公开(公告)号：CN102834407A

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN201180017613.0

申请日：2011-03-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 田守功二 ,  安陪毅由 ,  冈野友亮 ,  籾山昌辉 ,  川井洋 ,  日向寺慧 ,  王勇

IPC: C07K1/22 ,  B01D15/08 ,  B01J20/281 ,  C08F8/00 ,  C08F20/20 ,  C08F20/32 ,  C07K16/00

CPC classification number: C07K1/18 ,  B01D15/3804 ,  B01D15/3809 ,  B01J20/286 ,  C07K1/22 ,  C08F222/1006 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/325 ,  C08F2220/281 ,  C08F220/58

Abstract: 本发明提供含有蛋白质的动态结合容量高且压力特性优异的多孔粒子的、对蛋白质纯化有用的亲和色谱用填充剂。本发明的亲和色谱用填充剂的特征在于，具有：由乙烯基单体的聚合物形成的多孔粒子、结合于上述多孔粒子的配体、以及开环环氧基，所述乙烯基单体包括：含有羟基且不含有环氧基的交联性乙烯基单体和含有环氧基的非交联性乙烯基单体、或者含有羟基和环氧基的交联性乙烯基单体。

公开(公告)号：CN102165312A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200980137428.8

申请日：2009-09-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 田守功二 ,  福田哲夫 ,  宫路正昭 ,  王勇 ,  安陪毅由 ,  冈野友亮 ,  籾山昌辉 ,  河合孝广

IPC: G01N30/88 ,  C07K14/31

CPC classification number: C07K1/22 ,  B01J20/286 ,  B01J20/321 ,  B01J20/3219 ,  B01J20/3274 ,  Y10T428/29

Abstract: 亲合层析用填充剂是含有包含交联性乙烯基单体和含环氧基的乙烯基单体的单体混合物的共聚物的多孔性母粒子，配体结合在所述多孔性母粒子上，所述多孔性母粒子具有使该多孔性母粒子所含的环氧基开环而得到的开环环氧基。

公开(公告)号：CN1916760B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200610126701.5

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/004 ,  C07D207/40 ,  C07D209/70 ,  C07D211/88 ,  C07D221/14 ,  C07D491/18

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2-A)或(2-B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。

公开(公告)号：CN1780813A

公开(公告)日：2006-05-31

申请号：CN200480011348.5

申请日：2004-02-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  王勇 ,  西村功

IPC: C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  C07D207/46 ,  C08K5/41 ,  C08L101/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07C309/19 ,  C07C309/17 ,  C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D207/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

Abstract: 本发明提供一种新型产酸剂，其在可燃性和人体内积累方面没有问题，可产生高酸度、高沸点、在抗蚀涂膜内的扩散长度适度短的酸而且可形成对掩模图案密度的依赖性低而平滑度好的抗蚀图；由该产酸剂产生的磺酸；适合在所述产酸剂的合成中作为原料的磺酰卤化合物；和包含所述产酸剂的辐射敏感树脂组合物。所述产酸剂有通式(I)所示结构，其中R1为一价取代基如烷氧羰基、烷磺酰基、或烷氧磺酰基；R2至R4均为氢或烷基；k为0或更大的整数，n为0至5的整数。所述辐射敏感树脂组合物中，正性的除上述产酸剂之外还包含有可酸解离基团的树脂，而负性的除所述产酸剂之外还包含碱溶性树脂和交联剂。