公开(公告)号：CN101976020B

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201010503788.X

申请日：2010-10-12

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 浦东林 ,  胡进 ,  张月雨 ,  唐灵 ,  魏国军 ,  周小红 ,  陈林森

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F7/00

Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。

公开(公告)号：CN101976020A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN201010503788.X

申请日：2010-10-12

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 浦东林 ,  胡进 ,  张月雨 ,  唐灵 ,  魏国军 ,  周小红 ,  陈林森

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F7/00

Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。