一种无掩膜激光直写叠加曝光方法

    公开(公告)号:CN104298080B

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201410621284.6

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明公开了一种无掩膜激光直写叠加曝光方法,在精密运动平台X方向走位的同时,曝光图形在SLM空间光调制器高度方向上做等像素平移显示,当平台移动距离等于SLM空间光调制器件像素成像平移量时发出曝光信号实现图形与位置的同步曝光。一行曝光完毕后SLM空间光调制器件宽度方向上图像做设定像素的平移显示,同时精密运动平台Y向偏移对应设定像素成像距离,实现高度与宽度方向上两维叠加曝光。本发明叠加曝光方法手段灵活,要获得不同的曝光叠加次数只需更改X方向显示平移量与Y方向叠加次数即可;可方便的实现对曝光计量进行精确控制;图形数据量小,任意次搭接叠加曝光数据量相同。

    并行光刻直写系统
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101846890B

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN201010170978.4

    申请日:2010-05-13

    Abstract: 本发明公开了一种并行光刻直写系统,包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统、运动系统和工件平台,其特征在于:还设有聚焦伺服系统,所述聚焦伺服系统包括检测光路、传感器和调焦装置,所述光学系统由微缩系统和检测光路构成,其中的微缩系统采用双远心光学系统,检测光路包括检测光源、在双远心光学系统内的第一分光器件、在检测光源和第一分光器件间的第二分光器件,检测光经第一分光器件进入双远心光学系统并照射在工件平台处的工件上,反射光经第一分光器件和第二分光器件被传感器接收,控制系统根据传感器的信号控制调焦装置动作,实现伺服聚焦。本发明通过结合聚焦成像伺服系统,可以实现亚微米尺度微结构的精确光刻。

    一种具有动态立体效果的安全薄膜

    公开(公告)号:CN101850680A

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN201010180251.4

    申请日:2010-05-24

    Abstract: 本发明公开了一种具有动态立体效果的安全薄膜,具有微透镜阵列层、基材层、微图文层;微图文层内包括至少6个微图文;在使用状态下,所述微图文层位于微透镜阵列的焦面附近,其特征在于:微透镜阵列层内的各微透镜的中心坐标在微透镜阵列层内随机分布,微透镜阵列层内的微透镜与微图文层内的微图文一一对应设置。本发明利用莫尔放大和微透镜技术,实现了许多独特的视觉效果,减少了工艺流程,除了紫外压印以外,还可在PET、PMMA、PC等有机薄膜材料上直接制作,具有很高的性能。

    一种三维成型装置及方法

    公开(公告)号:CN105619819A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201610090876.9

    申请日:2016-02-18

    Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置,包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构,基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽,分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层,之后涂覆感光材料层,基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材,基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构,控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置,可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤,基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行,提升了工作效率,适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。

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