薄膜晶体管的制造方法
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1525543A

    公开(公告)日:2004-09-01

    申请号:CN200410008282.6

    申请日:1992-09-25

    Abstract: 一种薄膜晶体管或集成电路,包括一绝缘基片,在该基片上形成的TFTs(薄膜晶体管),以及多层导电互连。该电路具有成为栅电极与栅互连的第一金属化层。第一金属化层的表面经阳极氧化,氧化形成第一金属化表面上的绝缘被覆膜,变成源与漏电极或导电互连的第二金属层于是直接或经过一层间绝缘层形成在绝缘被覆膜上。随之改进成品率及改善可靠性。

    薄膜晶体管的制造方法
    24.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1254951A

    公开(公告)日:2000-05-31

    申请号:CN99120390.9

    申请日:1992-09-25

    Abstract: 一种薄膜晶体管或集成电路,包括一绝缘基片,在该基片上形成的TFTs(薄膜晶体管),以及多层导电互连。该电路具有成为栅电极与栅互连的第一金属化层。第一金属化层的表面经阳极氧化,氧化形成第一金属化表面上的绝缘被覆膜,变成源与漏电极或导电互连的第二金属层于是直接或经过一层间绝缘层形成在绝缘被覆膜上。随之改进成品率及改善可靠性。

    薄膜晶体管的制造方法
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1254947A

    公开(公告)日:2000-05-31

    申请号:CN99120389.5

    申请日:1992-09-25

    Abstract: 一种薄膜晶体管或集成电路,包括一绝缘基片,在该基片上形成的TFTs(薄膜晶体管),以及多层导电互连。该电路具有成为栅电极与栅互连的第一金属化层。第一金属化层的表面经阳极氧化,氧化形成第一金属化表面上的绝缘被覆膜,变成源与漏电极或导电互连的第二金属层于是直接或经过一层间绝缘层形成在绝缘被覆膜上。随之改进成品率及改善可靠性。

    液晶器件基片的制备方法
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1046047A

    公开(公告)日:1990-10-10

    申请号:CN90102570.4

    申请日:1987-08-07

    Abstract: 公开了一种液晶器件基片的制备方法。该液晶器件包括一对基片,在二基片的内侧面上有多个电极条形成一矩阵。在接近基片的外周缘部分对显示器的象素无用的地方也形成电极条。借助于这些多余的电极条可以无需对基片特别注意而把它们连接起来。该方法是用待制成电极条的一导电薄膜涂敷一基片,再用一准分子激光器的激光来割划以形成多个电极条而完成的。

    薄膜晶体管的制造方法
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100388443C

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200410008282.6

    申请日:1992-09-25

    Abstract: 一种薄膜晶体管或集成电路,包括一绝缘基片,在该基片上形成的TFTs(薄膜晶体管),以及多层导电互连。该电路具有成为栅电极与栅互连的第一金属化层。第一金属化层的表面经阳极氧化,氧化形成第一金属化表面上的绝缘被覆膜,变成源与漏电极或导电互连的第二金属层于是直接或经过一层间绝缘层形成在绝缘被覆膜上。随之改进成品率及改善可靠性。

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