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公开(公告)号：CN102798917A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201110136683.X
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种彩色图像的制作方法及使用该方法制作的彩色滤光片。该彩色图像和彩色滤光片的色彩由法布里-珀罗谐振腔的共振特性表征。通过纳米压印工艺，制作出具有不同厚度的法布里-珀罗谐振腔，这些不同厚度的法布里-珀罗谐振腔分别对应红色、绿色和蓝色。这些红色、绿色、蓝色法布里-珀罗谐振腔根据分色原理分布，并且其组合在宏观上满足具有表现整体图像的效果。
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公开(公告)号：CN1837992B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200610038418.7
申请日：2006-02-16
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03H1/04
Abstract: 本发明公开了一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法及其装置，包括下列步骤：(1)制备一种具有正交光点输出的光学元件；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成四束光，经透镜组成像后，在记录材料表面形成干涉条纹单元，所述激光光源采用短相干长度的激光器；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录步骤(2)获得的干涉条纹单元，逐点光刻出点阵素面光栅。本发明大大降低了制作大幅面点阵素面彩虹光变图像的技术要求；同时可以获得不同衍射效果的点阵素面彩虹图像的效果，还可与数字化光变图像相互镶嵌。
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公开(公告)号：CN101943859B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201010224532.5
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法，该装置包括传输装置、涂布装置、预固化装置、压印装置和强固化装置，该涂布装置将紫外光胶均匀的涂布于由传输装置传输的待压印材料上，经预固化装置流平和半固化之后，送至压印装置进行压印，最后通过强固化装置硬化成型。相对于现有的纳米压印技术，本发明的压印装置具有更高的生产效率和良率。本发明还揭示了一种利用上述装置实现卷对卷紫外纳米压印的方法。
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公开(公告)号：CN101850680A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN201010180251.4
申请日：2010-05-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有动态立体效果的安全薄膜，具有微透镜阵列层、基材层、微图文层；微图文层内包括至少6个微图文；在使用状态下，所述微图文层位于微透镜阵列的焦面附近，其特征在于：微透镜阵列层内的各微透镜的中心坐标在微透镜阵列层内随机分布，微透镜阵列层内的微透镜与微图文层内的微图文一一对应设置。本发明利用莫尔放大和微透镜技术，实现了许多独特的视觉效果，减少了工艺流程，除了紫外压印以外，还可在PET、PMMA、PC等有机薄膜材料上直接制作，具有很高的性能。
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公开(公告)号：CN100580544C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100565251C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200710025250.0
申请日：2007-07-20
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 公安部交通管理科学研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。
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公开(公告)号：CN106371218B
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201610970307.3
申请日：2016-10-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置，包括图像生成装置，和对应眼睛的可视镜片，所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜，从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片，所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配，在人眼前方投射出会聚波面，形成虚拟景象；或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加，得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像，形成虚拟景象，其和现实景物在人眼中成像的原理一致，因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。
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公开(公告)号：CN108728790A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201710263831.1
申请日：2017-04-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法，包括步骤：选取导电基板；在导电基板的表面涂布一层光刻胶；使光刻胶光刻出与金属掩膜板的蒸镀孔相对应的光刻胶图形，但光刻出的光刻胶图形的尺寸大于金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸；在带有光刻胶图形的导电基板上进行电铸过生长，使金属材料的生长厚度大于光刻胶图形的厚度，金属材料同时将光刻胶图形的四周边缘覆盖，直至光刻胶图形未被金属材料覆盖的开口区域的尺寸与金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸一致；去除导电基板上残留的光刻胶。上述金属掩膜板的制造方法只需要一次图形光刻和电铸工艺便可加工成型，工艺简单，成本低廉，而且是通过在带有光刻胶图形的导电基板上电铸过生长出金属掩膜板，因此精度更高。
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公开(公告)号：CN107433817A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201610363895.4
申请日：2016-05-27
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: B44C3/02 , B32B17/10 , B32B27/281 , B32B27/36 , B32B27/365
Abstract: 本发明公开了一种装饰薄膜，其包括：基材层；图案层，其设置于基材层的一侧，该图案层上设有均匀排布的微结构单元，相邻微结构单元之间设有间隔区域，该微结构单元上设置浮雕微结构，该浮雕微结构具有复数个定向非周期光栅组线条；黏着层，其相对图案层设置于基材层的另一侧。同时本发明还公开了一种装饰玻璃。与现有技术相比，本发明的装饰薄膜可以获得特殊动态光变色效果，通过在薄膜上形成微结构，从而在宏观效果上具有特殊的视觉效果，应用于产品表面，起到了装饰、品牌保护、成本控制、环保各方面的效果。
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公开(公告)号：CN105489784A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201510906030.3
申请日：2015-12-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用，制备方法包括以下步骤：(1)光掩膜版制备：将导电线栅光刻到光掩膜上；(2)电沉积模具制备：然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光，形成图形化线栅沟槽；(3)电沉积工艺：将金属基板放置于电铸沉积槽中，生成电沉积层；(4)生成柔性导电电极：将金属基板上涂布一层固化胶，柔性衬底覆盖于固化胶上，经过紫外固化后脱模，获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度，具有较高平整表面，制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大，引起背电极与基底相接触，造成短路而损毁，大大提升了使用寿命。
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