CN103268018A

公开(公告)日：2013-08-28

申请号：CN201310234223.X

申请日：2013-06-13

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 袁晓峰 ,  陈林森 ,  浦东林

IPC: G02B27/12

Abstract: 一种分束器件及多光束干涉光路系统，该分束器件包括挡光母板，位于该挡光母板上的多个圆孔，以及位于该多个圆孔中的多个分束透镜，通过该多个分束透镜实现多光束的分束，具有原理简单，分束效果可调的优点，并且产生的分束光路不需要采用多个支路进行调整，使得本发明的多光束干涉光路系统的总体结构简单并且紧凑，为多光束干涉曝光带来的新的应用前景。

公开(公告)号：CN102879431A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN201210390063.3

申请日：2012-10-15

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王艳艳 ,  彭长四 ,  陈林森 ,  顾小勇 ,  刘维萍

IPC: G01N27/00

Abstract: 一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，超声制备氧化石墨烯分散液，采用苯胺对氧化石墨进行还原，并将所得到的还原氧化石墨烯有机溶剂分散液滴加到电极表面，从而得到还原氧化石墨烯气体传感器。本发明所制备的还原氧化石墨烯气体传感器对氨气分子具有优异的灵敏度，此制备方法工艺简单，适合于气体传感器的大量制备。

公开(公告)号：CN102879430A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN201210390062.9

申请日：2012-10-15

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王艳艳 ,  彭长四 ,  陈林森 ,  张伟

IPC: G01N27/00

Abstract: 一种基于石墨烯/聚苯胺杂化材料的气体传感器及其制备方法，超声制备氧化石墨烯分散液，制备出石墨烯/二氧化锰杂化材料，二氧化锰作为氧化剂，原位诱导苯胺聚合替代二氧化锰，制备出石墨烯/聚苯胺杂化材料，将所得到的石墨烯/聚苯胺杂化材料有机溶剂分散液滴加到电极表面，从而得到石墨烯/聚苯胺杂化材料的气体传感器。本发明所制备的石墨烯/聚苯胺杂化材料的气体传感器对氨气分子具有优异的灵敏度，此制备方法工艺简单，适合于气体传感器的大量制备。

公开(公告)号：CN102866556A

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：CN201210374989.3

申请日：2012-09-29

Applicant: 苏州大学

Inventor： 楼益民 ,  王钦华 ,  曹冰 ,  陈林森

IPC: G02F1/29 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明涉及光学透镜领域，公开了一种液晶变焦透镜及其变焦控制方法。液晶变焦透镜的电极板上具有圆环形衍射电极结构，圆环型衍射电极的半径满足，其中rj表示第j个圆环的半径，λ0为设计波长，F0为焦距常数，p为相位深度，取值大于1；相邻圆环形衍射电极结构对应区域之间的光程差满足条件，其中ΔnLC(V)为外加电压值为V时相邻区域液晶材料的折射率差，d为液晶层的厚度。通过改变电控装置输出的驱动电压，控制相邻区域液晶材料的折射率差，从而实现变焦。本发明基于相位深度p大于1的圆环形电极结构，有利于降低电极的加工精度要求，提高透镜的衍射效率；且直接通过输出驱动电压实现变焦，简化了外围控制电路，操作简便。.

公开(公告)号：CN101976020B

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201010503788.X

申请日：2010-10-12

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 浦东林 ,  胡进 ,  张月雨 ,  唐灵 ,  魏国军 ,  周小红 ,  陈林森

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F7/00

Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。