-
公开(公告)号：CN107461631A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710781284.6
申请日：2017-09-01
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: F21L4/00 , F21V13/12 , F21V23/00 , F21Y115/10
CPC classification number: F21L4/00 , F21V13/12 , F21V23/00 , F21Y2115/10
Abstract: 本发明提供一种便携式照明装置，包括外壳、电源、光源、漫射板、分光镜；外壳包括容纳腔，容纳腔用于容纳电源、光源、漫射板及分光镜，外壳上开设有透射窗口及反射窗口，且设置有充电接口；电源包括充电电池，通过充电接口进行充电；光源与电源连接；漫射板位于光源的正前方；分光镜安装于透射窗口与反射窗口之间，并与漫射板呈45度夹角。本发明还提供一种识别系统，包括图形标识符、移动终端以及前述便携式照明装置。本发明的便携式照明装置及识别系统能提供同轴光及能利用充电电池进行充电，照明效果好且适用范围广，灵活性高。
-
公开(公告)号：CN105445834B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
-
公开(公告)号：CN106681106A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201710206374.2
申请日：2017-03-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70383 , G03F7/70408 , G03F7/7045
Abstract: 一种混合光刻系统，包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件，光束整形器用于整形光源发出的光束；光场调制器用于将整形后的光束生成图形光；成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻；位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能，可进行混合光刻，提高了纳米光刻效率，推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。
-
公开(公告)号：CN104981356B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280075075.5
申请日：2012-08-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B3/0056 , B42D25/324 , B42D25/342 , B42D25/351 , B42D25/373 , G02B5/18 , G02B5/28 , G02B5/284 , G02B27/12
Abstract: 一种彩色动态放大安全薄膜，包括微透镜阵列层（20）、基材层（21）和微图文层（22）。微图文层由背景区和图文区构成，图文区分布在背景区中。微图文层由上自下依次为半透半反金属层（223）、介质层（230）和金属薄膜层（231）。金属薄膜层为平面结构，图文区的介质层厚度大于背景区的介质层厚度。半透半反金属层厚度一致，在介质层上表面仿形设置，并嵌设在所述基材层的下表面（220）。半透半反金属层、介质层和金属薄膜层构成微腔干涉结构。该彩色动态放大安全薄膜可灵活实现微图文的彩色化输出，可利用压印方式作为大规模快速生产的有效手段，为光学安全薄膜器件提供一种重要的彩色化光学视读方案。
-
公开(公告)号：CN105814402A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201380081848.5
申请日：2013-11-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: G02B21/0032 , G02B21/082 , G02B21/367 , G02B26/0833 , G02B27/58
Abstract: 一种连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统，包括计算机（34）、光源（12）、可变标度的傅立叶变换光路、位相分光器件（9）、双远心投影光学系统（19）、大数值孔径物镜（30）、样品平台（32）和面阵相机，特征为：傅立叶变换光路包括第一傅立叶变换透镜或透镜组（8）与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10），位相分光器件（9）置于两者之间，与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10）之间的距离连续可调，具有绕傅立叶变换光路的光轴旋转的运动自由度。该连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统可灵活实现连续可变空频的干涉条纹，用于共焦显微光学系统的结构光场照明，实现空间超分辨率成像；在纳秒频闪分幅照明模式下，不仅可实现超分辨率显微成像，提升纳米检测可靠性和检测速度，还可进行样品的动态检测分析，实现瞬态纳米结构的检测。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104191825B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201410448548.2
申请日：2014-09-04
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B41M3/148 , B41J2/442 , B41M5/267 , G02B3/0056 , G02B5/128
Abstract: 本发明公开了一种彩色动态图的激光打印装置及方法，其中，彩色动态图的激光打印装置包括：光学系统和记录材料，记录材料包括由多个微球或微透镜形成的折光层、形成于多个微球或微透镜焦面上的遮光层；光学系统包括激光器和图形生成器件，激光器发出的激光经图像生成器件处理后，照射到记录材料上，照射到记录材料上的激光经折光层聚焦在遮光层上，当聚焦的激光的能量大于遮光层的蒸发阈值时，遮光层上相应形成聚焦点。通过本发明的彩色动态图的激光打印装置对激光束入射角度的偏转，在记录材料的焦面上形成不同位置的激光聚焦点，实现不同颜料的热堆积。重复入射角度的偏转，形成多通道颜色图形的激光打印，最终形成彩色多通道动态图像的再现。
-
公开(公告)号：CN103246195B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201310166341.1
申请日：2013-05-08
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种三维激光打印方法与系统，采用四参量连续调制激光打印输出方法制备由按位置坐标排列的具有特定光栅空频和取向角的衍射像素构成的三维图像。衍射像素中光栅条纹参数的调制方法基于4F成像系统与衍射光栅实现，4F成像系统包括第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组，衍射光栅置于第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组之间，通过改变衍射光栅与第一傅立叶变换透镜或透镜组之间的距离，实现光栅条纹的空频的连续调制，通过旋转衍射光栅，实现光栅条纹的光栅取向角的连续调制。本发明实现了光栅空频和取向的连续可调，基于光栅空频和取向连续可变的四参量的微纳结构来编码形成三维彩色图像。
-
公开(公告)号：CN102798918A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
-
公开(公告)号：CN102418302A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: D21H21/48
Abstract: 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
-
公开(公告)号：CN102009517A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN201010287422.3
申请日：2010-09-20
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41C3/08
Abstract: 本发明是一种金属母板的制作方法，该金属母板由至少两片金属子板拼接而成，各该金属子板上具有镭射图像的纹路，该方法主要采用电铸的方式，将至少两块金属子板间的拼缝进行填补，其中在该各片金属子板的拼接边上设有凹凸结构，相邻子板间的凹凸结构相互配合。通过该凹凸结构，既增加了金属子板间的电铸强度，又可以实现简单准确的对位，增加了金属母板的成品质量。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
90
records
(took 0.043 seconds)
