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    曝光装置
    22.
    发明授权
    曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN102959470B

    公开(公告)日：2015-09-23

    申请号：CN201180031708.8

    申请日：2011-06-07

    Applicant: 株式会社V技术

    Inventor： 水村通伸 ,  畑中诚

    IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1368

    CPC classification number: G03F7/70275

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其中，形成为能够在与被曝光体的面及光掩模的面平行的面内向箭头(B)方向移动的透镜组装体(11)中，具有将多个单位透镜组装体(11A～11C)以各透镜列(16)的透镜组(15)在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列的方式排列成一列的结构，其中，该多个单位透镜组装体(11A～11C)中，在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列构成为能够将光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到被曝光体表面上的多个透镜组(15)而形成多个透镜列(16)，且多个单位透镜组装体(11A～11C)以使各透镜列(16)的各透镜组(15)与相对于箭头(B)方向倾斜交叉的轴线(O-O)平行地排列的方式将各透镜列(16)在与箭头(B)方向交叉的方向上相互错开固定量而形成，且具有与轴线(O-O)平行地切除相互相邻的端部(11Aa、11Ba、11Bb、11Ca)的结构。由此，以高析像力进行大面积的被曝光体上的非周期性的图案的曝光。

    激光退火方法、装置以及微透镜阵列
    23.
    发明授权
    激光退火方法、装置以及微透镜阵列 失效

    公开(公告)号：CN102844839B

    公开(公告)日：2015-08-26

    申请号：CN201180020284.5

    申请日：2011-04-11

    Applicant: 株式会社V技术

    Inventor： 水村通伸 ,  渡边由雄 ,  畑中诚

    IPC: H01L21/20 ,  H01L21/268

    CPC classification number: H01L21/268 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02691 ,  H01L27/1285

    Abstract: 本发明提供一种激光退火方法、装置以及微透镜，能够以不同于非晶硅膜中的晶体管形成预定区域的间距的较大间距来构成微透镜阵列，又能够以小于微透镜阵列的排列间距的间距来形成通过对非晶硅膜进行激光退火而产生的微小多晶硅膜区域。第1组（11）、第2组（12）以及第3组（13）的微透镜在各组内3列以同一间距P排列，在各组间微透镜则以P＋P/3隔离。在第1工序中，从第1组的3列微透镜照射第一次激光，在第2工序中，在使衬底（20）移动了3P的时刻从2×3列微透镜（5）照射第二次激光，以后同样地以P/3间距形成激光退火区域。

    曝光装置
    24.
    发明授权
    曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN102640058B

    公开(公告)日：2014-10-22

    申请号：CN201080054737.1

    申请日：2010-11-10

    Applicant: 株式会社V技术

    Inventor： 水村通伸 ,  桥本和重 ,  畑中诚

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/70275

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具有：光掩模（10、24），该光掩模形成有与被曝光在TFT用基板（4）的表面上的曝光图案相同形状的掩模图案，该TFT用基板（4）被保持在载物台（8）上；透镜组装体（11、25），该透镜组装体将多个单元透镜组（15、29）排列在与光掩模（10、24）以及被保持在载物台（80）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内，单元透镜组（15、29）是在光掩模（10、24）的法线方向上配置多个凸透镜（14、28）而构成的，能够将形成在所述光掩模（10、24）上的掩模图案的等倍正立像成像在TFT用基板(4)表面上；和移动单元（12、26），该移动单元使得该透镜组装体（11、25）在与光掩模（10、24）以及载物台（8）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内移动。

    曝光装置
    25.
    发明公开
    曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN103415810A

    公开(公告)日：2013-11-27

    申请号：CN201280011253.8

    申请日：2012-02-02

    Applicant: 株式会社V技术

    Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸 ,  畑中诚

    IPC: G03F7/20 ,  G02B13/26 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358

    Abstract: 在曝光装置中，设置有射入透过了光源和掩模的曝光用光，并以具有规定的规则性配置的使正立等倍像在基板上成像的多个微透镜的微透镜阵列。进而，在基板到达了规定位置时，从光源脉冲地照射激光，将基板依次曝光，在基板的曝光对象区域的全域被曝光之后，将微透镜阵列与掩模的相对位置关系，仅以微透镜的行间距，在列方向依次切换，进行下一个顺序的曝光。由此，能以短曝光行程进行高精度且高分辨率的曝光。

    激光退火方法、装置以及微透镜阵列
    26.
    发明公开
    激光退火方法、装置以及微透镜阵列 失效

    公开(公告)号：CN102844839A

    公开(公告)日：2012-12-26

    申请号：CN201180020284.5

    申请日：2011-04-11

    Applicant: 株式会社V技术

    Inventor： 水村通伸 ,  渡边由雄 ,  畑中诚

    IPC: H01L21/20 ,  H01L21/268

    CPC classification number: H01L21/268 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02691 ,  H01L27/1285

    Abstract: 本发明提供一种激光退火方法、装置以及微透镜，能够以不同于非晶硅膜中的晶体管形成预定区域的间距的较大间距来构成微透镜阵列，又能够以小于微透镜阵列的排列间距的间距来形成通过对非晶硅膜进行激光退火而产生的微小多晶硅膜区域。第1组（11）、第2组（12）以及第3组（13）的微透镜在各组内3列以同一间距P排列，在各组间微透镜则以P＋P/3隔离。在第1工序中，从第1组的3列微透镜照射第一次激光，在第2工序中，在使衬底（20）移动了3P的时刻从2×3列微透镜（5）照射第二次激光，以后同样地以P/3间距形成激光退火区域。

    光掩模
    29.
    发明授权
    光掩模 失效

    公开(公告)号：CN102667622B

    公开(公告)日：2014-09-17

    申请号：CN201080057974.3

    申请日：2010-12-13

    Applicant: 株式会社V技术

    Inventor： 水村通伸 ,  畑中诚

    IPC: G03F1/42 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/70283 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50

    Abstract: 本发明提供一种光掩模，具有：在透明基板(4)的下表面(4a)形成有规定形状的多个掩模图案(5)的掩模基板(2)；在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有将多个掩模图案(5)的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜(10)，且在上表面(9b)以使光轴与投影透镜(10)的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于投影透镜(10)的多个向场透镜(11)的微型透镜阵列(3)，以使掩模图案(5)与向场透镜(11)具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合掩模基板(2)与微型透镜阵列(3)。由此，能够提高照射于被曝光体的光的利用效率。

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