一种粗精动叠层工作台
    24.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103383526A

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:CN201310153408.8

    申请日:2013-04-27

    Abstract: 一种粗精动叠层工作台,主要应用于半导体光刻设备中。本发明含有精动台在水平面内X方向、Y方向和绕Z轴旋转的第一种电磁力驱动模块和精动台沿Z方向、绕X轴旋转和绕Y轴旋转的第二种电磁力驱动模块;第一种电磁力驱动模块和第二种电磁力驱动模块均采用四组,四组第一种电磁力驱动模块和四组第二种电磁力驱动模块相间布置。第一种电磁力驱动模块的永磁体、轭铁和永磁体骨架及四组第二种电磁力驱动模块的永磁体、永磁体骨架共同组成精动台的动子部分;四组第一种电磁力驱动模块和四组第二种电磁力驱动模块的线圈和线圈骨架及微动台基座共同组成精动台的定子部分。本发明具有结构更加简单、紧凑、质心驱动和微动台动子惯量小等特点。

    一种光刻机工件台系统

    公开(公告)号:CN103309177A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201310243147.9

    申请日:2013-06-19

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种光刻机工件台系统,包含机架、基台、分别运行于曝光工位和预处理工位的两个硅片台,以及测量光栅、双频激光器、三自由度外差光栅干涉仪和信号接收与处理部件。在每个硅片台四角处各安装一个三自由外差光栅干涉仪,测量光栅安装于硅片台上方的机架上。双频激光器出射的双频正交偏振激光经光纤传输至三自由度外差光栅干涉仪后至测量光栅,测量光栅的四束衍射光回射至三自由度外差干涉仪,最终出射四束测量光信号至信号接收与处理部件。当硅片台相对于测量光栅运动时,利用信号接收与处理部件中的读数通过解算获取硅片台六自由位移。该光刻机工件台系统可提高硅片台的测量精度、动态性能等指标,进而提高光刻机工件台系统整体性能。

    一种测量超声回波飞行时间的方法及设备

    公开(公告)号:CN101655384A

    公开(公告)日:2010-02-24

    申请号:CN200910092564.1

    申请日:2009-09-11

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种测量超声回波飞行时间的方法,该方法采用时间分层内插的方法,第一层采用直接计数法扩大了时间测量范围,而在第二层采用延迟时间内插法,并在拓扑结构上采取全新的二维矩阵方式,将被测飞行时间的计时量化误差再进行两层细分,缩短了延迟线长度,从而提高了延迟线的线性,由于在2-2nd Level采用游标延迟线结构,因此突破了ps级分辨率限制。为了实现该方法,本发明还提供了一套测量设备,该设备由信号收发部分、数字信号处理部分和人机交互部分等组成,能够提供高精度的飞行时间测量结果。

    发光二极管
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112786755B

    公开(公告)日:2023-03-17

    申请号:CN201911089309.1

    申请日:2019-11-08

    Inventor: 张金 魏洋 范守善

    Abstract: 一种发光二极管,包括:一第一半导体层、一活性层、一第二半导体层、一第一电极以及一第二电极,所述第一半导体层具有相对的第一表面及第二表面,所述第一电极设置在所述第一半导体层的第一表面,并与该第一表面直接接触,所述第一半导体层的第二表面与所述活性层接触设置,所述第二半导体层具有相对的第三表面及第四表面,所述第二电极设置在所述第二半导体层的第三表面,并与该第三表面直接接触,所述第二半导体层的第四表面与所述活性层接触设置,所述第一电极为一单根的第一碳纳米管,所述第二电极为一单根的第二碳纳米管,且第一碳纳米管的延伸方向与所述第二碳纳米管的延伸方向交叉设置。

    太阳能电池
    30.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112786715B

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN201911090236.8

    申请日:2019-11-08

    Inventor: 张金 魏洋 范守善

    Abstract: 一种太阳能电池,包括一半导体结构、一背电极以及一上电极,该半导体结构包括一n型半导体层和一p型半导体层,且该n型半导体层和p型半导体层层叠设置,该半导体结构定义一第一表面以及与该第一表面相对设置的第二表面,该背电极设置在半导体结构的第一表面,该上电极设置在半导体结构的第二表面,该背电极为一单根的第一碳纳米管,该上电极为一单根的第二碳纳米管,且该第一碳纳米管的延伸方向与第二碳纳米管的延伸方向交叉设置,在该第一碳纳米管以及第二碳纳米管的交叉点处,在垂直于所述半导体结构的方向上,所述第一碳纳米管、半导体结构以及第二碳纳米管的重叠区域形成一多层结构。

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