公开(公告)号：CN100565251C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200710025250.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  公安部交通管理科学研究所

Inventor： 罗俊仪 ,  虞力英 ,  包勇强 ,  邵咏秋 ,  陈林森 ,  周小红 ,  浦东林 ,  叶燕 ,  邵洁 ,  吴智华

IPC: G02B5/18 ,  B42D15/10

Abstract: 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。

公开(公告)号：CN101100156A

公开(公告)日：2008-01-09

申请号：CN200710025250.0

申请日：2007-07-20

Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 ,  公安部交通管理科学研究所

Inventor： 罗俊仪 ,  虞力英 ,  包勇强 ,  邵咏秋 ,  陈林森 ,  周小红 ,  浦东林 ,  叶燕 ,  邵洁 ,  吴智华

IPC: B44F1/12 ,  G06K9/00

Abstract: 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。

公开(公告)号：CN1837992B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200610038418.7

申请日：2006-02-16

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 陈林森 ,  周小红 ,  魏国军 ,  解正东 ,  汪振华 ,  解剑锋 ,  邵洁

IPC: G03H1/04

Abstract: 本发明公开了一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法及其装置，包括下列步骤：(1)制备一种具有正交光点输出的光学元件；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成四束光，经透镜组成像后，在记录材料表面形成干涉条纹单元，所述激光光源采用短相干长度的激光器；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录步骤(2)获得的干涉条纹单元，逐点光刻出点阵素面光栅。本发明大大降低了制作大幅面点阵素面彩虹光变图像的技术要求；同时可以获得不同衍射效果的点阵素面彩虹图像的效果，还可与数字化光变图像相互镶嵌。