一种透射式分光光栅及干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN103424794B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201310395325.X

    申请日:2013-09-03

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G02B27/1086 G02B5/1842 G02B5/1866 G03F7/70408

    Abstract: 一种透射式分光光栅及干涉光刻系统,该透射式分光光栅包括位于入射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区,所述光栅槽形区包括阶梯状光栅结构,该阶梯状光栅结构具有透射阶梯面和非透射区。该透射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制,使得透射出去的分束光具有最高的能量利用率,通过该透射式分光光栅的获得的干涉图形,具有良好的边界质量,能够完成进行精密的拼接图形,使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。

    双光束干涉光刻方法和系统

    公开(公告)号:CN102722091B

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201210229675.4

    申请日:2012-07-04

    Applicant: 苏州大学

    Inventor: 胡进 浦东林

    Abstract: 本发明公开了一种双光束干涉光刻方法和系统,其方法包括:两路光束在加工工件表面实现N次干涉曝光,相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N,其中,N≥2,dI为曝光后的光强分布的周期,所述两路光束干涉后的光场复振幅分布为余弦函数。通过本发明的双光束干涉光刻方法,可以在光刻胶上直接制备大幅面的精密多台阶结构,加工效率高,而且所采用的元器件容易获得,成本低。

    并行光刻直写系统
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101846890B

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN201010170978.4

    申请日:2010-05-13

    Abstract: 本发明公开了一种并行光刻直写系统,包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统、运动系统和工件平台,其特征在于:还设有聚焦伺服系统,所述聚焦伺服系统包括检测光路、传感器和调焦装置,所述光学系统由微缩系统和检测光路构成,其中的微缩系统采用双远心光学系统,检测光路包括检测光源、在双远心光学系统内的第一分光器件、在检测光源和第一分光器件间的第二分光器件,检测光经第一分光器件进入双远心光学系统并照射在工件平台处的工件上,反射光经第一分光器件和第二分光器件被传感器接收,控制系统根据传感器的信号控制调焦装置动作,实现伺服聚焦。本发明通过结合聚焦成像伺服系统,可以实现亚微米尺度微结构的精确光刻。

    激光加工成形制造光内送粉工艺与光内送粉喷头

    公开(公告)号:CN101148760A

    公开(公告)日:2008-03-26

    申请号:CN200610116413.1

    申请日:2006-09-22

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种激光加工成形制造光内送粉工艺与光内送粉喷头,通过圆锥反射镜——圆环形聚焦反射镜扩束变换的方法,获得了圆环锥形聚焦光束,使投射至加工表面的聚焦光束中产生一较大中空无光区。单根送粉管由光束外伸入此圆环锥的无光区中并与光束同轴线。粉束通过送粉管垂直送入加工面上的聚焦光斑中,实现“光内送粉”。本发明光路变换后为同轴光路,聚焦性能好,光粉耦合精度高;反射镜面无缺口,光能损失小;圆环锥形聚焦光束中空体积大,便于安装送粉管和更换不同大小喷嘴;送粉管垂直或近于垂直安装,有利于采用重力送粉。本发明用于金属件激光熔覆快速成形、激光表面加工制造、激光焊接与特种连接、激光修复与再制造等场合。

    一种三维成型装置及方法

    公开(公告)号:CN105619819A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201610090876.9

    申请日:2016-02-18

    Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置,包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构,基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽,分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层,之后涂覆感光材料层,基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材,基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构,控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置,可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤,基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行,提升了工作效率,适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。

    一种光学加工系统和方法

    公开(公告)号:CN103424996B

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201310395256.2

    申请日:2013-09-03

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G03F7/70291

    Abstract: 一种光学加工系统和方法,该系统包括光学系统、载台、驱动系统,以及控制系统,该光学系统包括一空间光调制器作为该光学系统图形发生装置,所述空间光调制器具有若干像素单元,每个像素单元为反射镜,所述空间光调制器在进行图形生成时,参与构建图形的像素单元的反射镜统一翻转相同的角度γ,使得该空间光调制器构成一个以γ为闪耀角的光栅结构,所述光栅结构对入射光进行衍射分光,使光学系统获得至少两束能够形成干涉的相干光,所述光学系统利用上述相干光完成干涉直写复合光刻,从而使普通的激光直写技术的分辨率大大提高。

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